TW201323047A - 水處理系統及方法 - Google Patents

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Abstract

在至少一實施例中本發明包含一種水處理系統，其包含：攝入模組、渦流模組、碟片組模組及馬達模組。在另一實施例中，在至少該攝入模組與該渦流模組上方提供外殼，此外殼座落於碟片組模組上方。在至少另一實施例中，該碟片組模組包含具有複數碟片的碟片組渦輪，該複數碟片在其至少一碟片上具有至少一波形。

Description

水處理系統與方法 【交互參考之相關申請案】
本申請案主張2011年8月24申請、案號61/526,834且名為“Water Treatment System and Method for Use in Storage Containers”的美國專利臨時申請案以及2012年2月28日申請、案號61/604,484且名為“Water Treatment System and Method for Use in Storage Containers”的美國專利臨時申請案作為優先權母案，將其包含於此作為參考。
本發明在至少一實施例中係關於一種水處理用之系統與方法。
本發明在至少一實施例中提供一種系統，其包含：馬達模組，具有一基座；碟片組模組，具有與該馬達模組作轉動銜合的碟片組渦輪；渦流模組，與該碟片組渦輪作流體交流；複數導管，為該渦流模組提供入口；及複數支撐元件，連接至該碟片組模組、該渦流模組俾使該渦流模組位於該碟片組模組上方。在另一實施例中，該系統更包含連接至該複數支撐元件之至少一者的外殼蓋件，該外殼蓋件包含容納該渦流模組與該碟片組模組的底部開口與空腔，其中該外殼蓋件與該馬達模組係彼此分隔或者複數開口貫穿其一者或兩者而使得一流體路徑從外部至該外殼蓋件而到達該導管。在上述的任一實施例中，於更一實施例中該系統係安裝於儲水容器中。
在至少一實施例中本發明提供一種系統，其包含：馬達模組，具有一基座；碟片組模組，具有與該馬達模組作轉動銜合的 碟片組渦輪；渦流模組，與該碟片組渦輪作流體交流；定義鄰近該渦流模組之一空間的攝入篩件，或者位於饋送該渦流模組之每一導管上方的攝入篩件；及複數導管，自該渦流模組延伸進入該攝入篩件所定義的該空間。
在至少一實施例中本發明提供一種系統，其包含：馬達模組，具有基座；碟片組模組，具有碟片組渦輪、渦輪外殼與排放外殼，該碟片組渦輪係與該馬達模組作轉動銜合，該渦輪外殼定義了容納該碟片組渦輪的累積室，該排放外殼定義經由排放管道與該累積室作流體交流的排放室以及與該排放室作流體交流的排放出口；渦流模組，與該碟片組渦輪作流體交流；複數導管，自該渦流模組延伸；及定義鄰近該渦流模組與該複數導管的攝入篩件，或者位於饋送該渦流模組之該每一導管上方的攝入篩件。在另一實施例中，該系統更包含至少位於某些元件或實質上位於所有元件上方的外殼。在前述任一實施例下的另一實施例中，該攝入模組包含：具有複數開口的攝入篩件；攝入外殼，定義攝入室；及複數攝入出口，與該攝入室作流體交流且每一該攝入出口係經由一對應導管而與該渦流模組作流體交流。在前述任一實施例下的另一實施例中，該渦流模組包含具有外殼的渦流室及與該渦流室作流體交流的複數入口，該外殼定義具有出口的渦流室且該出口係與該碟片組渦輪軸向對準。在前述任一實施例下的另一實施例中，該馬達模組包含：馬達；及連接至該馬達與該碟片組渦輪的驅動桿軸。在前述任一實施例下的另一實施例中，該碟片組模組包含：渦輪外殼，定義容納該碟片組渦輪的累積室；及排放外殼，定義經由排放管道與該累積室作流體交流的排放室以及與該排放室作流體交流的排放出口。在前述任一實施例下的另一實施例中，碟片組模組更包含與該累積室作流體交流的補充入口。在前兩實施例下的另一實施例中，該排放外殼包含：螺旋突出部，以向下方向朝向該微粒排放口繞行該排放室之壁。在前一實施例下的另一實施例中，該排放出口包含半徑向外擴口壁。在前述任一實施例下的另一實施例中，該碟片組渦輪包含複數非平坦之碟。
在至少一實施例中本發明提供一種系統，其包含：馬達；碟片組模組，具有外殼與碟片組渦輪，該外殼具有空腔而該碟片組渦輪係與該馬達作轉動銜合，該碟片組渦輪係位於該外殼的該空腔內，該碟片組渦輪具有彼此分離的複數碟片且每一碟片具有穿過其中的軸向中央開口，複數開口定義出擴張室的至少一部分；渦流模組，具有與該碟片組渦輪之該擴張室作流體交流的渦流室；複數導管，與該渦流模組的該渦流室作流體交流且自其在該渦流模組上的各別連接點向下延伸；及攝入篩件，鄰近該渦流模組及該複數導管。在另一實施例中，該系統更包含：排放外殼，定義經由排放管道與碟片組外殼空腔(或累積室)作流體交流的排放室以及與該排放室作流體交流的排放出口。在前述任一實施例下的另一實施例中，該外殼中的該空腔包含擴散排放管道，此擴散排放管道從第一點繞行其外圍而到達引領至該排放室的排放通道。在前述任一實施例下的另一實施例中，該外殼的該空腔至少是改良過的花托形、聖甲蟲形或包含黃金分割率之聖甲蟲形。
在至少一實施例中本發明提供碟片組渦輪，此碟片組渦輪具有：上轉子，具有通過其軸向中心的開口；複數碟片，每一者具有通過其軸向中心的開口與以開口為中心的至少一波形；下轉子；及連接該上轉子、該複數碟片及該下轉子的複數翼填隙片。在另一實施例中，該複數碟片中的每一者具有整片實質上均勻的厚度。
在至少一實施例中本發明提供一種方法，其包含：將水上抽至複數導管中；於從該複數導管接收水的渦流室中形成水渦流；自該渦流室將水排放至形成於碟片組渦輪中的擴張室中；將位於該碟片組渦輪之碟片間之空間之間的水自該擴張室導流至圍繞該碟片組渦輪的累積室；使水通過該累積室而到達排放室；及形成向上通過該排放室而回到環境(抽取水之處)中的水的漩渦流以及形成到微粒排放口的微粒及/或沈澱物質的向下流。
下列圖示之敘述將使熟知此項技藝者明白本發明之系統。
圖1-19E顯示根據本發明之例示性實施例。在至少一實施例中所示的系統係用以處理相對無碎片的水例如水儲存容器與系統中的水、池中的水、工業處理系統中的水、冷卻塔與系統中的水、市立及/或水槽供水及井水。在其他實施例中，在水處理系統的攝入口附近加裝額外的過濾結構如篩盒或環及/或過濾材料。雖然本文中所述之非限制性實施例係針對水，但水也可以被理解為例如流體，包含能夠流過系統的液體與氣體。所示的系統包含：容納模組500、攝入模組400、渦流模組100、碟片組模組200與馬達模組300。在至少一實施例中如例如在圖5-8中所示，省略容納模組500。
大部分說明與討論的系統具有類似的操作模式，包含：從自渦流室之上部向下延伸之複數導管將水上抽，在水被排放至碟片組渦輪中的擴張室中之前於渦流室形成水流(在至少一實施例中為渦流)。水被導離擴張室而導入存在於碟片組渦輪之碟片間的空間以行進至圍繞碟片組渦輪的累積室，在累積室處水累積並循環進入引領至排放室的排放管道。在至少一實施例中，排放室形成向上經過排放室而回到環境(抽取水之處)中的水漩渦流以及流至微粒排放口之微粒及/或沈澱物質的向下流。在一些其他的實施例中，操作模式包含：將水抽取至包圍導管與渦流室的外殼中，外殼從渦流室的高度下方例如從碟片組渦輪模組附近抽取水或者自馬達模組之舉升基座的下方抽取水。在前述任一實施例下的另一實施例中，水漩渦流包含由系統所製造並流入含水環境中的大體積漩渦孤立流。
圖1-4顯示容納模組500的實例，其包含覆蓋例如圖4中所示之攝入模組400與渦流模組100的蓋件520，攝入模組400具有攝入篩件425。容納模組500包含如例如圖4中所示之對準與支撐渦流模組100與(在至少一另一實施例中)蓋件520的複數支撐元件525。在至少一實施例中，支撐元件(或凸部)525被包含在碟片組外殼220的上部中(或者連接至例如圖4中所示的支撐錨(或凸 部)524)與其分離而形成例如在圖9A中所示的實質環形圖案(雖然也可以使用其他配置)。或者，支撐元件525固定至例如圖6中所示之支撐板526中的支撐孔524A；但是在另一實施例中，支撐元件525係固定至支撐錨524與支撐孔524A兩者。支撐元件525向上延伸通過渦流外殼120蓋件520上的連接點如安裝耳及/或孔125而止於渦流外殼120或攝入外殼420處。在至少一實施例中，如例如圖4中所示，支撐元件525不會完全延伸上至蓋件520。在另一實施例中，支撐元件525具有複數部分。在至少一實施例中，支撐元件525係利用螺釘、螺絲、黏著劑、互鎖銜合件如螺紋或鎖合的部件而連接至至少一外殼/蓋件。在仍另一實施例中，支撐元件525具有導軌的功能以例如在圖4中所示將渦流模組100降至碟片組模組200，在另一實施例中，蓋件520係連接至支撐元件525的上部或位於其上部附近。
在例如圖1所示的實施例中，蓋件520包含讓排放出口(或排放歧管)232通過的開口521以使水流向上遠離排放出口232。
圖1與2中顯示為了使沈澱固體沈積於系統的外部，蓋件520如何包含貫穿其壁的開口528而讓導管592通過的實例。在另一實施例中導管592行至安裝了系統之水槽的外部點，但在其他實施例中，如何收集後續欲移除之沈澱固體的實例為例如圖2、3與11-13中所示的捕捉(或沈澱收集)容器600或者例如圖14-15B中所示之其他類型的捕捉容器。
在至少一實施例中例如圖4所示的實施例中，容納模組500的蓋件520及馬達模組300定義了讓水經由例如馬達模組基座324而被拉入系統中的入口(或開口)522。在另一實施例中，蓋件520可具有各種其他形狀例如圖中所示的實質盒形、支柱形及實質上的球形。在至少一實施例中，蓋件520讓系統能在比蓋件520之高度更淺的水中進行操作。在至少一實施例中，在水中允許通過例如入口522的更大及更重固體將會掉出蓋件520內的向上水流。水在入口522處(在至少一實施例中提供初步的過濾以避免較大的物質進入系統中)流入並向上流至攝入篩件425。進入攝入篩 件425後的水會進入渦流攝入件(或入口導管)490中，如例如圖4中所示渦流攝入件(或入口導管)490從渦流室130的渦流入口132向下延伸。攝入篩件425基於篩件425中之開口的尺寸而阻擋大於特定尺寸的材料。在另一實施例中，攝入篩件包含底緣附近的O形環以緊靠密封定義了底部空間的板526。如例如圖4-8中所示，板526座落於碟片組模組200的上方。在至少一另一實施例中，板526包含沿著外殼蓋件520密封的墊片，其中外殼蓋件520包含第一篩層以阻擋較大的碎片而讓攝入篩件425阻擋較少的粒子/材料。蓋件的水平橫剖面可具有非圖中所示的其他形式，包含橢圓形、卵形、拋物線形、逗號形及驚嘆號的上部。
雖然在圖4-8中將導管490顯示成管件，但根據本說明書應解，只要導管仍然能提供藉由至少一渦流室入口132將攝入篩件425內的區域連接至渦流室130的通道，其可採用各種形式。在至少一實施例中，導管包含至少一90度的肘部(或彎部)以自渦流入口下彎導管。在另一實施例中，例如如圖7與8中所示，每一導管更具有45度肘部以更進一步地彎折導管而為進入點提供部分垂直的分量。在至少一另一實施例中，每一導管包含45度肘部，此45度肘部在至少一實施例中讓導管能夠接近(或在至少一實施例中齊平)攝入篩件所定義之空間的底部(在圖5中被示為板526)。在至少一實施例中，各對攝入導管490與渦流入口132係整合地一起形成。在至少一實施例中，所示的導管490包含至少一部分為可撓部。在另一實施例中，省略支撐元件524、525，用以替代的是使導管490的底部倚靠支撐板526(或者是，若省略支撐板526，則倚靠碟片組外殼120)，俾使導管490協助支撐渦流模組100至相對於碟片組模組200的定位。
如例如圖4與5中所示，渦流引發室130為形成在渦流模組100之外殼120內部的一空腔，以將流入的水塑造成饋入碟片組模組200的貫穿流渦流。所示的渦流室130包含使水湧至渦流上部134中的結構，渦流上部134具有用以接收水且朝向渦流下部136開口的碗(或改良的凹雙曲線)形，渦流下部136具有類圓錐 (或漏斗)形且在朝向碟片組模組200開口的部分具有陡峭的垂直角度。在至少一實施例中，當水被離心吸力抽取至碟片組模組200中時，渦流室130具有累積、加速、激發及濃縮水的功用。在至少一實施例中，渦流室130係由壁137所形成。如例如圖4中所示，由壁137之側邊所定義的水平面積隨著壁137的側邊自上部沿著垂直下降方向上的長徑向路徑朝向開口138前進而減少。
如在例如圖4與5中所示，渦流模組100的外殼120包含具有罩蓋122與主體124的兩部分配置。罩蓋122與主體124可以各種方式連接，例如利用螺絲、螺釘、黏著劑、互鎖銜合件如螺紋或鎖合的部件、支撐元件526等。在至少一實施例中，當罩蓋122與主體124組裝在一起時會形成渦流入口132。在一替代性的實施例中例如在圖4中將罩蓋122顯示成，具有以罩蓋122之內面上之同心凹陷部1222所形成之渦流室130的上部。罩蓋122與主體124一起形成複數渦流入口132。根據本說明書熟知此項技藝者應瞭解，只要仍能提供可建立渦流的渦流室，渦流外殼可具有不同的外殼元件配置。
主體124被顯示成，具有垂直通過它而形成渦流室130之下部136的通道。在至少一實施例中，主體124係利用如例如圖4中所示用以將罩蓋122連接至主體124的相同支撐元件525而連接至碟片組外殼220。將主體124連接至碟片組模組200的其他實例包含了黏著劑、螺絲及互鎖銜合件如螺紋或鎖合的部件以及摩擦銜合件。在至少一實施例中，主體124座落於碟片組渦輪模組200中及/或其上。
在至少一實施例中，如例如在圖5中所示，當旋轉、向前衝的水經過渦流引發室130的底排放開口138時，在其進入碟片組模組200的旋轉擴張與分配室(或擴張室)252中時會被暴露至壓抑/真空的條件。碟片組模組200包含(或形成)旋轉擴張室252，在至少一實施例中，旋轉擴張室252被顯示成包含彎曲底部的卵形/橢圓形/蛋形腔室，彎曲底部係由包含於碟片組渦輪250之下轉子268中的硬特徵部2522所提供。擴張室252大部分的容積區域係 由分離疊置碟260中的中央孔洞所形成，分離疊置碟260的中央孔洞具有作為疊置碟室262之水入口及分配接口的作用，每一碟室係形成在相鄰的兩碟之間。除了與上轉子264藉由如例如圖17A中所示的彎曲結構鄰接且通過上轉子264的開口之外，擴張室252的上部大致上鏡射下部。如例如圖4與5中所示，該開口位於其上方之渦流引發室出口138的軸向中央而提供一個讓水能通過兩個各別腔室之間的途徑。在至少一實施例中，如例如圖18E所示，擴張室252具有實質上的蛋形。
碟片組渦輪250的一實例係顯示於圖4、5與17A-18E中。所示的碟片組渦輪250包含上轉子264、複數疊置碟片260以及具有徑向凹陷部2522的下轉子268，徑向凹陷部2522提供了擴張室252的底部。所示的下轉子268包含馬達輪轂269，在某些實施例中馬達輪轂269可與下轉子268整合地形成。馬達輪轂269提供介面將碟片組渦輪250耦合至自馬達模組300延伸的驅動桿軸。上轉子264、下轉子268及/或馬達輪轂269係利用軸承元件(或軸襯)280而耦合至外殼220；或者上轉子264、下轉子268及/或馬達輪轂269具有包含於其中的軸承，讓碟片組渦輪250受到驅動桿軸與馬達驅動時，相較於外殼具有實質上較少的轉動摩擦。
自內碟片組室的開口(為碟片260中央的孔洞)朝向碟片室262之外緣行進之水所產生離心吸力建立了主要的動力學，其抽取、加壓、排放來自碟片組渦輪250的流體。相較於迫使水通過及離開碟片組渦輪250，存在於轉動碟表面上的黏滯分子邊界層提供了一些機械性優點。
在至少一實施例中，碟片組渦輪在靠近(或位於)獨立碟片260的外緣處包含了與其分離的複數翼填隙片270(在例如圖6中所示)。在專利申請號為13/213,614且公開成美國專利公開案號2012/0048813的美國專利申請案中提供了翼填隙片的實例，將其包含於此作為翼填隙片270等之參考。在一替代性的實施例中，翼填隙片係鄰近擴張室252並圍繞擴張室252。在至少一實施例中，翼填隙片能在毋需水急轉向或毋需在水中形成空穴現象的情 況下協助產生負壓，並協助水移動至累積室中。
如例如圖4與5中所示，碟片組渦輪250係由碟片組模組200的外殼220固定至定位。外殼220包含累積室230，碟片組渦輪250於累積室230中轉動。在例如圖9A-10B中將累積室230顯示成具有改良過的花托形或聖甲蟲形，其可包含引導至外殼220之外緣上之排放出口232的黃金分割率(golden mean)(或者在一替代性實施例中，其可包含雙曲拋物線橫剖面)。在此所示之實施例中，有一個排放出口232但可增加一或多個排放出口232，在至少一實施例中，複數排放出口232沿著外殼外緣等距分佈。
一旦流體通過了碟片組渦輪250，其會進入到其中有碟片組渦輪250轉動的累積室230中。如例如圖4與5中所示，累積室230是一個在碟片組模組200內的寬敞、特大腔室。累積室230聚集通過碟片組渦輪250後的流體。具有集中混合動作的高度活潑的水平順地轉換成可經由排放出口232在低壓與低線性速度下(在至少一實施例中具有高速，動作中包含微渦流)排放回到其被抽取環境中的狀態。如例如圖4與5，設計累積室230的形狀以使其最短的高度近似於碟片組渦輪250的周長。在最短的高度以上有一個排放管道231，排放管道231引導水繞行至排放出口232且在至少一實施例中提供一個空間以經由如例如圖9A、9C與10A中所示之選擇性的補充入口290來增加累積室230中的水。如例如圖4與5中所示，排放管道231具有實質上橢圓的橫剖面(但也可以具有其他橫剖面)。在至少一實施例中如例如圖9C與10A中所示，累積室壁在接近排放管道231離開累積室230以提供朝向排放室2324行進之通道的位置點處放大至碟片組渦輪250的周長。
所示的外殼220包含上部2202與下部2204，上部2202與下部2204一起形成外殼以及具有實質上繞著累積室230之外緣延伸之排放管道231的所示累積室230。圖9A-9C顯示上部2202而圖10A與10B顯示下部2204。如圖10B中所示，下部2204包含微粒排放口2326，在至少一實施例中微粒排放口2326包含如例如 圖10A中所示的螺旋突出部2327。
圖9A-10B顯示存在於累積室230中以增加位於累積室230中之水量的補充入口290。如所示，就在排放管道231從累積室230延伸離開以使流體流向排放室2324的位置點之後，補充入口290進入累積室230。如圖10B中所示，補充入口290包含彎曲底部2922，當彎曲底部2922自累積室230與補充入口290以逆時鐘方向擴張行進時，其自饋入室292延伸離開而進入排放管道231的起始部中。在至少一實施例中，饋入室292塑造來自補充入口290之水的涵流(including flow)以增加累積室230與排放管道231中之水的逆時鐘流。在至少一實施例中，這是藉由在饋入室292中產生漩渦流所達成。在至少一實施例中，如例如圖1-3中所示，補充入口290包含選擇性的閥件294以控制增加的水準。雖然將閥件294顯示成手動閥，但基於本說明書應瞭解，在至少一實施例中可以電子方式來控制閥件。基於本說明書應瞭解，閥件294可具有各種結構。在一替代性的實施例中，省略補充入口290，就像是其只是所示系統的選擇性元件。
排放出口232包含具有排放室2324的外殼2322，當水向上移動至近乎蛋形的隔間時，排放室2324能更進一步地增加正在被排放的水的旋轉與轉動。在一替代性的實施例中，將排放出口232的輸出導向至另一位置，此另一位置非為系統自其抽取水之處。在至少一實施例中如例如在圖4與5中，外殼2322包含上外殼2322’，上外殼2322’可以是分離的構件或者與外殼2322整合形成而定義用以排放來自系統之水的擴張直徑空腔。排放室2324包含微粒排放口2326，微粒排放口2326連接至如例如圖8所示的導管592以自系統移除在處理期間已從水沈澱的微粒、沈澱物質及/或濃縮固體並在至少一實施例中使其自系統離開。在至少一實施例中如例如圖4與5所示，排放室2324的形狀能促進生成經由微粒排放口2326離開之材料所用的漩渦離開流以及經由排放出口232離開之水用的漩渦離開流，其如圖20A與20B中所示形成複數上浮並自排放出口232離開的漩渦孤立流旋轉並在許多 情況下在其之間維持相對最小的距離。在此實施例中的漩渦孤立流持續在容器中移動直到其被另一物體打斷，此些漩渦孤立流亦會在此容器中受到排放。
在至少一實施例中，排放室2324包含至少一螺旋突出部2325(例如如圖4、5與9C中所示)，其自攝入口2321(或者排放口或者介於來自累積室230的通道與排放室2324之間的接面)(見圖9C)的正上方(或附近)延伸進入排放室2324並向上予以貫穿或者至少到達排放出口232(及/或例如如圖9A中所示的上外殼2322’)以促進水在被排放前進行額外的轉動。在至少一實施例中，螺旋突出部2325延伸向上貫穿排放出口232。在至少一實施例中，從上視可見螺旋突出部2325以逆時鐘方向螺旋向上；然而，基於本說明書應能瞭解，例如當系統是被用於南半球時，螺旋的方向可以是順時鐘方向。
在至少一實施例中，如例如圖10A中所示，排放室2324包含至少一(第二或微粒)螺旋突出部2327，其自攝入口2321的正下方及/或附近向下延伸通過排放室2324而朝向微粒排放口2326前進。當在圖10A中自上方觀察時，螺旋突出部2327以逆時鐘方向螺旋；然而，基於本說明書應能瞭解，例如當系統是被用於南半球時，螺旋的方向可以是順時鐘方向。基於本說明書應瞭解，螺旋突出部2325、2327中的一者或兩者可被用於至少一實施例中。在上述突出部實施例的一替代性的實施例中，藉由形成在排放室壁中的溝槽來取代突出部。
如圖4與5中所示，當排放室接近上外殼2322’時其直徑縮小，上外殼2322’如所示包含向後擴張以抑制經排放的水回到儲槽或其他水源的長半徑。在一替代性的實施例中，長半徑始於排放室2324中的攝入口2321附近。在至少一實施例中的此結構讓水流在分散離開之前，水流能集中收斂。
例如如圖4中所示之系統的基座為馬達模組300，其包含具有向外延伸之基座324的外殼320，基座324具有繞著基座324之外緣離散分佈的複數腳322以提供支撐並在至少一實施例中更 進一步地分散系統的重量以提供穩定性。在至少一另一替代實施例中，腳322係繞著基座324的外緣散佈。在至少一實施例中，基座向外延伸至外殼蓋件520的底部周圍，以在至少一實施例中定義由基座324及外殼蓋件520之內部所形成的空間。馬達外殼320實質上包圍馬達310(未顯示，但在圖4中會存在於標號310之處)；然而如圖4與5中所示，在至少一實施例中有複數個讓水通過並冷卻馬達的開口326。馬達外殼320提供基座，碟片組模組200位於其上並藉由螺釘等連接構件而與其連接。在至少另一實施例中，基座324被包含於容納模組500中而成為其一部分。在至少另一實施例中，省略基座324而馬達係連接至外殼320及/或由外殼320所支撐。在更另一實施例中，以自馬達外殼行至外殼蓋件520的複數水平支撐元件來取代基座324，為外殼蓋件520提供結構支撐並在具有柱腳的實施例中提供讓柱腳322可倚靠之處。
在前述實施例下的另一實施例中，省略外殼蓋件520。圖5-8中顯示了省略外殼蓋件520與攝入篩件425後的系統樣貌實例，在至少一實施例中攝入篩件425可採用圓柱形過濾篩的形式且其可安裝於攝入口490與渦流模組300的上方。對此些圖中所示之系統的一調整為，縮短支撐元件524以在上部為攝入篩件425提供沖洗表面，攝入篩件425可包含一上部，此上部選擇性地的是固體或具有複數貫穿其間的開口，在至少一實施例中複數開口具有實質上與攝入篩件425相同的尺寸。
在另一替代性實施例中，從系統省略攝入篩件425。在省略攝入篩件425的另一替代性實施例中或其他實施例中包含，直接經由複數支撐元件將外殼蓋件520連接至系統，複數支撐元件經由一或多個橫向越過至少兩支撐元件的橫杆而舉升於渦流室上方以提供連接點。
在另一替代性實施例中，省略攝入篩件425並以貫穿外殼蓋件520之攝入開口上的篩件取代之。在另一替代性實施例中，省略攝入篩件425並以連接至入口導管490之每一開口端的濾件取代之。濾件的一實例是具有螺紋基座的篩件，螺紋基座係經田 螺紋連接件而固定至渦流導管。然而，連接濾件的其他方式實例包含壓接、黏著劑、整合至導管中等。
在另一實施例中，外殼蓋件520與攝入篩件425係利用螺紋栓而連接至渦流外殼120的罩蓋122，例如如圖4中所示，螺紋栓係自罩蓋122向上延伸。在另一實施例中，如例如圖1與4中所示，渦流外殼120包含自渦流罩蓋122向上延伸的突部540，渦流罩蓋122包含用以銜合貫穿把手544之螺紋栓542的螺紋開口。
在至少一實施例中，在其與外殼罩蓋520之上部的內部之間對攝入篩件425之上部提供壓縮。在另一實施例中，如例如圖4中所示，攝入篩件425包含開口上部，開口上部包含圍繞上緣的O形環以密封外殼罩件520之上部的內部。在至少一另一實施例中，當系統一開始被置於水中時，把手544亦可提供排氣，或者可沿著外殼520的上部提供分離的閥結構。
在前述任一實施例下另一實施例中，重新排列/重新配置元件以將系統所提供的轉動改變為相反方向，以用於例如南半球。
圖2、3與11-13顯示根據本發明之具有沈澱物收集容器620的不同的選擇性沈澱物收集模組600。圖2-3顯示連接至系統之一實施例之沈澱物收集容器620的實例；然而基於本說明書應瞭解，不同的沈澱物收集模組600可連接至本說明書中所討論之系統的各種實施例。熟知此項技藝者應瞭解，沈澱物收集容器620可具有圖2-3中所示之外的各種形狀與形式但仍提供空腔622以容納例如微粒、沈澱物質及/或濃縮的固體或類似材料以及篩過的排放物(或篩件)624例如顯示於出口626上者。在一替代性的實施例中，舉升部為在例如圖14中所示之自剩餘的沈澱物收集容器620C向上伸延的較高管線結構(或豎板)626C。在圖11-13所示的實施例中，包含篩件624以允許至少部分的水通過並同時避免材料通過而回到已處理過的水中。
圖11-13顯示沈澱物收集容器620之例示性實施例的橫剖面圖，其中橫剖面係沿著圖3中的11-11所取。圖11-13顯示位於沈澱物收集容器620之一端的入口621，篩件624及/或出口626 係位於沈澱物收集容器620的相反端。基於本說明書應瞭解，可省略在蓋件628上方延伸的出口626。圖11顯示具有入口621的沈澱物收集容器620，導管592連接並貫穿入口621以將流體路徑提供至空腔622中，以在沈澱物收集容器620的底部累積材料並同時讓水經由例如篩件624(被顯示為出口626的一部分)自沈澱物收集容器620離開。基於本說明書應瞭解，導管592(雖然顯示延伸至空腔622中)可具有空腔622外的連接點，例如經由軟管連接件或其他機械銜合件。圖11亦顯示沈澱物收集容器620的更一選擇性實施例，在此實施例中沈澱物收集容器620包含罩蓋628，罩蓋可被移除以自沈澱物收集容器620移除已收集之材料。圖12顯示具有空腔622A之底部6222A之沈澱物收集容器620A的另一實施例，底部6222A以些微的梯度從入口621朝向出口626向下延伸。圖13顯示來自圖12的實施例，其中沈澱物收集容器620B包含自入口621之對向壁延伸進入空腔622B中的的額外篩突出部(或壁)。雖然將篩突出部623顯示成以一角度延伸，但其亦可以是實質上水平的。篩突出部623具有額外的材料障蔽的功能，避免材料離開沈澱物收集容器620。
圖14顯示包含入口621之另一沈澱物收集容器620C，入口621可具有上面針對入口所討論的形式。應瞭解，可添加額外的入口以容納額外的導管，或者入口可包含歧管連接件以連接複數導管。所示的沈澱物收集容器620C更包含罩蓋628C，罩蓋628C上是沿著其上表面具有篩件624C的豎板626C，使得水流從上經過豎板626C而通過沈澱物收集容器620C並同時將材料收集於裝置內。沈澱物收集容器620C的內部中亦可具有圖11-13所討論的各種內部配置。
圖15A與15B顯示內部具有漩渦室622D的漏斗狀沈澱物收集容器620D。類似於前述的實施例，沈澱物收集容器620D包含用以連接至導管的入口621D。應瞭解，可增加額外的入口以容納額外的導管或者入口可包含用以連接至複數導管的歧管連接件。所示的沈澱物收集容器620D包含罩蓋628D，罩蓋628D上 的豎板626D向上延伸，使得水流通過沈澱物收集容器620D並同時將材料收集於裝置內。具有自其底部延伸之微粒口629D之空腔622D的漏斗形促進旋渦的形成，旋渦會將存在於空腔622D中的任何材料拉入向下流中，以將向下流由微粒口洩流另一空腔或者將向下流洩流出系統正在運作的環境。在另一實施例中，微粒口629D包含閥件，閥件可開啟以排出空腔622D中已收集的任何材料，上述動作可以是利用系統中的水將材料沖出微粒口629D之沖洗作業的一部分。圖19顯示安裝於儲水槽中之沈澱物收集容器620D的一實例，其中微粒口629D貫穿儲水槽的底部。在另一實施例中，複數的入口621D與豎板626D以交替方式平均分散於蓋件620D之上。在仍另一實施例中，入口621D及/或豎板626D相對於蓋件628D呈現一角度。圖15A與15B亦顯示具有複數腳627D以部分穩定沈澱物收集容器620D的沈澱物收集容器620D的另一實施例。
在前述沈澱收集容器實施例之下的另一實施例中，空腔中有與導管作流體交流的分散器，以分散進入空腔的水與材料使其遠離可以其他方式存在之任何材料的直接流。分散器的實例為一種自其輸入側朝向其輸出側擴張的結構，其可以是篩或其他大開口的篩件，可以是鋼絲絨或具有大孔洞的其他類似材料。
在另一實施例中，沈澱收集容器可被形成於環境中的低流區如水槽所取代，自此低流區可汲取水。
圖16A-16C顯示替代性的翼填隙片、複數間隙件274N及連接兩者並為間隙件274N提供對準之六角支撐元件276M。間隙件274N包含貫穿其之六角開口以允許其滑移至支撐元件276N上方。碟片260N包含複數六角開口2602N。支撐元件276N在上轉子與下轉子之間延伸且在至少一實施例中利用螺絲或螺釘而連接至轉子。基於本說明書，熟知此項技藝者應瞭解，支撐元件的橫剖面可採用不同的形式但仍能提供間隙件274N相對於碟片260N的對準。
在前述至少一實施例下的另一實施例中，碟片組渦輪包含複數碟片，碟片本身具有如圖17A-18E中所示的波形。雖然所示的波形要不是同心圓(圖17A與17B)便是雙軸圖案(圖18A-18E)，應瞭解波形亦可以是正弦曲線、雙軸波狀環形(sinucircular)、一系列互連的扇貝形、一系列互連的弓形、雙曲線及/或包含此些形狀之組合的多軸形狀，以致於當其轉動提供行進時，具有波形的碟管道會實質上位於擴張室之中央。各別碟片的形狀會定義波形，產生此些波形的一種方式是壓印用以製造碟片的金屬以提供所欲之形狀。製造的其他實例包含加工、鑄造(冷或熱)、射出成型、模造、鑽心及/或各別碟片之塑膠碟片的電鍍。所示的波形碟包含繞著其周邊設置的凸緣2608，以針對用以建構特定碟片組渦輪之翼填隙片270提供連接點。在另一實施例中，省略翼填隙片並藉由下列者來取代之：例如壓印(或製造、模造或鑄造)的特定結構，其能提供用以軸向及/或外緣地連接至鄰近碟片或轉子的輪廓。
在許多實施例中，碟片具有小於5毫米、小於4毫米、小於3毫米、小於及/或等於2毫米以及小於及/或等於1毫米的厚度，碟室的高度則取決於實施例可具有約1.3 mm、介於1.3 mm與2.5 mm、小於或或至少1.7 mm、介於1.0 mm與1.8 mm、介於2.0 mm與2.7 mm、約2.3 mm、高於2.5 mm、及高於至少2.7 mm的高度。基於本說明書應瞭解，只要能夠讓用於所示的系統中的碟片組渦輪能夠組裝，可使用各種其他的碟片厚度及/或碟室高度。在至少一實施例中，在兩相鄰疊套波形碟片之間之碟室的高度是不均勻的。在仍另一實施例中，當翼填隙片係位於中央開口附近時，在作業期間碟室高度是可變的。
圖17A-18E顯示分別包含上轉子264X與下轉子268X的碟片組渦輪250X與250Y，上轉子264X與下轉子268X具有面對碟片260X、260Y所在區域之實質上平的銜合表面(除了擴張室元件外)。在圖18E中所示的另一實施例中，碟片組渦輪包含上轉子264Y與下轉子268Y且在兩者的外緣與擴張室結構之間具有開放 區域以允許波形流入轉子空腔中，藉此能夠堆疊更多的碟，使得對特定的碟片組渦輪高度而言產生較高的波形碟密度，在此情況下省略被顯示為轉子264Y、268Y之開放區域上方之蓋件的實質平坦碟片260Y’。圖18E亦顯示另一實施例，其中有實質上平坦碟片260Y’與疊套波形碟片260Y的混合體。圖17A-18E顯示波形如何在每一下碟片中包含厚度降低的波。在至少一實施例中，波形淺得足以讓相鄰的碟片上具有實質上相同尺寸的波形。
圖17A顯示環形波形碟片組渦輪250X之實例的側視圖。圖17B顯示沿著碟片組渦輪250X之直徑所取的橫剖面並且顯示碟片260X的視圖。每一環形波形係以擴張室252X為中央。所示的環形波形包含兩個脊部2603X及三個谷部2604X。基於本說明書應瞭解，脊部與谷部的數目可以相反，但是受到其徑向深度以及擴張室250X與凸緣2608間之距離的限制，其任何數目應大於1。
圖18A顯示不具上轉子264X之碟片組渦輪250Y的上視圖以顯示雙軸波形2602Y，但圖18B-18E提供碟片組渦輪250Y的額外視圖。圖18A-18E的顯示說明波形舉升至碟上方但不會下降至表面下方(或者反之亦然)。所示的雙軸波形2602Y包含以擴張室252Y為中心的兩個脊部2603Y及一個谷部2604Y。基於本說明書應瞭解，脊部與谷部的數目可以相反，但是受到其徑向深度以及擴張室252Y與凸緣2608間之距離的限制，其任何數目應大於1。圖18B顯示堆疊在一起之三個波形碟260Y的側視圖，但未顯示翼填隙片270或轉子264X、268X。圖18C顯示碟片組渦輪250Y的部分剖面圖。圖18D顯示已組裝之碟片組渦輪250Y的側視圖。圖18E顯示沿著碟片組渦輪250X之直徑所取的橫剖面圖並顯示碟片260Y之視圖。
在前述任一實施例下的另一實施例中，重新排列/重新配置元件以將系統所提供的轉動改變為相反方向，以用於例如南半球。
圖19顯示安裝於儲水槽910中之系統的另一實施例，將其部分裁切掉以顯示儲水槽內的情況。所示的系統包含容納模組 500、前述實施例的攝入模組400(未顯示)、碟片組模組200(未顯示)及渦流模組100(未顯示)。
在另一實施例中，系統包含外部A/C馬達，A/C馬達經由驅動系統如間接驅動連鎖來驅動碟片組渦輪，間接驅動連鎖例如是但不限制為一或多個皮帶(例如O形環)或皮帶外殼中的傳動連鎖，皮帶外殼貫穿儲水壁912並提供一個隔室連接驅動桿軸與馬達驅動桿軸，其中驅動桿軸係連接至外殼中之碟片組渦輪。替代性的實施例將馬達外殼置於儲水槽910的外部，因此馬達不需是潛水馬達。若系統包含複數皮帶且來自馬達的驅動桿軸包含複數齒輪，選擇皮帶的尺寸以預定的設定速度來驅動碟片組渦輪。或者，銜合碟片組渦輪的驅動桿軸除了外部的驅動桿軸外可包含齒輪或者以齒輪來取代外部的驅動桿軸。
在至少一實施例中，皮帶外殼係由墊片所密封及固定位置，墊片緊密地圍繞貼合皮帶外殼並與形成於儲水槽壁912中的挖空部(或其他開口)銜合。墊片連接為儲水槽內的系統提供優異的定位點。
在另一實施例中，導管592經由具有墊片的孔洞而在儲水槽內部處進入皮帶外殼中並在儲水槽外部處自皮帶外殼離開。
圖19中亦顯示的是先前參考圖15A與15B所討論之微粒收集容器620D的實例。圖19顯示微粒口629D如何穿過槽910的底部914。
在另一實施例中，系統包含能控制系統操作的控制器。上述馬達模組可設有各種操作、控制及處理監測結構。實例包含開關(二元及變數)、位於馬達模組內之電腦控制的或內建的控制器。內建控制器的實例包含特徵應用積體電路、類比電路、處理器或其組合。在至少一實施例中控制器藉由訊號來控制馬達或者直接控制提供予馬達的電源。在至少一實施例中程式化控制器以從處理開始後基於日期/星期/月/年的時間或者時間長度來控制馬達的RPM轉速，在其他的實施例中，控制器回應一或多個特徵值以決定馬達運作的速度。在另一實施例中，在已經將水加入儲槽後控 制器才運作一段預定的時間。在另一實施例中，控制器亦控制閥件294的運作。
在至少一實施例中，控制器監測電壓、電流安培數、功率瓦數、運作時數(目前運作的期間及/或總運作時間)及馬達速度(每分鐘的轉數(RPM))中的至少一者以決定提供至馬達用於運作的功率適當位準及/或調整馬達的速度。輸入參數的其他實例包含化學需氧量(COD)、生化需氧量(BOD)、pH值、ORP、溶氧量(DO)、受約束的氧及元素的其他濃度及/或其缺乏程度，讓控制器自動調整運作速度與運作次數而回應之。
將根據本發明至少一實施例所建造之使用排放出口的原型設備置於具有至少100加侖容量及實質上裝滿水的儲槽內，這會使得系統整個沒入水中。系統啟動時周遭置有潛水燈，潛水燈瞄準排放口以捕捉圖20A與20B中所示的影像，兩者的影像都被放大相同的倍數且光皆來自影像的右側。這些影像是利用微鏡頭以慢動作攝影所拍攝。圖20A顯示自排放出口所排放出的漩渦孤立流相較於成人手指大小的相對尺寸。當漩渦孤立流在水中向上及向下移動時，其旋轉並繞著其中心轉動。根據圖20A與20B中所示影像所代表的捕捉影片，漩渦孤立流呈現為旋轉與移動的實質上平坦的旋渦碟。影像包含無數對剛從排放出口232排放出來並在容納環境內的水中完全飽和的漩渦孤立流，且每一孤立流持續存在直到其能量因與固體邊界或阻礙接觸而消耗怠盡。雖然水中具有飽和之此些旋轉能量的漩渦封套，但在一對中每一孤立流皆與另一孤立流維持相對的分離距離而不與另一孤立流碰撞。從影片回顧，當孤立流對一邊轉彎並旋轉而行進通過水環境時，孤立流對看起來彼此完全亦步亦趨。一般相信，由於此些漩渦孤立流將會持續其各自的路徑直到其受到其他物件如容器室壁或其他結構的干擾為止，因此水的此重組讓其部分地影響了系統運作周圍的大體積水體。
然而應瞭解，本發明可以許多方式體現之，因此不應被解讀為限制至文中所述之實施例與原型實例；相反地，本文中所述 之實施例是讓揭露詳細完整並讓熟知此項技藝者能全完瞭解本發明的範疇。隨附之圖示說明了根據本發明的實施例。
上文中所用的「實質上」、「一般而言」及程度相關的其他字辭皆為相對性的修飾語，意在代表自其特性如此修改之可允許的變形。其意不在限制至其修改的絕對值或特性，而是處理更多的物理或功能特性而非相反，較佳地接近或趨近此物理或功能特性。「實質上」亦用來反應製造元件時所存在的製造容裕。
上述說明敘述了實施例中的不同元件與其他元件「流體交流」。「流體交流」包含流體自一元件/腔室移動至另一元件/腔室的能力。
基於本說明書，熟知此項技藝者應瞭解，使用「相同」、「一致」及其他類似的字辭包含了能反應出此類型產品之通常容裕之製造期間發生的差異。
熟知此項技藝者應瞭解，在不脫離本發明之範疇與精神的情況下可思及上述例示性與替代性實施例的各種改編與修改。因此應瞭解，在隨附之申請專利範圍的範疇下可以本文中未明確揭露的方式來施行本發明。
100‧‧‧渦流模組
120‧‧‧渦流外殼
122‧‧‧罩蓋
124‧‧‧主體
125‧‧‧安裝孔
130‧‧‧渦流引發室
132‧‧‧渦流室入口
134‧‧‧渦流上部
136‧‧‧渦流下部
137‧‧‧壁
138‧‧‧開口
200‧‧‧碟片組模組
220‧‧‧外殼
230‧‧‧累積室
231‧‧‧排放管道
232‧‧‧排放出口
250‧‧‧碟片組渦輪
250X‧‧‧碟片組渦輪
250Y‧‧‧碟片組渦輪
252‧‧‧擴張室
252X‧‧‧擴張室
252Y‧‧‧擴張室
260‧‧‧分離疊置碟片
260N‧‧‧碟片
260X‧‧‧波形碟
260Y‧‧‧波形碟
260Y’‧‧‧平坦碟片
262‧‧‧疊置碟室
264‧‧‧上轉子
264X‧‧‧上轉子
264Y‧‧‧上轉子
268‧‧‧下轉子
268X‧‧‧下轉子
268Y‧‧‧下轉子
269‧‧‧輪轂
270‧‧‧翼填隙片
274N‧‧‧間隙件
276N‧‧‧支撐元件
276M‧‧‧支撐元件
280‧‧‧軸承元件(或軸襯)
290‧‧‧補充入口
292‧‧‧饋入室
294‧‧‧閥件
300‧‧‧馬達模組
310‧‧‧馬達
320‧‧‧馬達外殼
322‧‧‧腳
324‧‧‧基座
326‧‧‧開口
400‧‧‧攝入模組
420‧‧‧攝入外殼
425‧‧‧攝入篩件
490‧‧‧導管
500‧‧‧容納模組
520‧‧‧蓋件
521‧‧‧開口
522‧‧‧入口
524‧‧‧支撐錨(或凸部)
524A‧‧‧支撐孔
525‧‧‧支撐元件
526‧‧‧支撐板
528‧‧‧開口、(洩氣閥)
540‧‧‧突部
542‧‧‧螺紋栓
544‧‧‧把手
592‧‧‧導管
600‧‧‧容器
620‧‧‧沈澱物收集容器
620A‧‧‧沈澱物收集容器
620B‧‧‧沈澱物收集容器
620C‧‧‧沈澱物收集容器
620D‧‧‧沈澱物收集容器
621‧‧‧入口
621D‧‧‧入口
622‧‧‧空腔
622A‧‧‧空腔
622B‧‧‧空腔
622D‧‧‧漩渦室
623‧‧‧篩突出部
624‧‧‧篩過的排放物(或篩件)
624C‧‧‧篩件
626‧‧‧出口
626C‧‧‧較高管線結構(或豎板)
626D‧‧‧豎板
627D‧‧‧腳
628‧‧‧蓋件
628C‧‧‧蓋件
628D‧‧‧蓋件
629D‧‧‧微粒口
910‧‧‧儲水槽
912‧‧‧儲水壁
1222‧‧‧同心凹陷部
2202‧‧‧上部
2204‧‧‧下部
2321‧‧‧攝入口
2322‧‧‧外殼
2322’‧‧‧上外殼
2324‧‧‧排放室
2325‧‧‧螺旋突出部
2326‧‧‧微粒排放口
2327‧‧‧螺旋突出部
2522‧‧‧徑向凹陷部
2602N‧‧‧六角開口
2602Y‧‧‧雙軸波形
2603X‧‧‧脊部
2603Y‧‧‧脊部
2604X‧‧‧谷部
2604Y‧‧‧谷部
2608‧‧‧凸緣
2922‧‧‧彎曲底部
6222A‧‧‧底部
參考附圖說明本發明。在圖示中，類似的標號係用以代表相同或功能類似的元件。在圖示內使用斜影線(或不使用斜影線)及陰影並非是為了要限制可用來製造本發明的材料類型。
圖1顯示根據本發明之一實施例的透視圖。
圖2與3根據本發明之包含選擇性之沈澱物收集容器(或捕捉盆)之另一實施例的不同外部圖。
圖4顯示圖3中沿著4-4所取的橫剖面。
圖5顯示圖3中沿著4-4所取的橫剖面但其說明了省略了根據本發明一實施例之外殼時的根據本發明的一實施例。
圖6-8顯示圖5中所示之實施例的不同側視圖及/或透視圖。
圖9A-9C顯示上碟片組渦輪外殼的視圖，包含上視圖、橫剖面圖與下視圖。
圖10A與10B顯示下碟片組渦輪外殼的視圖，包含上視圖與側視圖。
圖11-13顯示根據本發明之不同沈澱物收集容器之實施例在圖3中沿著11-11所取的橫剖面。
圖14顯示根據本發明之另一沈澱物收集容器之實施例。
圖15A與15B顯示根據本發明之另一沈澱物收集容器之實施例。
圖16A顯示安裝在部分碟片組中之替代翼填隙片。圖16B顯示圖16A中所示之翼填隙片之支撐元件的側視圖。圖16C顯示圖16A中所示之翼填隙片之支撐元件的上視圖。
圖17A與17B顯示根據本發明至少一實施例之波形碟片組渦輪的實例。
圖18A-18E顯示根據本發明至少一實施例之波形碟片組渦輪的實例。
圖19顯示根據本發明之另一實施例。
圖20A與20B之示意圖顯示離開根據本發明至少一實施例所建構之排放出口後的水。
100‧‧‧渦流模組
120‧‧‧渦流外殼
122‧‧‧罩蓋
124‧‧‧主體
130‧‧‧渦流引發室
132‧‧‧渦流室入口
134‧‧‧渦流上部
136‧‧‧渦流下部
137‧‧‧壁
138‧‧‧開口
200‧‧‧碟片組模組
220‧‧‧外殼
230‧‧‧累積室
231‧‧‧排放管道
232‧‧‧排放出口
250‧‧‧碟片組渦輪
260‧‧‧分離疊置碟片
262‧‧‧疊置碟室
264‧‧‧上轉子
268‧‧‧下轉子
269‧‧‧輪轂
270‧‧‧翼填隙片
280‧‧‧軸承元件
300‧‧‧馬達模組
310‧‧‧馬達
320‧‧‧馬達外殼
322‧‧‧腳
324‧‧‧基座
326‧‧‧開口
400‧‧‧攝入模組
425‧‧‧攝入篩件
490‧‧‧導管
500‧‧‧容納模組
522‧‧‧入口
524‧‧‧支撐錨(或凸部)
525‧‧‧支撐元件
526‧‧‧支撐板
540‧‧‧突部
544‧‧‧把手
2322‧‧‧外殼
2322’‧‧‧上外殼
2324‧‧‧排放室
2325‧‧‧螺旋突出部
2327‧‧‧螺旋突出部
2522‧‧‧徑向凹陷部

Claims (41)

  1. 一種水或其他流體之處理系統，包含：一馬達模組，具有一基座；一碟片組模組，具有與該馬達模組作轉動銜合的一碟片組渦輪；定義容納該碟片組渦輪之累積室的一渦輪外殼；及一排放外殼，定義經由排放管道與該累積室作流體交流之一排放室以及與該排放室作流體交流的一排放口；一渦流模組，與該碟片組渦輪作流體交流；複數導管，自該渦流模組延伸；及定義鄰近該渦流模組與該複數導管之空間的一攝入篩件或者位於饋送該渦流模組之每一導管上方的一攝入篩件。
  2. 如申請專利範圍第1項之水或其他流體之處理系統，其中該複數導管的每一者定義了自該攝入篩件所定之該空間之底部附近向上延伸至渦流室入口的通道。
  3. 如申請專利範圍第1項之水或其他流體之處理系統，其中該複數導管的每一者包含複數彎折。
  4. 如申請專利範圍第3項之水或其他流體之處理系統，其中該彎折包含至少一90度彎折與一45度彎折。
  5. 如申請專利範圍第1項之水或其他流體之處理系統，更包含實質上罩覆該攝入篩件與該馬達模組的外殼。
  6. 如申請專利範圍第1項之水或其他流體之處理系統，更包含實質上罩覆該攝入篩件、該碟片組模組與該馬達模組的外殼。
  7. 如申請專利範圍第1項之水或其他流體之處理系統，更包 含連接至該碟片組模組與該渦流模組的複數支撐元件。
  8. 如申請專利範圍第7項之水或其他流體之處理系統，更包含一外殼蓋件，連接至該複數支撐元件的至少一者，該外殼蓋件包含一下開口、以及容納該攝入模組與該渦流模組的一空腔；且其中該外殼蓋件與該碟片組模組的上表面彼此分離而形成與該下開口作流體交流的通道，且其中一流體路徑係自該開口經過該通道與該空腔而到達該攝入模組。
  9. 如申請專利範圍第1項之水或其他流體之處理系統，其中該渦流室包含：定義渦流室的一外殼，此渦流室具有與該碟片組渦輪軸向對準的一出口；及與該渦流室作流體交流的複數入口。
  10. 如申請專利範圍第1項之水或其他流體之處理系統，其中該馬達模組包含：一馬達；及連接至該馬達與該碟片組渦輪的一驅動桿軸。
  11. 如申請專利範圍第1項之水或其他流體之處理系統，其中該排放管道圍繞該累積室的實質部分。
  12. 如申請專利範圍第1項之水或其他流體之處理系統，其中該碟片組模組更包含與該累積室作流體交流的一補充入口。
  13. 如申請專利範圍第12項之水或其他流體之處理系統，其 中該補充入口包含一閥件與一入口饋送室，俾使一流體路徑能夠自該閥件的入口經由該入口饋送室而進入該累積室與該排放管道的至少一者中。
  14. 如申請專利範圍第1-13項中任何一項之水或其他流體之處理系統，其中該排放外殼包含以向上方向朝向該排放出口繞行該排放室之壁的一螺旋突出部。
  15. 如申請專利範圍第1-13項中任何一項之水或其他流體之處理系統，其中該排放外殼包含自該排放室之底部延伸的一微粒排放口。
  16. 如申請專利範圍第15項之水或其他流體之處理系統，其中其中該排放外殼包含以向下方向朝向該微粒排放口繞行該排放室之壁的一螺旋突出部。
  17. 如申請專利範圍第16項之水或其他流體之處理系統，更包含與該微粒排放口作流體交流的一微粒導管。
  18. 如申請專利範圍第17項之水或其他流體之處理系統，其中所連接之該微粒導管通過該外殼蓋件中的一墊片。
  19. 如申請專利範圍第1-13項中任何一項之水或其他流體之處理系統，其中該排放出口包含半徑向外擴張壁。
  20. 如申請專利範圍第1-13項中任何一項之水或其他流體之處理系統，其中該碟片組渦輪包含複數非平坦的碟片。
  21. 如申請專利範圍第1-13項中任何一項之水或其他流體之處理系統，其中該碟片組渦輪包含複數碟片，每一該碟片在該碟 片的中央與該碟片的外圍之間至少具有兩波形。
  22. 如申請專利範圍第21項之水或其他流體之處理系統，其中該波形係選自由下列者所構成的族群：正弦曲線、雙軸波狀環形、一系列互連的扇貝形、一系列互連的弓形、雙曲線及/或包含此些形狀之組合的多軸形狀。
  23. 如申請專利範圍第21項之水或其他流體之處理系統，其中該碟片組渦輪包含連接至該等碟片的複數翼填隙片。
  24. 如申請專利範圍第1-13項中任何一項之水或其他流體之處理系統，其中該碟片組渦輪包含一上轉子與一下轉子。
  25. 如申請專利範圍第24項之水或其他流體之處理系統，其中該上轉子與該下轉子包含複數空腔。
  26. 一種碟片組渦輪，包含：一上轉子，具有貫穿其軸向中心的開口；複數碟片，每一碟片具有貫穿其軸向中心的開口以及以該開口為中心的至少兩波形；一下轉子；及複數翼填隙片，連接該上轉子、該複數碟片、及該下轉子。
  27. 如申請專利範圍第26項之碟片組渦輪，其中該每一碟片的厚度及/或相鄰該碟片間之空間的高度係小於2.5 mm。
  28. 如申請專利範圍第26項之碟片組渦輪，其中該複數碟片中的每一者皆具有實質上整片均勻的厚度。
  29. 如申請專利範圍第26-28項中任何一項之碟片組渦輪，其 中該波形包含至少一脊部與至少一管道。
  30. 如申請專利範圍第26-28項中任何一項之碟片組渦輪，其中該波形包含至少一環形及/或至少一雙軸波形。
  31. 如申請專利範圍第26-28項中任何一項之碟片組渦輪，其中該波形包含下列者的至少一者：正弦曲線、雙軸波狀環形、一系列互連的扇貝形、一系列互連的弓形、雙曲線及/或包含此些形狀之組合的多軸形狀。
  32. 如申請專利範圍第26-28項中任何一項之碟片組渦輪，其中相鄰的該碟片疊套在一起。
  33. 一種水或其他流體之處理系統，包含：一馬達；一碟片組模組，具有一外殼，具有一空腔，及一碟片組渦輪，與該馬達作轉動銜合，該碟片組渦輪係位於該外殼的該空腔內，該碟片組渦輪具有彼此分離的複數碟片且每一碟片具有穿過其中的軸向中央開口，該複數開口定義出一擴張室的至少一部分；一渦流模組，具有與該碟片組渦輪之該擴張室作流體交流的一渦流室；複數導管，與該渦流模組的該渦流室作流體交流且自該渦流模組上的其各自連接點向下延伸；及一攝入篩件，鄰近該渦流模組與該複數導管。
  34. 如申請專利範圍第33項之水或其他流體之處理系統，更包含：複數支撐元件，連接至該碟片組模組與該渦流模組。
  35. 如申請專利範圍第33項之水或其他流體之處理系統，更包含定義了一排放室與一排放出口的一排放外殼，該排放室係經由一排放管道而與該碟片組外殼的該空腔作流體交流，該排放出口係與該濃縮室作流體交流。
  36. 如申請專利範圍第33-35項中任何一項之水或其他流體之處理系統，其中該外殼之該空腔包含沿著其外圍自第一點行至引領至該排放室之一排放通道的一擴張排放管道。
  37. 如申請專利範圍第33-35項中任何一項之水或其他流體之處理系統，其中該外殼的該空腔是改良過的花托形、聖甲蟲形、或包含黃金分割率之聖甲蟲形中的至少一者。
  38. 如申請專利範圍第33-35項中任何一項之水或其他流體之處理系統，其中該複數導管中的每一者皆包含該碟片組模組上方的攝入件。
  39. 一種水或其他流體之處理方法，包含下列步驟：將水上抽至複數導管中；於從該複數導管接收水的渦流室中形成水渦流；自該渦流室將水排放至形成於碟片組渦輪中的擴張室中；將位於該碟片組渦輪之碟片間之空間之間的水自該擴張室導流至圍繞該碟片組渦輪的累積室；使水通過該累積室而到達排放室；及形成向上通過該排放室而回到抽取水之環境中的水的漩渦流以及形成到排放口的固體的向下流。
  40. 如申請專利範圍第39項之水或其他流體之處理方法，更包含： 將水抽取至包圍該複數導管與該渦流室的外殼中，該外殼從低於該渦流室之高度之處抽取該水。
  41. 如申請專利範圍第39或40項之水或其他流體之處理方法，其中該水的該漩渦流包含複數漩渦孤立流，此些漩渦孤立流會流入包含該水的該環境中。
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