TW201314330A - 顯示面板 - Google Patents

Abstract

一種顯示面板，包括一第一基板結構、一第二基板結構與第一基板結構面對設置、複數個光阻間隙物位於第一基板結構與第二基板結構之間，以及一顯示介質位於第一基板結構與第二基板結構之間。第一基板結構包括一第一電容補償電極與第二電容補償電極，分別與對應之閘極線電性連接，以及一第一汲極延伸部與一第二汲極延伸部分別與第一電容補償電極與第二電容補償電極部分重疊。光阻間隙物至少與第一電容補償電極與第二電容補償電極之其中一者部分重疊。

Description

顯示面板

本發明係關於一種顯示面板，尤指一種可避免漏光問題之顯示面板。

顯示面板主要包括兩片基板，以及設置於兩片基板之間的顯示介質層。舉例而言，液晶顯示面板包括一陣列基板、一彩色濾光片基板，以及設置於陣列基板與彩色濾光片基板之間的液晶層。為了維持陣列基板與彩色濾光片基板之間的間隙(gap)，陣列基板與彩色濾光片基板之間會設置有間隙物(spacer)。一般而言，習知液晶顯示面板係利用設置於陣列基板與彩色濾光片基板之間並對應於閘極線之光阻間隙物來支撐陣列基板與彩色濾光片基板的間隙。然而，液晶顯示面板於出廠前會經歷按壓測試，在按壓測試後光阻間隙物常會因受按壓而位移至開口區，並導致配向膜的損傷。配向膜的損傷會影響到液晶分子的轉動而會產生漏光問題。

本發明之目的之一在於提供一種顯示面板，以解決顯示面板之光阻間隙物的位移造成之漏光問題。

本發明之一較佳實施例提供一種顯示面板，包括一第一基板結構、一第二基板結構與第一基板結構面對設置、複數個光阻間隙物位於第一基板結構與第二基板結構之間，以及一顯示介質位於第一基板結構與第二基板結構之間。第一基板結構包括一第一基板、複數個次畫素單元位於第一基板上、複數條閘極線大體上彼此平行設置於第一基板上、複數條資料線大體上互相平行設置於第一基板上、一第一電容補償電極、一第二電容補償電極、一第一汲極延伸部，以及一第二汲極延伸部。各次畫素單元包括一第一次畫素、一第二次畫素、一第三次畫素與一第四次畫素，第一次畫素與第二次畫素分別位於次畫素單元之兩斜對角，且第三次畫素與第四次畫素分別位於次畫素單元之另兩斜對角。閘極線包括一第一閘極線設置於第一次畫素與第三次畫素以及第二次畫素與第四次畫素之間並鄰近第一次畫素與第三次畫素，用以驅動第一次畫素；一第二閘極線設置於第一次畫素與第三次畫素以及第二次畫素與第四次畫素之間並鄰近第二次畫素與第四次畫素，用以驅動第二次畫素；一第三閘極線設置於第一次畫素與第三次畫素相對於第一閘極線之另一側，用以驅動第三次畫素；以及一第四閘極線，設置於第二次畫素與第四次畫素相對於第二閘極線之另一側，用以驅動第四次畫素。資料線與閘極線相交，且資料線包括一第一資料線設置於第一次畫素與第四次畫素相對於第二次畫素與第三次畫素之另一側，用以驅動第一次畫素與第四次畫素；以及一第二資料線設置於第三次畫素與第二次畫素相對於第一次畫素與第四次畫素之另一側，用以驅動第三次畫素與第二次畫素。第一電容補償電極與第一閘極線連接並沿一第一方向延伸至第一次畫素與第三次畫素之間。第二電容補償電極與第二閘極線連接並沿一相反於第一方向之第二方向延伸至第二次畫素與第四次畫素之間。第一汲極延伸部位於第一次畫素內並與第一電容補償電極部分重疊。第二汲極延伸部位於第二次畫素內並與第二電容補償電極部分重疊。各光阻間隙物係至少與第一電容補償電極與第二電容補償電極之其中一者部分重疊。

為使熟習本發明所屬技術領域之一般技藝者能更進一步了解本發明，下文特列舉本發明之較佳實施例，並配合所附圖式，詳細說明本發明的構成內容及所欲達成之功效。

請參考第1圖與第2圖。第1圖繪示了本發明之第一較佳實施例之顯示面板之示意圖，第2圖為沿第1圖之剖線A-A’繪示之剖面示意圖，其中為了突顯本實施例之顯示面板之配置，第1圖未繪示出第二基板結構與顯示介質。如第1圖與第2圖所示，本實施例之顯示面板1主要包括一第一基板結構10、一第二基板結構20、複數個光阻間隙物30以及一顯示介質40。在本實施例中，第一基板結構10為一陣列基板結構，且第二基板結構20為一彩色濾光片基板結構，但不以此為限。第一基板結構10包括一第一基板12、複數個次畫素單元PU、複數條閘極線GL、複數條資料線DL、複數條共通線CL、複數個薄膜電晶體14、複數個畫素電極16、一第一電容補償電極171、一第二電容補償電極172、一第一汲極延伸部181，以及一第二汲極延伸部182。在本實施例中，次畫素單元PU位於第一基板12上，其中各次畫素單元PU包括一次畫素P1、一次畫素P2、一次畫素P3與一次畫素P4。次畫素P1與次畫素P2分別位於次畫素單元PU之兩斜對角，且次畫素P3與次畫素P4分別位於次畫素單元PU之另兩斜對角，如第1圖所示。各畫素單元PU之次畫素P1、次畫素P2、次畫素P3與次畫素P4會構成一畫素陣列，此畫素陣列包括複數個次畫素列與複數個次畫素行。在畫素陣列之一次畫素列中，次畫素P1與次畫素P3係呈交替重覆排列，而在另一次畫素列中，次畫素P4與次畫素P2係呈交替重覆排列。閘極線GL大體上彼此平行設置於第一基板12上並沿一列方向延伸，且閘極線GL包括一閘極線GL1、一閘極線GL2、一閘極線GL3與一閘極線GL4。閘極線GL1設置於次畫素P1與次畫素P3以及次畫素P2與次畫素P4之間並鄰近次畫素P1與次畫素P3，用以驅動次畫素P1；閘極線GL2設置於次畫素P1與次畫素P3以及次畫素P2與次畫素P4之間並鄰近次畫素P2與次畫素P4，用以驅動次畫素P2；閘極線GL3設置於次畫素P1與次畫素P3相對於閘極線GL1之另一側，用以驅動次畫素P3；閘極線GL4設置於次畫素P2與次畫素P4相對於閘極線GL2之另一側，用以驅動次畫素P4。也就是說，相鄰之兩次畫素列之間設置有兩條閘極線GL。資料線DL大體上互相平行設置於第一基板12上，且資料線DL與閘極線GL相交，亦即各資料線DL係沿一行方向延伸。資料線DL包括一資料線DL1與一資料線DL2。資料線DL1設置於次畫素P1與次畫素P4相對於次畫素P2與次畫素P3之另一側，用以驅動次畫素P1與次畫素P4；資料線DL2設置於次畫素P3與次畫素P2相對於次畫素P1與次畫素P4之另一側，用以驅動次畫素P3與次畫素P2。也就是說，資料線DL係設置於部分相鄰之次畫素行之間。共通線CL與資料線DL大體上彼此平行並交替設置，亦即共通線CL設置於次畫素P1與次畫素P4以及次畫素P2與次畫素P3之間，而資料線DL1設置於次畫素單元PU之次畫素P1與次畫素P4的外側，以及資料線DL2設置於次畫素單元PU之次畫素P2與次畫素P33的外側。也就是說，共通線CL係設置於部分相鄰之次畫素行之間並與資料線DL交替設置。薄膜電晶體14分別位於次畫素P1、次畫素P2、次畫素P3與次畫素P4內，其中各薄膜電晶體14包括一閘極G、一源極S與一汲極D。閘極G分別與對應之閘極線GL電性連接。源極S分別與對應之資料線DL電性連接。第一汲極延伸部181位於次畫素P1內並與次畫素P1內之薄膜電晶體14之汲極D連接，且第一汲極延伸部181與第一電容補償電極171部分重疊，藉此可形成補償電容；第二汲極延伸部182位於次畫素P2內並與次畫素P2內之薄膜電晶體14之汲極D連接，且第二汲極延伸部182與第二電容補償電極172部分重疊，藉此可形成補償電容。上述補償電容設計可避免汲極D與閘極G因製程變異或其它因素產生的對位不準問題所導致的閘極-汲極電容(Cgd)的變異。畫素電極16分別位於次畫素P1、次畫素P2、次畫素P3與次畫素P4內，其中各畫素電極16分別與次畫素P1、次畫素P2、次畫素P3與次畫素P4內之汲極D電性連接。第一電容補償電極171與閘極線GL1連接並沿一第一方向D1延伸至次畫素P1與次畫素P3之間，第二電容補償電極172與閘極線GL2連接並沿一相反於第一方向D1之第二方向D2延伸至次畫素P2與次畫素P4之間。

在本實施例中，閘極線GL、閘極G、共通線CL、第一電容補償電極171與第二電容補償電極172可由同一層導電層所構成，例如第一金屬層(metal 1,M1)，但不以此為限。資料線DL、源極S、汲極D、第一汲極延伸部181與第二汲極延伸部182可由同一層導電層所構成，例如第二金屬層(metal 2,M2)，但不以此為限。另外，如第2圖所示，閘極G、第一電容補償電極171與第二電容補償電極172上另覆蓋有一閘極絕緣層13，閘極絕緣層13上設置有一半導體層15、第一汲極延伸部181與第二汲極延伸部182上則覆蓋有一保護層19，且保護層19具有一開口19A，位於第一汲極延伸部181與第二汲極延伸部182之間。

第二基板結構20與第一基板結構10面對設置。第二基板結構20包括一第二基板22、一圖案化遮光層24位於第二基板22面對第一基板12之表面、一彩色濾光層26位於第二基板22面對第一基板12之表面，以及一共通電極28位於圖案化遮光層24與彩色濾光層26面對第一基板12之表面。顯示介質40位於第一基板結構10與第二基板結構20之間。在本實施例中，顯示介質40可為一液晶層，但不以此為限。顯示介質40可視顯示面板之類型為各式顯示介質例如有機電激發光層或電泳液層等。光阻間隙物30位於第一基板結構10與第二基板結構20之間。光阻間隙物30係對應於次畫素P1、次畫素P2、次畫素P3與次畫素P4之一共同角落，且光阻間隙物30至少與第一電容補償電極171與第二電容補償電極172之其中一者部分重疊。

在本實施例中，光阻間隙物30包括主光阻間隙物30M，其中主光阻間隙物30M分別與第一基板結構10與第二基板結構20接觸，且主光阻間隙物30M係至少與第一汲極延伸部181與第二汲極延伸部182之其中一者部分重疊。在本實施例中，主光阻間隙物30M係與第一汲極延伸部181與第二汲極延伸部182兩者部分重疊，但並不以此為限。舉例而言，主光阻間隙物30M亦可僅與第一汲極延伸部181部分重疊，或是僅與第二汲極延伸部182部分重疊。此外，主光阻間隙物30M更跨越對應之閘極線GL1與閘極線GL2並與閘極線GL1與閘極線GL2部分重疊，並與第一電容補償電極171與第二電容補償電極172兩者重疊。再者，本實施例之主光阻間隙物30M大體上具有一矩形水平截面，如第1圖所示，但不以此為限。由於主光阻間隙物30M分別與第一基板結構10與第二基板結構20接觸，因此可維持第一基板結構10與第二基板結構20的間隙，且第一電容補償電極171與第二電容補償電極172之間具有凹陷處，使得覆蓋於第一電容補償電極171與第二電容補償電極172的保護層19具有起伏表面，可增加主光阻間隙物30M與保護層19的摩擦力，因此可避免主光阻間隙物30M產生位移。

本發明之顯示面板並不以上述實施例為限。下文將依序介紹本發明之其它較佳實施例之顯示面板，且為了便於比較各實施例之相異處並簡化說明，在下文之各實施例中使用相同的符號標注相同的元件，且主要針對各實施例之相異處進行說明，而不再對重覆部分進行贅述。

請參考第3圖。第3圖繪示了本發明之第一較佳實施例之一第一變化型之顯示面板之示意圖。如第3圖所示，在本第一變化型中，顯示面板1’的主光阻間隙物30M大體上具有一十字形水平截面。

請參考第4圖。第4圖繪示了本發明之第一較佳實施例之一第二變化型之顯示面板之示意圖。如第4圖所示，在本第二變化型中，顯示面板1”的一個主光阻間隙物30M1係與第一汲極延伸部181部分重疊，而另一個主光阻間隙物30M2係與第二汲極延伸部182部分重疊。在本實施例之另一變化型中，主光阻間隙物30M可僅包括與第一汲極延伸部181部分重疊的主光阻間隙物30M1，但未包括與第二汲極延伸部182部分重疊之主光阻間隙物30M2，或者是僅包括與第二汲極延伸部182部分重疊之主光阻間隙物30M2，而未包括與第一汲極延伸部181部分重疊的主光阻間隙物30M1。

請參考第5圖與第6圖。第5圖繪示了本發明之第二較佳實施例之顯示面板之示意圖，第6圖為沿第5圖之剖線B-B’繪示之剖面示意圖。如第5圖與第6圖所示，不同於第一較佳實施例，在本實施例中，顯示面板2之光阻間隙物30包括次光阻間隙物30S，次光阻間隙物30S跨越對應之閘極線GL1與閘極線GL2並與閘極線GL1與閘極線GL2部分重疊，且次光阻間隙物30S至少與第一電容補償電極171與第二電容補償電極172之其中一者部分重疊，但未與第一汲極延伸部181與第二汲極延伸部182重疊。舉例而言，在本實施例中，次光阻間隙物30S係與第一電容補償電極171與第二電容補償電極172之兩者均部分重疊，但不以此為限。次光阻間隙物30S亦可僅與第一電容補償電極171部分重疊，或與第二電容補償電極172部分重疊。此外，次光阻間隙物30S與第二基板結構20接觸而未與第一基板結構10接觸。次光阻間隙物30S係對應於閘極線GL1與閘極線GL2之間的保護層19的開口19A，因此在按壓測試時會被限制在保護層19的開口19A內而不會產生位移，因此不會造成配向膜(圖未示)的損傷，故不會產生漏光問題。另外在本實施例中，次光阻間隙物30S大體上具有一矩形水平截面，如第5圖所示，但不以此為限。

第7圖繪示了本發明之第二較佳實施例之一變化型之顯示面板之示意圖。如第7圖所示，在本變化型中，顯示面板2’的次光阻間隙物30S大體上具有一十字形水平截面。同樣地，次光阻間隙物30S跨越對應之閘極線GL1與閘極線GL2並與閘極線GL1與閘極線GL2部分重疊，且次光阻間隙物30S至少與第一電容補償電極171與第二電容補償電極172之其中一者部分重疊，但未與第一汲極延伸部181與第二汲極延伸部182重疊。舉例而言，在本變化型中，次光阻間隙物30S係與第一電容補償電極171與第二電容補償電極172之兩者均部分重疊，但不以此為限。次光阻間隙物30S亦可僅與第一電容補償電極171部分重疊，或與第二電容補償電極172部分重疊。

請參考第8圖。第8圖繪示了本發明之第三較佳實施例之顯示面板之示意圖。如第8圖所示，不同於第一較佳實施例與第二較佳實施例，在本實施例中，顯示面板3之光阻間隙物30包括主光阻間隙物30M與次光阻間隙物30S。主光阻間隙物30M分別與第一基板結構10與第二基板結構20接觸，且主光阻間隙物30M係與第一汲極延伸部181與第二汲極延伸部182兩者部分重疊。此外，主光阻間隙物30M更跨越對應之閘極線GL1與閘極線GL2並與閘極線GL1與閘極線GL2部分重疊，並與第一電容補償電極171與第二電容補償電極172兩者重疊。次光阻間隙物30S跨越對應之閘極線GL1與閘極線GL2並與閘極線GL1與閘極線GL2部分重疊，且次光阻間隙物30S至少與第一電容補償電極171與第二電容補償電極172之其中一者部分重疊，但未與第一汲極延伸部181與第二汲極延伸部182重疊。舉例而言，在本實施例中，次光阻間隙物30S係與第一電容補償電極171與第二電容補償電極172之兩者均部分重疊，但不以此為限。次光阻間隙物30S亦可僅與第一電容補償電極171部分重疊，或與第二電容補償電極172部分重疊。。此外，次光阻間隙物30S與第二基板結構20接觸而未與第一基板結構10接觸。次光阻間隙物30S係對應於閘極線GL1與閘極線GL2之間的保護層19的開口19A。也就是說，在本實施例中，顯示面板3之光阻間隙物30同時包括主光阻間隙物30M與次光阻間隙物30S。主光阻間隙物30M之形狀與配置可如第一較佳實施例或其變化型所揭示之任一者，而次光阻間隙物30S。主光阻間隙物30M之形狀與配置可如第二較佳實施例或其變化型所揭示之任一者。

綜上所述，本發明之顯示面板之主光阻間隙物係設置於補償電容區內，而次光阻間隙物則設置於相鄰之兩電容補償電極之間，因此可避免光阻間隙物於進行按壓測試時產生位移，而可有效解決漏光問題。

以上所述僅為本發明之較佳實施例，凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本發明之涵蓋範圍。

1．．．顯示面板

10．．．第一基板結構

12．．．第一基板

13．．．閘極絕緣層

14．．．薄膜電晶體

15．．．半導體層

16．．．畫素電極

171．．．第一電容補償電極

172．．．第二電容補償電極

181．．．第一汲極延伸部

182．．．第二汲極延伸部

19．．．保護層

19A．．．開口

20．．．第二基板結構

22．．．第二基板

24．．．圖案化遮光層

26．．．彩色濾光層

28．．．共通電極

30．．．光阻間隙物

30M．．．主光阻間隙物

30M1．．．主光阻間隙物

30M2．．．主光阻間隙物

30S．．．次光阻間隙物

40．．．顯示介質

PU．．．次畫素單元

P1．．．次畫素

P2．．．次畫素

P3．．．次畫素

P4．．．次畫素

GL．．．閘極線

GL1．．．閘極線

GL2．．．閘極線

GL3．．．閘極線

GL4．．．閘極線

DL．．．資料線

DL1．．．資料線

DL2．．．資料線

CL．．．共通線

G．．．閘極

S．．．源極

D．．．汲極

1’．．．顯示面板

1”．．．顯示面板

2．．．顯示面板

2’．．．顯示面板

3．．．顯示面板

第1圖繪示了本發明之第一較佳實施例之顯示面板之示意圖。

第2圖為沿第1圖之剖線A-A’繪示之剖面示意圖。

第3圖繪示了本發明之第一較佳實施例之一第一變化型之顯示面板之示意圖。

第4圖繪示了本發明之第一較佳實施例之一第二變化型之顯示面板之示意圖。

第5圖繪示了本發明之第二較佳實施例之顯示面板之示意圖。

第6圖為沿第5圖之剖線B-B’繪示之剖面示意圖。

第7圖繪示了本發明之第二較佳實施例之一變化型之顯示面板之示意圖。

第8圖繪示了本發明之第三較佳實施例之顯示面板之示意圖。

2．．．顯示面板

10．．．第一基板結構

12．．．第一基板

13．．．閘極絕緣層

14．．．薄膜電晶體

15．．．半導體層

16．．．畫素電極

171．．．第一電容補償電極

172．．．第二電容補償電極

181．．．第一汲極延伸部

182．．．第二汲極延伸部

19．．．保護層

19A．．．開口

20．．．第二基板結構

22．．．第二基板

24．．．圖案化遮光層

26．．．彩色濾光層

28．．．共通電極

30．．．光阻間隙物

30S．．．次光阻間隙物

40．．．顯示介質

G．．．閘極

S．．．源極

D．．．汲極

Claims (13)

1. 一種顯示面板，包括：一第一基板結構，包括：一第一基板；複數個次畫素單元，位於該第一基板上，其中各該次畫素單元包括一第一次畫素、一第二次畫素、一第三次畫素與一第四次畫素，該第一次畫素與該第二次畫素分別位於該次畫素單元之兩斜對角，且該第三次畫素與該第四次畫素分別位於該次畫素單元之另兩斜對角；複數條閘極線，大體上彼此平行設置於該第一基板上，該等閘極線包括：一第一閘極線，設置於該第一次畫素與該第三次畫素以及該第二次畫素與該第四次畫素之間並鄰近該第一次畫素與該第三次畫素，用以驅動該第一次畫素；一第二閘極線，設置於該第一次畫素與該第三次畫素以及該第二次畫素與該第四次畫素之間並鄰近該第二次畫素與該第四次畫素，用以驅動該第二次畫素；一第三閘極線，設置於該第一次畫素與該第三次畫素相對於該第一閘極線之另一側，用以驅動該第三次畫素；以及一第四閘極線，設置於該第二次畫素與該第四次畫素相對於該第二閘極線之另一側，用以驅動該第四次畫素；複數條資料線，大體上互相平行設置於該第一基板上，且該等資料線與該等閘極線相交，該等資料線包括：一第一資料線，設置於該第一次畫素與該第四次畫素相對於該第二次畫素與該第三次畫素之另一側，用以驅動該第一次畫素與該第四次畫素；以及一第二資料線，設置於該第三次畫素與該第二次畫素相對於該第一次畫素與該第四次畫素之另一側，用以驅動該第三次畫素與該第二次畫素；一第一電容補償電極，與該第一閘極線連接並沿一第一方向延伸至該第一次畫素與該第三次畫素之間；一第二電容補償電極，與該第二閘極線連接並沿一相反於該第一方向之第二方向延伸至該第二次畫素與該第四次畫素之間；一第一汲極延伸部，位於該第一次畫素內並與該第一電容補償電極部分重疊；一第二汲極延伸部，位於該第二次畫素內並與該第二電容補償電極部分重疊；一第二基板結構，與該第一基板結構面對設置；複數個光阻間隙物，位於該第一基板結構與該第二基板結構之間，其中各該光阻間隙物係至少與該第一電容補償電極與該第二電容補償電極之其中一者部分重疊；以及一顯示介質，位於該第一基板結構與該第二基板結構之間。
2. 如請求項1所述之顯示面板，其中各該光阻間隙物係對應於該第一次畫素、該第二次畫素、該第三次畫素與該第四次畫素之一共同角落。
3. 如請求項1所述之顯示面板，另包括複數個薄膜電晶體，分別位於該第一次畫素、該第二次畫素、該第三次畫素與該第四次畫素內，其中各該薄膜電晶體包括一閘極、一源極與一汲極，該第一汲極延伸部係與該第一次畫素內之該薄膜電晶體之該汲極連接，且該第二汲極延伸部係與該第二次畫素內之該薄膜電晶體之該汲極連接。
4. 如請求項3所述之顯示面板，另包括複數個畫素電極，分別位於該第一次畫素、該第二次畫素、該第三次畫素與該第四次畫素內，其中各該畫素電極分別與該第一次畫素、該第二次畫素、該第三次畫素與該第四次畫素內之該汲極電性連接。
5. 如請求項1所述之顯示面板，其中各該光阻間隙物更跨越對應之該第一閘極線與該第二閘極線並與該第一閘極線與該第二閘極線部分重疊。
6. 如請求項1所述之顯示面板，其中該等光阻間隙物包括複數個主光阻間隙物，各該主光阻間隙物分別與該第一基板結構與該第二基板結構接觸，且各該主光阻間隙物係與該第一汲極延伸部與該第二汲極延伸部兩者部分重疊。
7. 如請求項1所述之顯示面板，其中該等光阻間隙物包括複數個主光阻間隙物，各該主光阻間隙物分別與該第一基板結構與該第二基板結構接觸，且各該主光阻間隙物至少與該第一汲極延伸部與該第二汲極延伸部之其中一者部分重疊。
8. 如請求項1所述之顯示面板，其中該等光阻間隙物包括複數個主光阻間隙物，各該主光阻間隙物分別與該第一基板結構以及該第二基板結構接觸，部分之該等主光阻間隙物係與該第一汲極延伸部部分重疊，且部分之該等主光阻間隙物係與該第二汲極延伸部部分重疊。
9. 如請求項1所述之顯示面板，其中該等光阻間隙物包括複數個次光阻間隙物，各該次光阻間隙物未與該第一汲極延伸部與該第二汲極延伸部重疊，且各該次光阻間隙物與該第二基板結構接觸而未與該第一基板結構接觸。
10. 如請求項1所述之顯示面板，其中該等光阻間隙物包括複數個主光阻間隙物與複數個次光阻間隙物，各該主光阻間隙物分別與該第一基板結構以及該第二基板結構接觸，各該次光阻間隙物未與該第一汲極延伸部以及該第二汲極延伸部重疊，且各該次光阻間隙物與該第二基板結構接觸而未與該第一基板結構接觸。
11. 如請求項10所述之顯示面板，其中各該主光阻間隙物係與該第一汲極延伸部與該第二汲極延伸部兩者部分重疊。
12. 如請求項10所述之顯示面板，其中部分之該等主光阻間隙物係與該第一汲極延伸部部分重疊，且部分之該等主光阻間隙物係與該第二汲極延伸部部分重疊。
13. 如請求項1所述之顯示面板，其中各該光阻間隙物大體上具有一矩形水平截面或一十字形水平截面。