201246375 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於使基板的表面變性的表面變性方法、程 式、電腦記憶媒體及基板之表面變性裝置。 【先前技術】 例如在半導體設備的製造步驟中，例如對半導體晶圓 (以下，稱「晶圓」）進行光刻處理，在晶圓上進行預定 抗蝕圖形的形成。 在形成上述抗蝕圖形時，爲獲得半導體設備進一步的 高積體化，尋求該等抗蝕圖形的細微化。一般光刻處理的 細微化的界限在於曝光處理使用的光的波長程度。爲此， 較以往使得曝光處理的光進一步短波長化。但是，曝光光 源的短波長化有技術上、成本上的界限，僅進行光的短波 長化的方法，例如有數奈米等級之細微抗蝕圖形的形成上 困難的狀況。 因此’近年來，提出使用所謂壓印的方法在晶圓上形 成細微的抗蝕圖形來取代在晶圓進行光刻處理。該方法是 將表面具有細微圖形的模板（也有稱鑄模或模具）壓接在 形成於晶圓上的抗蝕層表面，隨後剝離，在該抗蝕層表面 直接進行圖形的轉印（專利文獻1 )。 〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕 〔專利文獻1〕日本特開2009-43998號公報 201246375 【發明內容】 〔發明所欲解決之課題〕 在上述壓印方法所使用的模片的表面，爲了將模片容 易從抗蝕層剝離，通常在抗蝕層成膜有具有撥液性的脫模 劑。 在模片的表面進行脫模劑成膜時，首先，將模片的表 面清洗之後，在該模片的表面塗抹脫模劑。接著，爲使成 膜的脫模劑具有預定的接觸角而可發揮對抗蝕層表面的撥 液性功能，使脫模劑密接於模片的表面。具體是使脫模劑 與模片的表面起化學反應，即藉水解縮合來結合脫模劑分 子與模片表面的羥基。並使得脫模劑中所包含的成分中， 對抗蝕層具有撥液性的成分，例如氟化物成分吸附於模片 的表面。之後，除去脫模劑的未反應部，在模片的表面進 行預定膜厚之脫模劑的成膜。另外，脫模劑的未反應部則 是脫模劑與模片的表面起化學反應而密接的部份以外的部 份。 如上述進行脫模劑成膜的場合，爲使脫模劑充分地與 模板的表面密接，在模片的表面有多量的羥基存在的必要 。但是，例如模片的表面未充分進行前處理的場合，或例 如模片表面的材質爲不易形成羥基的材質的場合，會使得 形成在該模片表面的羥基變少。如此的場合，即不能使得 脫模劑與模片的表面充分地密接》 本發明是鑒於上述的點所硏創而成，以使得基板的表 -4- 201246375 面變性，提升該基板的表面與結合對象物的密接性爲目的 〔解決課題的手段〕 爲達成上述目的’本發明係將基板的表面變性的方法 ’其特徵爲：一邊對基板的表面照射紫外線，並供應表面 變性液至基板的表面，以賦予該基板的表面經基。 根據本發明，由於對基板的表面照射紫外線，可使該 基板的表面活化。並且，一邊使基板的表面活化，一邊供 應表面變性液至該基板的表面，因此可賦予基板表面多量 的羥基。如此可使基板的表面充分地變性，在隨後進行基 板的表面與結合對象物的的化學結合時，可提升該基板的 表面與結合對象物的密接性。 上述表面變性液可根據基板表面的材質選擇最適當的 液體。上述表面變性液也可以是叔醇，也可以是鹼溶液， 也可以是過氧化氫水。發明人等努力硏發的結果，可得知 尤其在使用叔醇或鹼溶液作爲表面變性液的場合，則不論 基板表面的材質爲何，皆可賦予基板表面多量的羥基。並 且，使用過氧化氫水作爲表面變性液的場合，尤其是基板 表面的材質爲鎢時，即可賦予該基板表面多量的羥基。 也可在對上述基板的表面照射上述紫外線中，開始進 行朝著該基板表面之上述表面變性液的供應。 並可在上述基板的表面和與該表面相對所配置的支撐 板之間供應上述表面變性液的狀態下，開始進行對上述基 -5- 201246375 板表面之上述紫外線的照射。以上的場合，也可使上述紫 外線穿透上述支撐板。 上述基板也可以是在表面形成有轉印圖形，並將上述 轉印圖形轉印至其他基板上的抗蝕膜以形成抗蝕圖形用的 模片。 根據其他觀點的本發明，爲利用表面變性裝置執行上 述基板的表面變性方法，提供在控制該表面變性裝置的控 制部的電腦上動作的程式。 並根據其他觀點的本發明，提供可讀取儲存上述程式 的電腦記憶媒體。 進一步根據其他觀點的本發明是使基板的表面變性的 表面變性裝置，其特徵爲，具有：對基板的表面照射紫外 線的紫外線照射部；供應對基板的表面賦予羥基用之表面 變性液的表面變性液供應部；及控制上述紫外線照射部與 上述表面變性液供應部，對基板的表面一邊照射上述紫外 線，並供應上述表面變性液至基板表面的控制部》 上述表面變性液也可以是叔醇，也可以是鹼溶液，也 可以是過氧化氫水。 上述控制部也可以控制上述紫外線照射部與上述表面 變性液供應部，在對上述基板表面的上述紫外線照射中， 開始對該基板的表面進行上述表面變性液的供應。 上述表面變性裝置也可具有和上述基板的表面相對配 置的支撐板，上述控制部控制上述紫外線照射部與上述表 面變性液供應部以使得在上述表面變性液供應於上述基板
-6- 201246375 的表面與上述支撐板之間的狀態下開始對上述基板的表面 進行上述紫外線的照射。以上的場合，也可使上述紫外線 穿透上述支撐板。 上述基板也可以在表面形成有轉印圖形，並將上述轉 印圖案轉印在其他基板上的抗蝕膜上形成抗蝕圖形用的模 片。 〔發明效果〕 根據本發明使基板的表面變性，可提升該基板的表面 與結合對象物的密接性。 【實施方式】 以下，針對本發明的實施形態說明。第1圖表示本實 施形態有關的模片處理裝置1之構成槪略的上視圖。第2圖 及第3圖表示模片處理裝置1之構成槪略的側視圖。 本實施形態的模片處理裝置1中，如第4圖表示，使用 具有長方體形，表面形成有預定轉印圖形C之作爲基板的 模片T。以下，稱形成有轉印圖案C的模片T的面爲表面T, ，與該表面ΤΊ相反側的面稱爲內面T2。再者，模片T使用 可視光、近紫外線、紫外線等的光可穿透的透明材料，例 如石英玻璃。 模片處理裝置1，如第1圖表示，具有：以複數，例如 5片的模片Τ爲匣單位搬出入於外部與模片處理裝置1之間 ，或將模片Τ搬出入於模片匣CT的模片搬出入站2，及具備 201246375 有對模片τ施以預定處理的複數處理單元的處理站3成一體 連接的構成。 模片搬出入站2設有匣載放台10。匣載放台10可使複 數的模片匣CT成一列自由地載放於X方向（第1圖中的上下 方向）。即，模片搬出入站2構成可保有複數·的模片T。 在模片搬出入站2設置有可在朝著X方向延伸的搬運道 11上移動的模片搬運體12。模片搬運體12也可在垂直方向 及垂直方向周圍（0方向）自由移動，可在模片匣CT與處 理站3之間搬運模片T。 處理站3在其中心部設有搬運單元20。在該搬運單元 20的周邊多段配置有各種處理單元，例如4個處理塊 G1〜G4。處理站3的正面側（第1圖之X方向的負方向側） ，從模片搬出入站2側依序配置著第1處理塊G1、第2處理 塊G2。並在處理站3的背面側（第1圖之X方向的正方向側 )，從模片搬出入站2側依序配置著第3處理塊G3、第4處 理塊G4。在處理站3的模片搬出入站2側，配置有進行模片 T交接用的轉移單元21。 搬運單元20具有保持模片T進行搬運，並可在水平方 向、鉛直方向及鉛直方向周圍自由移動的搬運臂。並且， 搬運單元20可對配置在處理塊G1-G4內之後述的各種處理 單元及轉移單元21進行模片T的搬運。 第1處理塊G1是如第2圖表示，由下而上依序重疊有2 段複數的液處理單元，例如對模片T的表面Ti一邊照射紫 外線，供應表面變性液至該模片T的表面T!作爲表面變性 201246375 裝置的表面變性單元30，及對模片T的表面T! 一邊照射紫 外線，並將脫模劑塗抹在該模片τ的表面Τ!的塗抹單元31 。第2處理塊G2也同樣地，由下而上依序重疊有2段的表面 變性單元32、塗抹單元33。並且，在第1處理塊G1及第2處 理塊G2的最下段，分別設有對上述液處理單元供應各種處 理液用的化學室3 4、3 5。 第3處理塊G3是如第3圖表示，由下而上依序重疊有2 段複數的液處理單元，例如清洗模片Τ上之脫模劑的清洗 單元40、41。第4處理塊G4也同樣地，由下而上依序重疊 有2段清洗單元42、43。並在第3處理塊G3及第4處理塊G4 的最下段，分別設有對上述液處理單元供應各種處理液用 的化學室44、45。 接著，針對上述表面變性單元30、32的構成說明。表 面變性單元30是如第5圖表示在側面具備形成有模片Τ的搬 出入口（未圖示）的處理容器100。 處理容器100的頂棚面形成有朝著處理容器100的內部 供應惰性氣體，例如供應氮氣用的氣體供應口 1 0 1。在氣 體供應口 101連接著透過氣體供應管102供應氮氣的氣體供 應源1 0 3。 處理容器100的底面形成有處理容器100的內部周圍環 境排氣用的排氣口 104。在排氣口丨04連接著透過排氣管 105真空吸引處理容器1〇〇的內部周圍環境的排氣泵106。 處理容器100內的中央部設有保持著模片Τ旋轉的保持 構件110。保持構件110的中央部份向下方凹陷，形成有收 201246375 容模片τ的收容部111。收容部111的下部形成有小於模片丁 外形的溝槽部111a。因此’在收容部111內’模片T的下面 內周圍部不以溝槽部1 1 la與保持構件1 10連接’僅模片T的 下面外圍部被支撐在保持構件上。收容部111是如第6 圖表示，具有和模片T的外形一致的大致四角形的平面形 狀。收容部11 1形成有複數從側面朝著內側突出的突出部 112，藉此突出部112進行收容於收容部111之模片T的定位 。並在從搬運單元20的搬運臂將模片T交接於收容部111時 ，該搬運臂爲避免與收容部111的干涉’在收容部111的外 圍形成有4處的缺口部113。 保持構件110是如第5圖表示安裝於蓋體114，在保持 構件110的下方透過軸Π5設置旋轉驅動部116。藉此旋轉 驅動部116，可使保持構件110在垂直周圍以預定的速度旋 轉，並可升降。 保持構件110的周圍設有承接、回收從模片T飛散或落 下的表面變性液的杯120。杯120的下面連接有排出回收後 之表面變性液的排出管121，及將杯120內的氣體排氣的排 氣管122。 如第7圖表示在杯120的X方向負方向（第7圖的下方） 側，形成有沿著Y方向（第7圖的左右方向）延伸的軌道 130。軌道130是例如從杯120的Y方向負方向（第7圖的左 方）側的外方形成到Y方向正方向（第7圖的右方）側的外 方爲止。在軌道130安裝著臂131。 臂131支撐著對模片T的表面！\供應表面變性液的作爲 201246375 表面變性液供應部的表面變性液噴嘴132。臂131是藉噴嘴 驅動部133，可在軌道130上自由移動。藉此，可使表面變 性液噴嘴132從設置在杯120的Y方向正方向側外方的待機 部134移動到杯120內之模片T的中心部上方爲止。又，臂 131藉著噴嘴驅動部133自由升降，可調整表面變性液噴嘴 132的高度。再者，表面變性液如後述，可使用對模片T的 表面ΤΊ賦予羥基的材料。本實施形態中，例如使用叔醇的 t-叔戊醇作爲上述表面變性液的材料。 處理容器1〇〇內的頂棚面，在保持構件110的上方設有 對模片τ的表面1^例如照射172nm波長的紫外線（氙準分子 UV )的紫外線照射部1 40。紫外線照射部1 40是例如配置 與保持在保持構件1 10之模片T的表面T!相對，並包覆該表 面T 1全面。 再者，例如也可在保持構件110的溝槽部111a內，設 置噴射洗淨液，例如有機溶劑的洗淨液噴嘴。從該洗淨液 噴嘴朝模片T的內面T2噴射洗淨液，可藉此洗淨該內面丁2 〇 另外，表面變性單元32的構成是與上述表面變性單元 30的構成相同省略其說明。 又，塗抹單元31、33的構成在上述表面變性單元3〇中 ，具有將表面變性液噴嘴132置換成脫模劑噴嘴的構成。 脫模劑噴嘴可對模片Τ上供應脫模劑。並且，塗抹單元3 ! 、33的其他構成是與表面變性單元30的構成相同省略其說 明。且，脫模劑的材料使用對後述之晶圓上的抗蝕膜具有 -11 - 201246375 撥液性的材料，例如氟碳系化合物等。 接著，針對上述清洗單元40〜43的構成說明。清洗單 元40如第8圖表示具有在側面形成有模片T的搬出入口（未 圖示）的處理容器150。 處理容器150內的底面設有浸漬模片T的浸漬槽151。 在浸漬槽1 5 1內存放有清洗模片T上之脫模劑用的清洗液， 例如有機溶劑。 處理容器150內的頂棚面，在浸漬槽151的上方設有保 持模片T的保持部152。保持部152具有吸附保持模片T的內 面丁2外圍部的夾頭153。模片T被保持在夾頭153以使其表 面^朝向上方。夾頭153可藉升降機構154升降。並且，模 片T是以保持在保持部152的狀態浸漬於存放在浸漬槽151 內的有機溶劑，清洗該模片T上的脫模劑。 保持部152具有設置在被保持於夾頭153之模片T上方 的氣體供應部1 5 5。氣體供應部1 5 5例如可將氮等惰性氣體 或乾燥氣體等的氣體朝著下方，即保持於夾頭153的模片T 的表面ΤΊ噴灑。藉以使在浸漬槽151清洗後的模片T的表面 T!乾燥。並且，在清洗單元40連接有內部的氣體排氣用的 排氣管（未圖示）。 再者，清洗單元41〜4 3的構成是與上述清洗單元40的 構成相同而省略說明。 以上的模片處理裝置1如第1圖表示，設有控制部160 。控制部1 60是例如電腦，具有程式儲存部（未圖示）。 在程式儲存部儲存有程式，可控制模片搬出入站2與處理
-12- S 201246375 站3之間的模片T的搬運，及處理站3之驅動系統的動作等 ，並執行模片處理裝置1的後述的模片處理。另外，該程 式是例如記錄在電腦可讀取的硬碟（HD )、軟碟（FD ) 、光碟（CD )、磁光碟片（MO )、記億卡等電腦可讀取 的記憶媒體的程式，也可從其記憶媒體安裝於控制部160 的程式。 本實施形態的模片處理裝置1是如以上的構成。接著 ，針對其模片處理裝置1所進行的模片處理說明。第9圖表 示該此模片處理的主要處理流程，第10圖表示各步驟的模 片T的狀態。 首先，藉模片搬運體12，從匣載放台10上的模片匣CT 取出模片T，搬運至處理站3的轉移單元21 (第9圖的步驟 A1 )。此時，在模片匣CT內，收容模片T使形成有轉印圖 形C的表面Ti朝向上方，在此狀態下將模片T搬運至轉移單 元2 1。 隨後，藉搬運單元20，模片T被搬運至表面變性單元 30，並交接於保持構件110。接著，從氣體供應口 1〇1供應 氮氣至處理容器100內。此時，從排氣口 104進行處理容器 100之內部周圍環境的排氣，將處理容器100的內部置換成 氮氣的周圍環境。隨後，如第10(a)圖表示從紫外線照 射部140對模片T的表面1^全面照射紫外線。並除去模片T 的表面1^的有機物，洗淨該等模片T的表面T!(第9圖的步 驟 A2 )。 之後，將表面變性液噴嘴132移動至模片T的中心部上 -13- 201246375 方爲止’並使得模片τ旋轉。另外，如第10(b)圖表示從 下一個紫外線照射部140—邊對模片Τ的表面Tl照射能源高 的紫外線，一邊從表面變性液噴嘴132朝著旋轉中的模片τ 上供應表面變性液Μ。亦即，在紫外線的照射中，開始對 模片Τ之表面應表面變性液Μ。所供應的表面變性液Μ 藉著離心力擴散到模片Τ的表面Τ!全面。 在此，在發明人努力的硏創下，得知如上述在模片Τ 的表面Τ!照射紫外線時，可使該表面Tr活化。並且，可得 知對石英玻璃所成的模片Τ的活化後的表面丁,，供應叔戊 醇的表面變性液Μ時，會有多量的羥基（ΟΗ基）賦予表面 h。如此一來，可使模片Τ的表面變性（第9圖的步驟A3 )。再者，在此步驟A3中，處理容器100的內部維持著氮 氣的周圍環境。又，表面T i的變性後，停止從紫外線照射 部140之紫外線的照射和從表面變性液噴嘴132之表面變性 液Μ的供應之後，接著使模片T旋轉，使該模片T的表面T, 擺動乾燥。 並且，對於表面變性液Μ可根據模片Τ的表面Τ,的材 質選擇最適當的液體。本實施的形態中，針對石英玻璃的 模片Τ雖是使用叔醇（叔戊醇）作爲表面變性液Μ，但其 他的組合則是如後述。 之後，藉搬運單元20將模片Τ搬運到塗抹單元31，並 交接於保持構件11〇。接著，從氣體供應口 101供應氮氣至 處理容器100內。此時，從排氣口 104進行處理容器100之 內部周圍環境的排氣，將處理容器100的內部置換成氮氣 -14- 201246375 的周圍環境。 隨後，將脫模劑噴嘴移動至模片T的中心部上方爲止 ，並使模片τ旋轉。並且，如第10(c)圖表示一邊從紫外 線照射部140照射紫外線於模片T的表面T,，一邊從脫模劑 噴嘴供應脫模劑S到旋轉中的模片T上。亦即，在紫外線的 照射中，開始對模片T的表面Ti進行脫模劑S的供應。所供 應的脫模劑S藉著離心力在模片T上擴散，而塗抹於該模片 τ的表面Ή全面（第9圖的步驟A4)。在其塗抹後，停止從 紫外線照射部140之紫外線的照射與從脫模劑噴嘴的脫模 劑S的供應，接著使模片Τ旋轉，使該模片Τ的表面L擺動 乾燥》 該步驟Α4是藉紫外線的照射，切斷模片Τ的表面^上 之羥基的氧與氫的結合。並且，如上述在切斷羥基結合的 隨後，以脫水縮合模片Τ的表面h與脫模劑分子。並藉著 照射在模片T的表面Ή的紫外線，脫水縮合鄰接的脫模劑 彼此來結合。如此一來，促進模片Τ的表面：^與脫模劑S的 化學反應，而可提升該模片Τ的表面^與脫模劑S的密接性 〇 之後，藉搬運單元20，將模片τ搬運到清洗單元40， 保持在保持部152。接著，使保持部152下降，將模片Τ浸 漬在儲存於浸漬槽151的有機溶劑內。經過預定時間時， 僅脫模劑S的未反應部，即脫模劑S與模片Τ的表面Τ ,化學 反應而使得與該表面ΤΊ密接的部份以外剝離。此時，上述 步驟Α4中脫模劑S密接於模片Τ的表面Τ!，所以預定距離的 -15- 201246375 脫模劑S不會從模片T的表面T!剝離。又，模片T上的脫模 劑S的接觸角形成預定的角度，例如1 1 0度以上，脫模劑S 相對於後述的抗蝕膜具有充分的撥液性，可發揮其脫模功 能。因此，如第10(d)圖表示在模片Τ上以預定的膜厚沿 著轉印圖案C進行脫模劑S的成膜（第9圖的步驟Α5 )。隨 後，使保持部152上升’從氣體供應部155噴灑氣體至膜片 Τ，使其表面Ti乾燥。 隨後，藉搬運單元20，將膜片T搬運到轉移單元21， 並以模片搬運體12使其回到模片匣CT (第9圖的步驟A6 ) 。如此結束模片處理裝置1之一連續的模片處理，在模片T 的表面h，以預定的膜厚成膜有沿著轉印圖案C的形狀的 脫模劑S。 根據以上的實施形態，步驟A3中，由於紫外線照射在 模片T的表面Ti，所以可使得該表面T!活化。並且，可一 邊使模片τ的表面Τι活化，一邊對此表面Τι供應表面變性 液Μ，所以可賦予模片Τ的表面Ti多量的羥基。如上述可 使模片T的表面Ti充分地變性，所以在之後的模片τ的表面 ΤΊ與脫模劑S化學結合時，可提升該表面了：與脫模劑S的密 接性。 以上的實施形態中，石英玻璃的模片T雖是使用叔醇 的表面變性液Μ，但是表面變性液Μ可根據基板表面的材 質選擇來最適當的液體。再者，基板表面的材質在基板本 身露出於表面的場合是指該基板本身的材質，在基板的表 面形成膜的場合則是指該基板表面的膜的材質。 -16- 201246375 發明人等努力硏發的結果，可得知例如上述之叔醇， 係不限於石英玻璃，可賦予各種各種材質之基板表面多量 的羥基。可得知例如基板的表面爲鈦（Ti )、鎢（W )、 氧化鋁（Al2〇3)、類鑽碳（DLC)的場合’也可賦予基板 表面多量的羥基。以上的場合，可充分使基板的表面變性 ，所以可提升基板的表面與結合對象物的密接性。例如上 述R施的形態基板爲模片T，結合對象物爲脫模劑S的場合 ，可提升模片T的表面^與脫模劑S的密接性，並可提升脫 模劑S的接觸角，例如至1 1 0度以上。 同樣地，可得知使用鹼溶液，例如氨作爲表面變性液 Μ的場合，不論基板表面的材質爲何，也可賦予基板的表 面多量的羥基。以上的場合，對基板的表面供應鹼溶液， 可蝕刻該基板的表面。並且，對蝕刻後的基板表面一邊照 射紫外線，進一步供應鹼溶液，賦予該基板的表面多量的 羥基。並且，例如上述的實施形態基板爲模片Τ，結合對
象物爲脫模劑S的場合，可提升模片Τ的表面"^與脫模劑S 的密接性，並可提升脫模劑S的接觸角，例如至1 1 0度以上 〇 又，使用過氧化氫水作爲表面變性液Μ的場合，可得 知尤其基板表面的材質爲鎢的場合，可使該基板的表面充 分地變性》以上的場合，對基板的表面供應過氧化氫水， 可蝕刻該基板的表面。並且，對蝕刻後的基板表面一邊照 射紫外線，進一步供應過氧化氫水，賦予該基板的表面多 量的羥基。並且，例如上述的實施形態基板爲模片Τ，結 -17- 201246375 合對象物爲脫模劑S的場合’可提升模片T的表面Ti與脫模 劑S的密接性，並可提升脫模劑S的接觸角，例如至U 8度 的高接觸角。 以上的實施形態中’藉表面變性液Μ進行模片T之表 面ΤΊ的變性與對該表面ΤΊ之脫模劑S的塗抹雖分別是以表 面變性單元30、32和塗抹單元31、33不同的單元進行’但 也可以同一的單元進行。以上的場合，例如在表面變性單 元30內，同時設置表面變性液噴嘴132與脫模劑噴嘴。並 使得模片Τ不在同一的單元內移動，進行藉表面變性液Μ 的模片Τ之表面ΊΊ的變性與對該表面"^之脫模劑S的塗抹。 因此，可提升模片處理之產量的提升。並可簡化模片處理 裝置1的構成。 以上的實施形態，在步驟A3中進行紫外線照射中開始 對模片Τ的表面Τ!之表面變性液Μ的供應，但也可在表面 變性液Μ已供應模片Τ的表面ΊΠ的狀態，開始對模片Τ的表 面Τ!進行紫外線的照射。 以上的場合，爲進行步驟A3，例如使用第1 1圖表示的 表面變性單元30»表面變性單元3 0在側面具備形成有模片 Τ之搬出入口（未圖示）的處理容器200» 處理容器2 00的頂棚面形成有朝向處理容器2 00的內部 供應惰性氣體，例如氮氣用的氣體供應口 2 0 1。在氣體供 應口 201透過氣體供應管202連接供應氮氣的氣體供應源。 並且’處理容器200的內部也可供應氮氣與水蒸氣的混合 氣體。
-18- 201246375 在處理容器200的底面形成有進行處理容器200的內部 周圍環境排氣用的排氣口 204 »排氣口 204透過排氣管205 連接有處理容器200之內部周圍環境真空吸引用的排氣泵 206 ° 處理容器200內的底面設有載放模片T的載放台210。 將模片T載放於載放台210的上面使其表面ΤΊ朝向上方。載 放台210內設有從下方支撐模片T使其升降用的升降銷211 。升降銷211可藉著升降驅動部212上下移動。載放台210 的上面形成有該上面貫穿厚度方向的貫穿孔213，升降銷 211插穿於貫穿孔213。 在處理容器200內的頂棚面，載放台210的上方，設有 對模片T的表面照射例如172 nm波長之紫外線的紫外線照射 部220。配置使紫外線照射部220，例如與載放於載放台 2 10上的模片T的表面T!相對，並包覆該表面ΊΊ全面。 在載放台210與紫外線照射部220之間配置支撐板22 1 。配置使支撐板221，例如與透過預定的間隙載放於載放 台210上的模片T的表面T,相對，並包覆該表面！^全面。另 外，支撐板22 1藉移動機構（未圖示）可在處理容器200內 移動。又，支撐板221是使用紫外線可穿透的透明材料， 本實施形態中使用與模片T相同材料的石英玻璃。 在處理容器200的內部配置有作爲表面變性液供應部 的表面變性液噴嘴23 0，以供應表面變性液Μ至載放於載放 台2 10上的模片Τ的表面心與支撐板221之間。表面變性液 噴嘴23 0是例如配置使其下端部的供應口 230a朝著斜向下 -19- 201246375 方。表面變性液噴嘴230被支撐在臂231上。臂231安裝有 移動機構（未圖示），表面變性液噴嘴230可形成於處理 容器200內。 此外，表面變性單元32的構成與上述表面變性單元30 的構成相同而省略其說明。且模片處理裝置1的其他構成 與上述實施形態之模片處理裝置1的構成相同，因此省略 說明。 接著，針對本實施形態之模片處理裝置1所進行模片 處理加以說明。第12圖表示模片處理的各步驟之模片T的 狀態。並且，本實施形態的模片處理的處理流程與第9圖 表示的處理流程相同。 首先，藉模片搬運體12將匣載放台10上的模片匣CT內 的模片T搬運到轉移單元21 (第9圖的步驟A1)。 隨後，藉搬運單元20，模片T被搬運到表面變性單元 30。將搬入至表面變性單元30的模片T交接於升降銷211， 並載放在載放台210上。接著，從氣體供應口 201供應氮氣 至處理容器200內。此時，從排氣口 204進行處理容器200 之內部周圍環境的排氣，將處理容器200的內部置換成氮 氣的周圍環境。隨後，如第12 (a)圖表示從紫外線照射 部220對模片T的表面"^全面照射紫外線。並除去模片τ的 表面ΤΊ的有機物，洗淨該等模片T的表面Τ!(第9圖的步驟 A2 )。 之後’一旦停止從紫外線照射部2 2 0之紫外線的照射 ’如第12(b)圖表示配置支撐板221透過預定的間隙使模 -20- 201246375 片T的表面^與支撐板221相對。並且，從表面變性液噴嘴 230供應表面變性液Μ至模片Τ的表面^與支撐板221之間 。所供應的表面變性液Μ藉著毛細管現象在模片Τ的表面 ΊΊ與支撐板221之間擴散。接著，如第12 ( c )圖表示在模 片Τ的表面^與支撐板221之間供應表面變性液Μ的狀態下 ，從紫外線照射部220向下方照射紫外線。紫外線通過支 撐板221照射於模片Τ的表面Τ,全面。再者，該步驟A3中， 使處理容器200的內部維持在氮氣周圍環境。並且，藉此 步驟A3，可對模片Τ的表面心賦予多量的羥基，使該表面 ΤΊ變性（第9圖的步驟A3 )。表面Τ,的變性後，停止從紫 外線照射部220之紫外線的照射與表面變性液噴嘴23 0之表 面變性液Μ的供應之後，例如將氮等的惰性氣體或乾燥空 氣等的氣體噴灑於模片Τ的表面Τ,，使該表面Τ,乾燥。並 且，模片T的表面Ti的變性樣態與上述實施形態的步驟A3 的表面變性相同，所以省略詳細的說明。 之後，藉搬運單元20將模片T搬運到塗抹單元31，一 邊對模片T的表面T!照射紫外線，並供應脫模劑S於旋轉中 的模片T上。所供應的脫模劑S藉著離心力在模片T上擴散 ’而塗抹於該模片T的表面T,全面（第9圖的步驟A4)。並 且，該步驟A4與上述實施形態的步驟A4相同而省略詳細 的說明。 之後，藉搬運單元20，將模片T搬運到清洗單元40清 洗，如第12(d)圖表示在模片T上以預定的膜厚沿著轉印 圖案C進行脫模劑S的成膜（第9圖的步驟A5 )。並且，該 -21 - 201246375 步驟A5與上述實施形態的步驟A5相同而省略詳細的說明 〇 之後，藉搬運單元20，將膜片T搬運到轉移單元21， 並以模片搬運體12使其回到模片匣CT (第9圖的步驟A6) 。如此結束模片處理裝置1之一連續的模片處理，在模片T 的表面ΤΊ，以預定的膜厚成膜有沿著轉印圖案C的形狀的 脫模劑S。 本實施形態中，可享受與上述實施形態的效果相同的 效果。即在步驟A3中，一邊對模片T的表面T,照射紫外線 ，並供應表面變性液Μ於該模片T的表面T,，所以可賦予 模片Τ的表面h多量的羥基。 再者，本實施形態的步驟A3中，雖是利用毛細管現象 供應表面變性液Μ至模片T的表面^與支撐板221之間，但 是表面變性液Μ的供應方法不僅限於此，例如也可將表面 變性液Μ壓入於模片Τ的表面1^和支撐板221之間。 又，本實施形態的步驟A3中，在供應表面變性液Μ於 模片Τ的表面ΊΠ與支撐板221之間時，雖一旦停止來自紫外 線照射部220之紫外線的照射，但也可以持續進行該紫外 線的照射。亦即，步驟A2與步驟A3中，可持續進行來自 紫外線照射部220之紫外線的照射。 以上的實施形態在步驟A3中，紫外線雖從支撐部221 側照射到模片T的表面1，但是也可以如第1 3圖表示紫外 線從模片T的內面T2側照射到表面T!。如上述爲照射紫外 線，表面變性單元30也可使模片Τ與支撐板221的上下配置 -22- 201246375 成相反’亦即可將模片T配置在支撐板221的上方。或者， 將配置在處理容器200的頂棚面紫外線照射部22〇配置在模 片Τ的下方。 以上的場合’如第1 3圖表示從模片Τ的內面Τ 2側所照 射的紫外線通過模片Τ ’照射到該模片τ的表面T i。如此對 模片τ的表面T】一邊照射紫外線，並將表面變性液Μ供應 至模片Τ上。如此一來，可賦予模片τ的表面Tl多量的羥基 ，充分地使該表面ΤΊ變性。 根據本實施的形態，由於紫外線從模片T的內面丁2照 射到表面T i，所以紫外線不致被表面變性液μ阻礙而可到 達模片Τ的表面Ti與表面變性液Μ的界面。因此，紫外線 不會因表面變性液Μ而衰減地照射到模片Τ的表面ΤΊ »因 此，可使模片Τ的表面^更有效地變性。 以上的實施形態中，步驟Α2的模片Τ的表面ΤΊ的洗淨 雖是以進行步驟A3的表面變性單元30來進行，但也可以其 他的洗淨單元進行。該洗淨單元是例如配置在模片處理裝 置1的處理塊G1〜G4的任意其中之一。 以上的場合，如第14圖及第15圖表示洗淨單元24 0, 在側面具備形成有模片Τ的搬出入口（未圖示）的處理容 器 250。 在處理容器250內設有吸附保持模片τ的夾頭251 °夾 頭251爲使模片Τ的表面Τι朝向上方’吸附保持著其內面Τ2 。在夾頭251的下方設有夾頭驅動部252。該夾頭驅動部 252是設置在處理容器250內的底面’安裝在沿著¥方向延 -23- 201246375 伸的軌道25 3上。藉此夾頭驅動部2 52可使夾頭251沿著軌 道25 3移動。 在處理容器250內的頂棚面，軌道253的上方，設有對 保持在夾頭25 1的模片T照射紫外線的紫外線照射部2 54。 紫外線照射部254是如第15圖表示延伸於X方向。 並且，搬運至洗淨單元240的模片T爲夾頭251所吸附 保持β接著，藉夾頭驅動部252使模片T沿著軌道253—邊 移動，一邊從紫外線照射部254朝模片Τ照射紫外線。如此 一來，紫外線可照射模片Τ的表面Τ,全面，洗淨模片Τ的表 面ΤΊ。 以上的實施形態雖是在表面變性單元30中，對旋轉中 的模片Τ上供應表面變性液Μ，但是例如也可以使用朝模 片Τ的寬度方向延伸，下面形成有縫隙狀供應口的表面變 性液噴嘴對模片Τ上供應表面變性液Μ。以上的場合，使 得表面變性液噴嘴一邊在模片Τ的邊方向移動，一邊從供 應口供應表面變性液Μ。 以上實施形態的清洗單元40，雖是將模片Τ浸漬於儲 存在浸漬槽1 5 1的有機溶劑內清洗脫模劑S，但是也可使用 與第5圖及第7圖表示的表面變性單元3 0相同構成的清洗單 元。以上的場合，可使用對模片Τ上供應作爲脫模劑S的清 洗液之有機溶劑的清洗液噴嘴來取代表面變性單元30的表 面變性液噴嘴132。 並且，該清洗單元是將有機溶劑供應至旋轉中的模片 Τ上，清洗模片Τ的表面T i全面。經過預定時間時，僅剝離 -24- 201246375
脫模劑S的未反應部，將沿著轉印圖形C的脫模劑S成膜在 模片T上。隨後，停止有機溶劑的供應之後，並持續地旋 轉模片T，使其表面Ή擺動乾燥。如此一來，可清洗模片T 上的脫模劑S。 以上的實施形態是在步驟Α4中，對模片Τ的表面Τ!-邊照射紫外線，並將脫模劑S塗抹於該表面Τ!，但是使模 片Τ的表面1\與脫模劑S具密接性的方法不僅限於此。例如 也可以在模片Τ的表面h塗抹脫模劑S，將該脫模劑S加熱 。或者，也可在模片T的表面T!塗抹脫模劑S之後，在脫模 劑S上塗抹乙醇。其中任一的場合，皆可使模片T的表面T, 與脫模劑S密接。 以上的實施形態在處理站3中，雖是藉搬運單元20搬 運模片T，但也可使用所謂平行流動式在搬運輥上搬運模 片T。以上的場合，在處理站3依照表面變性單元、塗抹單 元、清洗單元的順序配置。並將由模片搬出入站2所搬出 的模片T藉著使用搬運輥的搬運依序搬運至該等處理單元 。各處理單元中，對搬運中的模片T進行預定的處理。如 此一旦在模片T上成膜有脫模劑S時，使模片T回到模片搬 出入站2，結束~連續的模片處理。此時，各處理單元中 在模片T的搬運中進行預定的處理，所以可更爲提升模片 處理的良率。 以上實施形態的模片處理裝置1也可如第16圖表示配 置在壓印系統300。壓印系統3 00，具有：使用模片T在作 爲其他基板的晶圓W上形成抗蝕圖形的壓印單元310，及 -25- 201246375 將複數’例如25片的晶圓W爲匣單位搬出入於外部與壓印 系統300之間，或相對於晶圓匣Cw進行晶圓W搬出入的晶 圓搬出入站311。並在模片處理裝置1與壓印單元310之間 ’配置有進行模片T交接的接口站312。壓印系統300具有 —體連接該等模片處理裝置1、接口站312、壓印單元310 、晶圓搬出入站311的構成。 晶圓搬出入站311設有匣載放台320。匣載放台320將 複數的晶圓匣Cw成一列自由載放於X方向（第16圖中的上 下方向）。亦即，晶圓搬出入站311構成可保有複數的晶 圓W。 晶圓搬出入站311設有可在X方向延伸的搬運道321上 移動的晶圓搬運體322。晶圓搬運體322也可在垂直方向及 垂直方向周圍（0方向）自由移動，可在晶圓匣Cw與壓印 單元3 1 0之間搬運晶圓W。 晶圓搬出入站311進一步設有調整晶圓W方向的調節 單元323。調節單元323例如根據晶圓W的凹口部的位置調 整晶圓W的方向。 接口站312設有在X方向延伸的搬運道330上移動的模 片搬運體331。並在搬運道330的X方向正方向側，配置使 模片T的表內面反轉的反轉單元332，在搬運道330的X方向 負方向側，配置有臨時保管複數模片T的緩衝匣3 3 3。模片 搬運體331也可在垂直方向及垂直方向周圍（0方向）自 由移動，並可在處理單元3、反轉單元332、緩衝匣333、 壓印單元310之間搬運模片T。 -26- 5 201246375 模片處理裝置1的處理站3配置有轉移單元334，作爲 在搬運單元20的接口站312側進行模片T的交接之用》 接著，針對上述壓印單元310的構成說明。壓印單元 310如第17圖表示具備在側面形成有模片T的搬出入口（未 圖示）與晶圓W的搬出入口（未圖示）的處理容器3 40。 處理容器3 40內的底面設有載放晶圓W並加以保持的 晶圓保持部341。將晶圓W載放在晶圓保持部341的上面使 其被處理面朝向上方。在晶圓保持部34 1內設有從下方支 撐晶圓W使其升降用的升降銷342。升降銷3 42可藉著升降 驅動部3 43上下移動。晶圓保持部341的上面形成有使得該 上面貫穿厚度方向的貫穿孔3 44，升降銷3 42形成可插穿貫 穿孔344。又，晶圓保持部341藉著設置在該晶圓保持部 341下方的移動機構345，可在水平方向移動，並可在垂直 周圍自由旋轉。 如第18圖表示在晶圓保持部341的X方向負方向（第18 圖的下方）側，設置沿Y方向（第18圖的左右方向）延伸 的軌道350。軌道35 0是例如從晶圓保持部341的Y方向負方 向（第18圖的左方向）側的外方形成至Y方向正方向（第 18圖的右方向）側的外方爲止。軌道35 0安裝著臂351。 臂351支撐有供應抗蝕液至晶圓W上的抗蝕液噴嘴352 。抗蝕液噴嘴3 5 2例如具有和晶圓W的直徑尺寸相同或較 長，沿著X方向的細長形狀。抗蝕液噴嘴3 52例如使用噴墨 方式的噴嘴，在抗蝕液噴嘴3 52的下部，沿著長方向形成 有成一列所形成的複數個供應口（未圖示）。並且，抗蝕 -27- 201246375 液噴嘴3 52可嚴密控制抗蝕液的供應時間、抗蝕液的供應 量等。 臂351藉噴嘴驅動部353，可自由移動於軌道350上。 藉此，抗蝕液噴嘴352可從設置在晶圓保持部341的Y方向 正方向側外方的待機部3 5 4移動至晶圓保持部341上的晶圓 W的上方爲止，並可在該晶圓W的表面上朝著晶圓W的徑 向移動。又，臂351可藉著噴嘴驅動部353自由升降，調整 抗蝕液噴嘴3 52的高度。 處理容器340內的頂棚面，在晶圓保持部341的上方， 如第17圖表示設有保持模片T的模片保持部3 60。亦即，配 置晶圓保持部341與模片保持部3 60，使載放於晶圓保持部 341的晶圓W與保持在模片保持部3 60的模片T相對。又， 模片保持部360具有吸附保持著模片T的內面T2外圍部的夾 頭361。夾頭361藉設置於該夾頭361上方的移動機構362, 可在垂直方向自由移動，並可在垂直周圍自由旋轉。藉此 ，模片Τ可相對於晶圓保持部341上的晶圓W朝著預定的方 向旋轉升降。 模片保持部360具有設置在被保持於夾頭361的模片Τ 上方的光源3 63。由光源363例如發出可視光、近紫外線光 、紫外線等的光，來自該等光源3 63的光會穿透模片Τ朝向 下方照射。 本實施形態的壓印系統3 00是如以上的構成。接著， 說明以其壓印系統300進行的壓印處理。第19圖表示該壓 印處理的主要處理流程，第20圖表示該壓印處理的各步驟
-28- 201246375 的模片T與晶圓W的狀態。 首先，藉模片搬運體12，將模片T從模片搬出入站2朝 著處理站3搬運（第19圖的步驟B1)。在處理站3依序進行 模片T的表面h的洗淨（第19圖的步驟B2)、紫外線朝著 表面Ti的照射及供應表面變性液Μ至表面Ή之表面h的變 性（第19圖的步驟B3 )、紫外線朝著表面T!的照射及對表 面ΊΊ之脫模劑S的塗抹（第19圖的步驟B4)、脫模劑S的清 洗（第19圖的步驟B5)，在模片T的表面T!進行脫模劑S的 成膜。並且，該等步驟B2〜B5與上述實施形態的步驟 A2〜A5相同，因此省略其詳細說明。 將進行脫模劑S成膜後的模片T搬運到轉移單元334 » 接著，模片T藉著接口站312的模片搬運體331，搬運到反 轉單元3 32，使模片T的表內面反轉。亦即，使模片T的內 面丁2朝向上方。隨後，模片T藉著模片搬運體331被搬運至 壓印單元310，吸附保持在模片保持部360的夾頭361。 如上述處理站3中對模片T進行模片處理，在模片T朝 著壓印單元310的搬運中，晶圓搬出入站311藉著晶圓搬運 體322，從匣載放台3 20上的晶圓匣CW取出晶圓W，搬運到 調節單元323。並且，在調節單元323中，根據晶圓W凹口 部的位置，調整晶圓W的方向。隨後，藉晶圓搬運體322 將晶圓W搬運至壓印單元310(第19圖的步驟B6)。再者 ，晶圓搬出入站311中，收容晶圓匣Cw內的晶圓W使其被 處理面朝著上方，在此狀態下將晶圓W搬運到壓印單元 3 10。 -29- 201246375 搬入至壓印單元310的晶圓W交接於升降銷342， 放在晶圓保持部341上保持。接著，使保持在晶圓保 34 1的晶圓W移動到水平方向的預定位置定位之後， 蝕液噴嘴3 52朝著晶圓W的徑向移動，如第20 ( a)圖 在晶圓W上塗抹抗蝕液，形成抗蝕膜R (第19圖的步 )。此時，藉控制部1 60，控制抗蝕液噴嘴3 52所供應 蝕液的供應時間與供應量。亦即，形成在晶圓W上的 圖形中，塗抹使得塗抹於對應凸部的部份（對應於榜 的轉印圖形C的凹部的部份）之抗蝕液的量多，且塗 對應凹部的部份（對應於轉印圖形C的凸部的部份） 蝕液的量少。如此，即可對應轉印圖形C的開口率將 液塗抹在晶圓W上。 在晶圓W上形成抗蝕膜R時，使得保持在晶圓保 34 1的晶圓W在水平方向的預定位置移動進行定位， 保持在模片保持部3 60的模片T朝著預定的方向旋轉。 ，如第20 ( a )圖箭頭表示使模片T朝晶圓W側下降。 T下降到預定的位置爲止，將模片T的表面^壓接於晶 上的抗蝕膜R»另外，該預定的位置是根據形成在晶 上的抗蝕圖形的高度來設定。接著，從光源3 63照射 來自光源3 63的光如第20 ( b )圖表示穿透模片T照射 圓W上的抗蝕膜R，藉以使抗蝕膜R光聚合。如此，將 T的轉印圖形C轉印到晶圓W上的抗蝕膜R，形成抗蝕 (第19圖的步驟B8)。 接著，如第20 ( c )圖表示使模片T上升，在晶圓 並載 持部 將抗 表示 驟B7 之抗 抗蝕 【片T 抹於 之抗 抗蝕 持部 並將 並且 模片 圓W 圓W 光。 在晶 膜片 3形P W上 -30- 201246375 形成抗鈾圖形P。此時，由於在模片T的表面h塗抹有脫模 劑S，所以晶圓W上的抗蝕劑不會附著在模片T的表面ΊΠ。 之後，晶圓W藉升降銷342交接於晶圓搬運體3 22，從壓印 單元3 1 0搬運到晶圓搬出入站3 1 1，回到晶圓匣Cw (第1 9圖 的步驟B9 )。另外，在形成於晶圓W上的抗蝕圖形p的凹 部雖有殘留薄抗蝕劑的殘存膜L的場合，但例如也可在壓 印系統300的外部，如第20 (d)圖表示除去該殘存膜L。 重複進行以上的步驟B6〜B9 (第19圖中的點線圍繞的 部份），使用一膜片T，在複數的晶圓W上分別形成抗蝕 圖形P。在此期間，重複進行上述的步驟B1〜B5，在複數 的模片T的表面h上進行脫模劑S的成膜。將脫模劑S成膜 後的模片T保管於接口站312的緩衝匣333。 並且，對預定片數的晶圓W進行步驟B6~B9時，藉模 片搬運體331從壓印單元310搬出已使用的模片T，並搬運 到反轉單元332 (第19圖的步驟B10)。接著，藉模片搬運 體3 3 1，將緩衝匣3 3 3內的模片T搬運到壓印單元3 1 0。如此 ，即可更換壓印單元310內的模片T。再者，更換模片T的 時間可考慮模片T的劣化等設定。又，在晶圓W形成不同 抗蝕圖形P的場合，也可更換模片T。並且，例如也可每使 用一次模片T即更換該模片T。或者，例如也可每片晶圓W 即更換模片T，例如也可以各批更換模片T。 將搬運到反轉單元3 32之已使用模片T的表內面反轉。 之後，藉模片搬運體331、搬運單元20、模片搬運體12, 使模片T回到模片匣CT。如此，在壓印系統300中，可一邊 -31 - 201246375 連續更換模片T，並可對複數的晶圓W連續形成預定的抗 蝕圖形p。 以上實施形態的壓印系統300具有模片處理裝置1，所 以在壓印系統3 00中，在模片T上一邊進行脫模劑S的成膜 ，並可將該模片T連續地供應壓印單元3 1 0。藉此，例如在 模片T劣化之前，或者在複數的晶圓W上形成不同抗蝕圖 形P的場合，皆可連續且有效地更換壓印單元310內的模片 T。因此，可對複數的晶圓W連續形成預定的抗鈾圖形P。 並可藉此實現半導體裝置的量產化。 以上的實施形態中，爲密接作爲基板的模片T的表面 ΤΊ與脫模劑S雖使得該表面ή變性，但本發明也可運用於 其他基板之表面的變性時》 例如近年來，隨著半導體裝置的高積體化，提出一種 使用將此半導體裝置層疊成三維的三維積體技術》該三維 積體技術是例如進行以2片基板的半導體晶圓（以下，稱 「晶圓」）的接合。以上的場合，以水解縮合結合形成於 晶圓W上的羥基彼此間，可牢固接合晶圓彼此間。由於可 更牢固進行該晶圓彼此間的結合，因此例如可進行對晶圓 照射氧等離子，在該晶圓上形成更多量的羥基。但是，此 時，因氧等離子會有對晶圓的表面造成物理性的損傷或充 電損傷之虞。對於該點，如本發明一邊對晶圓的表面照射 紫外線，一邊供應表面變性液時，可賦予該晶圓表面多量 的羥基。因此，根據本發明不會對晶圓的表面造成傷害可 進行該晶圓表面的變性，本發明並有利於上述晶圓的接合 -32- 201246375 並且’本發明也可運用於例如基板爲FPD (平面顯示 器）、光掩膜用的掩膜原版等其他的基板的場合。 另外’本發明也可運用在基板與其他的對象結合物， 例如其他的矽烷偶合劑結合的場合。亦即，賦予基板的表 面多量的羥基’可促進該基板的表面與矽烷偶合劑的結合 〇 以上’一邊參閱添附圖示針對本發明的較佳實施形態 已作說明，但是本發明不僅限於上述的例。該業者在申請 專利範圍記載的思想範疇內，所可思及之各種的變更例或 修正例等，當然皆屬於本發明之技術範圍內。 【圖式簡單說明】 第1圖表示本實施形態有關的模片處理裝置之構成槪 略的上視圖。 第2圖表示本實施形態有關的模片處理裝置之構成槪 略的側視圖。 第3圖表示本實施形態有關的模片處理裝置之構成槪 略的側視圖。 第4圖爲模片的透視圖。 第5圖表示表面變性單元之構成槪略的縱剖視圖。 第6圖表示保持構件之構成槪略的上視圖。 第7圖表示表面變性單元之構成槪略的橫剖視圖。 第8圖表示清洗單元之構成槪略的縱剖視圖。 -33- 201246375 第9圖表示模片處理之各步驟的流程圖。 第10圖爲模式表示模片處理的各步驟之模片狀態的說 明圖，（a)是表示洗淨模片表面的樣子，（b)是表示紫 外線一邊照射模片的表面，並對該模片的表面供應表面變 性液的樣子，（c ) 是表示紫外線一邊照射模片的表面， 並對該模片的表面塗抹脫模劑的樣子，（d)是表示脫模 劑成膜在膜片上的樣子》 第11圖表示其他實施形態的表面變性單元之構成槪略 的縱剖視圖。 第12圖爲模式表示其他實施形態之模片處理的各步驟 的模片狀態的說明圖，（a)是表示洗淨模片表面的樣子 ，（b)是表示對模片的表面與支撐板之間供應表面變性 液的樣子，（c) 是表示在對模片的表面供應表面變性液 的狀態，對於該模片的表面照射紫外線的樣子，（d)是 表示將脫模劑成膜於膜片上的樣子。 第1 3圖表示紫外線從模片的內面側照射至表面的樣子 的說明圖。 第14圖表示洗淨單元之構成槪略的縱剖視圖。 第1 5圖表示洗淨單元之構成槪略的橫剖視圖。 第16圖表示具備本實施形態的模片處理裝置的壓印系 統之構成槪略的上視圖。 第1 7圖表示壓印單元之構成槪略的縱剖視圖。 第1 8圖表示壓印單元之構成槪略的橫剖視圖。 第19圖表示壓印處理之各步驟的流程圖。 -34- 201246375 第20圖爲模式表示壓印處理之各步驟的模片與晶圓的 狀態的說明圖，（a)是表示在晶圓上塗抹抗蝕液的樣子 ’ （b)是表示光聚合於晶圓上的抗蝕膜的樣子，（c)是 表示晶圓上形成有抗蝕圖形的樣子，（d)是表示除去晶 圓上的殘餘膜的樣子。 【主要元件符號說明】 1 :模片處理裝置 30、 32 :表面變性單元 31、 33 :塗抹單元 4〇~43 :清洗單元 1 3 2 :表面變性液噴嘴 140 :紫外線照射部 160 :控制部 220 :紫外線照射部 221 :支撐板 23 0:表面變性液噴嘴 C :轉印圖形 Μ :表面變性液 ρ :抗蝕圖形 R :抗蝕膜 s :脫模劑 τ :模片 w :晶圓 35-