TW201109459A - Sputtering device - Google Patents

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201109459 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 [0001] 本發明涉及_驗，特_及—種心給基板表面鑛 膜之鍍膜裝置。 【先前技術】 [0002] 隨著各種電子產品之飛速發展，消費群體對電子產品之 要求愈來愈高，例如電子產品外觀色彩、電磁遮罩功能 、防氧化腐蝕功能等等。因此，電子產品各零元件之鍍 〇 膜處理技術顯得愈來愈重要，鍍膜品質之好壞直接影響 著電子產品上述各種性能之優劣。 . [0003] 並且，隨著對鍍膜品質之要求不斷提高，對一些較為重 要之零組件，需要鍍上兩種或兩種以上不同之膜層，以 使得電子產品具有更優越之性能。目前，於需要鍍多種 膜層時，一般為先於一鍍膜裝置中鍍上第一膜層，然後 再拿出來放到另一鍍膜裝置中鍍上第二膜層。然而，由 於鍍膜基板於鍍上第一膜層與第二臈層之間需要暴露於 〇 外界空氣中，因此很可能造成第一膜層與第二膜層間之 結合力.不佳，進而影響膜層品質及其性能，並且其鍍膜 效率相對較低。 [0004] 有鑑於此，提供一種鍍膜效率較高、膜層品質及性能較 佳之鍍膜裝置實屬必要。 【發明内容】 [0005] 下面將以具體實施例說明一種鍍膜裝置。 [0006] 一種鍍膜裝置，包括第一鍍膜腔體、第二鍍膜腔體、緩 098130645 表單編號A0101 第3頁/共19頁 0982052594-0 201109459 衝腔體、阻隔體、直線驅動裝置，該緩衝腔體與該第一 鍍膜腔體、第二鍍膜腔體相連，該緩衝腔體包括與第一 鍍膜腔體、第二鍍膜腔體相對之主腔體以及與該主腔體 相連通之輔腔體，該阻隔體收容於該輔腔體内，該直線 驅動裝置固定於該輔腔體並與該阻隔體相連接，該直線 驅動裝置驅動該阻隔體移動至該主腔體内以阻斷第一鍍 膜腔體與第二鍍膜腔體間之氣體流通。 [0007] 相較於先前技術，本技術方案之鍍膜裝置利用緩衝腔體 連接於第一鍍膜腔體與第二鍍膜腔體之間，其中該緩衝 腔體包括與第一鍍膜腔體、第二鍍膜腔體相對之主腔體 以及與該主腔體相連通之輔腔體，利用直線驅動裝置可 驅動收容於輔腔體内之阻隔體移動至主腔體内以阻斷第 « 一鍍膜腔體與第二鍍膜腔體間之氣體流通，使得待鍍基 板於第一腔體鍍完第一膜層後可進入到第二腔體内繼續 鍍上第二膜層，從而可實現連續鍍膜之目的，提高鍍膜 效率；並且，由於阻隔體之阻隔作用，於第一鍍膜腔體 或第二鍍膜腔體鍍膜過程中可有效防止兩腔體間之相互 污染。 【實施方式】 [0008] 下面將結合附圖與實施例對本技術方案之鍍膜裝置作進 一步詳細說明。 [0009] 本技術方案實施例提供之鍍膜裝置100，包括第一鍍膜腔 體10、第二鍍膜腔體20、緩衝腔體30、阻隔體40、直線 驅動裝置50。緩衝腔體30與第一鍍膜腔體10、第二鍍膜 腔體20相連通。緩衝腔體30包括與第一鍍膜腔體10、第 098130645 表單編號A0101 第4頁/共19頁 0982052594-0 201109459 [0010] 二鍍膜腔體20相對之主腔體32以及與該主腔體相連通之 輔腔體34。阻隔體40收容於輔腔體34内。直線驅動裝置 50固定於輔腔體34並與阻隔體40相連接，直線驅動裝置 50驅動阻隔體40移動至主腔體32内以阻斷第一鍍膜腔體 10與第二鍍膜腔體20之間之氣體流通。 具體地，請參閱圖卜4，第一鍍膜腔體10具有與缓衝腔體 3 0相對之側壁11以及與側壁11相連接之底壁12。第一鍍 膜腔體10之侧壁11與底壁12圍合形成一收容腔101。本 ❹ 實施例中，底壁12上開設有用於放置鍍膜材料之凹槽122 〇 、 [0011] 第一鍍膜腔體10之侧壁11上設置有第一旋轉螺桿61。第 一旋轉螺桿61可相對第一鍍膜腔體10轉動。第一旋轉螺 桿61沿第一鍍膜腔體10之中心軸線向緩衝腔體30方向延 伸，且第一旋轉螺桿61不超出第一鍍膜腔體10。第一旋 轉螺桿61表面設置有外螺紋。 Ο _] 第一鍍膜腔體10還設置有第一伸縮桿71。第一伸縮桿71 之一端固定於侧壁11上。第一伸縮桿71位於第一旋轉螺 桿61之一側，第一伸縮桿71可沿平行於第一鍍膜腔體10 中心軸線之方向伸縮。第一伸縮桿71設置之數量並無特 殊限定，其可為一個、兩個或多於兩個。本實施例中之 鍍膜裝置100設置有兩個第一伸縮桿71。 [0013] 收容腔101内收容有基板固定座80。基板固定座80開設有 與第一旋轉螺桿61相螺合之螺紋孔802，以及與第一伸縮 桿71相配合之固定孔804。基板固定座80藉由螺紋孔802 098130645 表單編號Α0101 第5頁/共19頁_ 0982052594-0 201109459 螺合固定至第一旋轉螺桿61，從而基板固定座8〇可於第 一旋轉螺桿61之帶動下以該第一旋轉螺桿61為軸轉動。 第一伸縮桿71伸長卡合於固定孔8〇4後，由於基板固定座 80不此轉動’基板固定座可向緩衝腔體方向移動並 逐漸與第一旋轉螺桿61相分離。 [0014] 基板固定座80上還開設有複數基板收容槽8〇6。基板收容 槽806與底壁12上之凹槽122相對，用於收容待鍍膜之基 板（圖未示）。本實施例中’該複數基板收容槽8〇6設置 成兩排，該兩排基板收容槽8〇6分別位於基板固定座80相 對之兩侧。當然，該基板固定座8 Q上還可開設一排或多 於兩排之基板收容槽806，其並赛特殊限定。另外，該複 數基板收容槽806還可以不規則夫排布方式開設於基板收 容座80上。 [0015] 第二鍍膜腔體20與第一鍍膜腔體10之結構類似。 [0016] 第一錄膜腔體20同樣具有底壁21以及與底壁21相連接之 侧壁22。底壁21與側壁22圍合形成一收容腔2(n。本實 施例中’側壁22上開設有用於放置鍍膜材料之凹槽222。 [0017] 弟一鍍膜腔體20之側壁21上設置有第二旋轉螺桿62。第 二旋轉螺桿6 2可相對第一鍍膜腔體2 〇轉動。第二旋轉螺 桿62沿第二鍵膜腔體20之中心轴線向緩衝腔體方向延 伸’且第二旋轉螺桿62不超出第二鍍膜腔體。第二旋 轉螺桿62表面設置有外螺紋。 [0018] 第二鍍膜腔體20還設置有第二伸縮桿72。第二伸縮桿μ 之一 :¾¾固疋於側壁21上第一伸知s桿7 2位於第二旋轉螺 098130645 表單編號A0101 第6頁/共19頁 0982052594-0 201109459 [0019] ❹ [0020] 〇 [0021] [0022] 桿62之一側，第二伸縮桿72可沿平行於第二鍍膜腔體20 中心軸線之方向伸縮。第二伸縮桿7 2設置之數量亦並無 特殊限定，其可為一個、兩個或多於兩個。本實施例中 之鍍膜裝置100設置有兩個第二伸縮桿72。 當第一旋轉螺桿61與第一伸縮桿71配合將基板固定座80 移動至緩衝腔體30時，第二伸縮桿72伸長至與基板固定 座80之固定孔804内，第二旋轉螺桿62開始與基板固定座 80之螺紋孔802相螺合。基板固定座80與第一旋轉螺桿 61及第一伸縮桿71相分離，並於第二旋轉螺桿62與第二 伸縮桿72之配合下向第二鍍膜腔體20移動至基板固定座 80完全收容於收容腔201内，最後第二伸縮桿72收縮並與 固定孔804相分離。 本實施例中，緩衝腔體30包括一個與第一鍍膜腔體10、 第二鍍膜腔體20相對之主腔體32以及與主腔體32相連通 之兩個輔腔體34。兩個輔腔體34對稱設置於主腔體32相 對之兩側。 主腔體32之兩端分別與第一鍍膜腔體10、第二鍍膜腔體 20相連。基板固定座80通過主腔體32從第一鍍膜腔體10 移動至第二鍍膜腔體20，或者從第二鍍膜腔體20移動至 第一鍍膜腔體10。 輔腔體34具有與主腔體32相對之底壁341以及連接該底壁 341之側壁342。本實施例中，輔腔體34與主腔體32軸線 垂直之一個側壁342上開設有通孔302。通孔302之橫截 面為半圓形。當然，該通孔302之開設並非必需，其亦可 098130645 表單編號Α0101 第7頁/共19頁 0982052594-0 201109459 以沒有通孔3 0 2。 [0023] 本實施例中，阻隔體40為兩個，其分別收容於兩個輔腔 體34内。兩個阻隔體40均為半圓柱體，且半徑相等。阻 隔體40於主腔體32轴線方向之長度等於輔腔體34於主腔 體32軸線方向之寬度。從而當阻隔體40經由通孔302進入 到輔腔體34後，‘阻隔體40可與主腔體32軸線垂直之兩相 對側壁42緊密接觸。 [0024] 直線驅動裝置50之一端固定於輔腔體34之底壁341，另一 端連接至阻隔體40。直線驅動裝置50可驅動阻隔體40向 靠近主腔體32或遠離主腔體32之方向移動。直線驅動裝 置50可為直線驅動機械馬達、直線驅動液壓馬達或直線 驅動氣動馬達等。 [0025] 此外，阻隔體40亦可為一個，該阻隔體40與主腔體32之 尺寸大小相匹配，例如阻隔體40可為圓柱體。相對應地 ，輔腔體34與直線驅動裝置50亦只需要一個。 [0026] 鍍膜裝置100之工作過程如下：首先，如圖4所示，將待 鍍基板放置固定於基板固定座80上之基板收容槽806，將 基板固定座80旋合固定至第一旋轉螺桿61，直線驅動裝 置50驅動阻隔體40向主腔體32方向移動，直至阻隔體40 到達主腔體32並阻斷第一鍍膜腔體10與第二鍍膜腔體20 之間之氣體流通，第一旋轉螺桿61帶動基板固定座80旋 轉以於第一鍍膜腔體10内進行鍍膜並於待鍍基板上形成 第一膜層；接著，如圖5所示，直線驅動裝置50驅動阻隔 體40向遠離主腔體32方向移動，阻隔體40收容至輔腔體 098130645 表單編號Α0101 第8頁/共19頁 0982052594-0 201109459 Ο 34内，第一伸縮桿71伸長並與基板固定座80之固定孔 804卡合，第一旋轉螺桿61轉動以使得基板固定座80向主 腔體32移動直至與第一旋轉螺桿61相分離；然後，如圖6 所示，第二伸縮桿72伸長至與基板固定座80之固定孔804 相卡合，第二旋轉螺桿62與基板固定座80之螺紋孔802相 螺合併帶動基板固定座80向第二鍍膜腔體20移動，直至 基板固定座80完全收容於第二鍍膜腔體20内，第二伸縮 桿72收縮至與基板固定座80之固定孔804相分離，直線驅 動裝置50驅動阻隔體40至主腔體32内以阻斷第一鍍膜腔 體10與第二鍍膜腔體20之間之氣體流通；最後，第二旋 轉螺桿62帶動基板固定座80旋轉以於第二鍍膜腔體20内 進行鍍膜並於待鍍基板上形成第二膜層。 [0027] 此外，該鍍膜裝置100還可以設置多於兩個之鍍膜腔體， 而每兩個鍍膜腔體之間設置有緩衝腔體30，從而可實現 對待鍍基板進行多層鍍膜之目的。 [0028] Ο 相較於先前技術，本技術方案之鍍膜裝置利用緩衝腔體 連接於第一鍍膜腔體與第二鍍膜腔體之間，其中該緩衝 腔體包括與第一鍍膜腔體、第二鍍膜腔體相對之主腔體 以及與該主腔體相連通之輔腔體，利用直線驅動裝置可 驅動收容於輔腔體内之阻隔體移動至主腔體内以阻斷第 一鍍膜腔體與第二鍍膜腔體之間之氣體流通，使得待鍍 基板於第一腔體鍍完第一膜層後可進入到第二腔體内繼 續鍍上第二膜層，從而可實現連續鍍膜之目的，提高鍍 膜效率；並且，由於阻隔體之阻隔作用，於第一鍍膜腔 體或第二鍍膜腔體鍍膜過程中可有效防止兩個腔體之間 098130645 表單編號Α0101 第9頁/共19頁 0982052594-0 201109459 之相互污染。 [0029] 综上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提 出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施方 式，自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本 案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化 ，皆應涵蓋於以下申請專利範圍内。 【圖式簡單說明】 [0030] 圖1係本技術方案實施例提供之鍍膜裝置之組裝圖。 [0031] 圖2係圖1之鍍膜裝置之第一分解示意圖。 [0032] 圖3係圖1之鍍膜裝置之第二分解示意圖。 [0033] 圖4係本技術方案實施例提供之鍍膜裝置之第一鍍膜狀態 示意圖。 [0034] 圖5係本技術方案實施例提供之鍍膜裝置之第二鍍膜狀態 示意圖。 [0035] 圖6係本技術方案實施例提供之鍍膜裝置之第三鍍膜狀態 示意圖。 【主要元件符號說明】 [0036] 鍍膜裝置：100 [0037] 第一鍍膜腔體：10 [0038] 側壁：11、21、342 [0039] 底壁：12、22、341 [0040] 收容腔：101、201 098130645 表單編號A0101 第10頁/共19頁 0982052594-0 201109459 [0041]凹槽：122、222 [0042] 第二鍍膜腔體：20 [0043] 緩衝腔體：30 [0044] 主腔體：32 [0045] 輔腔體：34 [0046] 通孔：30 2 [0047] 〇 阻隔體：40 [0048] 直線驅動裝置：50 • [0049] 第一旋轉螺桿：61 [0050] 第二旋轉螺桿：62 [0051] 第一伸縮桿：71 [0052] 第二伸縮桿：72 〇 剛 基板固定座.8 0 [0054] 螺紋孔：802 [0055] 固定孔：804 [0056] 基板收容槽：806 098130645 表單編號A0101 第Π頁/共19頁 0982052594-0

Claims (1)

1. 201109459 七、申請專利範圍： 1 . 一種鍍膜裝置，包括第一鍍膜腔體、第二鍍膜腔體、緩衝 腔體、阻隔體、直線驅動裝置，該緩衝腔體與該第一鍍膜 腔體、第二鍍膜腔體相連，該緩衝腔體包括與第一鍍膜腔 體、第二鍍膜腔體相對之主腔體以及與該主腔體相連通之 輔腔體，該阻隔體收容於該輔腔體内，該直線驅動裝置固 定於該輔腔體並與該阻隔體相連接，該直線驅動裝置驅動 該阻隔體移動至該主腔體内以阻斷第一鍍膜腔體與第二鍍 膜腔體間之氣體流通。 2 .如申請專利範圍第1項所述之鍍膜裝置，其中，該第一鍍 膜腔體内設置有第一旋轉螺桿，第一旋轉螺桿沿第一鍍膜 腔體之中心轴線向緩衝腔體方向延伸且第一旋轉螺桿不超 出第一鍍膜腔體，第一旋轉螺桿可相對第一鍍膜腔體轉動 ，該第二鍍膜腔體内設置有第二旋轉螺桿，第二旋轉螺桿 沿第二鍍膜腔體之中心軸線向緩衝腔體方向延伸且第二旋 轉螺桿不超出第二鍍膜腔體，第二旋轉螺桿可相對第二鍍 膜腔體轉動。 3 .如申請專利範圍第2項所述之鍍膜裝置，其中，該第一鍍 膜腔體具有與緩衝腔體相對之侧壁以及與該侧壁相連接之 底壁，該第二鍍膜腔體亦具有與緩衝腔體相對之侧壁以及 與側壁相連接之底壁，該第一旋轉螺桿設置於第一鍍膜腔 體之側壁上，該第二旋轉螺桿設置於第二鍍膜腔體之侧壁 上。 4 .如申請專利範圍第3項所述之鍍膜裝置，其中，該第一鍍 膜腔體與第二鍍膜腔體之底壁上均開設有用於放置鍍膜材 098130645 表單編號A0101 第12頁/共19頁 0982052594-0 201109459 料之凹槽。 5 .如申請專利範圍第3項所述之鍍膜裝置，其中，該第一鍍 膜腔體形成有收容腔，該收容腔内收容有基板固定座，該 基板固定座開設有與第一旋轉螺桿相螺合之螺紋孔，基板 固定座藉由該螺紋孔螺合固定至第一旋轉螺桿。 6 .如申請專利範圍第5項所述之鍍膜裝置，其中，該第一鍍

   膜腔體設置有第一伸縮桿，該第一伸縮桿之一端固定於第 一鍍膜腔體之侧壁上，該第一伸縮桿位於第一旋轉螺桿之 一側，該第一伸縮桿可沿平行於第一鍍膜腔體中心轴線之 方向伸縮。 7.如申請專利範圍第6項所述之鍍膜裝置，其中，該基板固 定座開設有與該第一伸縮桿相配合之固定孔。 8 .如申請專p範圍第5項所述之鍍膜裝置，其中，該第二鍍 膜腔體設置有第二伸縮桿，該第二伸縮桿之一端固定於第 二鍍膜腔體之侧壁上，該第二伸縮桿位於第二旋轉螺桿之 一側，該第二伸縮桿可沿平行於第二鍍膜腔體中心軸線之 方向伸縮。 9.如申請專利範圍第1項所述之鍍膜裝置，其中，該輔腔體 之數量為兩個，該兩個輔腔體對稱設置於主腔體之兩側。 10 .如申請專利範圍第1項所述之鍍膜裝置，其中，該阻隔體 為兩個，該兩個阻隔體分別收容於該兩個輔腔體内，該兩 個阻隔體均為半圓柱體，且半徑相等。 0982052594-0 098130645 表單編號A0101 第13頁/共19頁