TW201037355A - Apparatus for homogenizing coherent radiation - Google Patents
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Description
201037355 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關一種用於均質同調光線的光學設備,尤 其是用於均質雷射輻射。 【先前技術】 -亥=¾彙「光線」在此應共同地解讀為電磁輻射,亦即 特別是亦包含電磁頻譜的非可見波長。尤其本發明是關於 輻射’像是可利用倍頻固態雷射所產生者。即如熟諳光學 領域之人士所皆知#,轄射在空間和時間上的分布可由一 ϋ r及一相位冲,〇所描述,即—具有複數值的振幅 (在此並未將光線的偏極狀態納入考量)。「同 調光線」#特徵為在-由該應用項目所決定之空間或時間 覆蓋内的相位iKhi)相關性。 由一雷射所發射的輻射為同調光線的一種重要應用項 。目。根據應用項目而定,對於該輻射截面内之一區域上的 單色性或高功率亦為重要的輕射性質。功率與在時間平均 值上的該振幅之絕對值的平方丨制2成正比,並且被稱為輻 射強度。這些應用項目例如包含薄㈣的結晶。本發明是 特別關於此一運用。鼻此,—& A , 马此,該輻射之截面内的強度的均勻 刀布對於獲得固定的内徑深序 / _ 木度、直徑或邊緣(即邊圈)品質而 言確為必要。同時,例如僮β 像疋遮罩投射方法的應用項目 要求均勻的強度分布。 雷射輻射通常具有一非 非均勻強度分布,這稱為「非均 201037355 質輪廊」。對於複數個雷射源而言即屬如此。故例如由許 多類型之雷射所發射的輻射在沿-第-軸線的方向上且有 所謂的高斯輪廟’而與之相垂直的強度分布則是近似;梯 形。並且,輕射的傳播可影響到其強度分布。因此,例如 當按-形狀不變的方式傳播進入自由空㈣,高斯輪靡就 會變寬。 Ο Ο 該詞彙「均質」是指一具有非均句強度分布之輕射的 光學成像,藉以獲得具有—大致均句強度分布的輕射。文 件剛2 20 705 C2中描述一種此一光學成像的基本組成, 本發明亦源起於此。其中說明一種在該入方側上具有一「透 鏡陣列」的設備。該透鏡陣列為複數個透鏡在一平面内的 一週期性排列,該平面按與一入方(即入射)韓射的傳播方向 相垂直所排列。而在出方側上則是於該透鏡陣列後方的光 學路仏裡排列有至少_集光透鏡。兩個部份光線分別地源 自於該透鏡陣列的各個透鏡。該等部份光線總體重叠,使 得由該集光透鏡所成像的輻射為大量均質,亦即空間匹配。 在文件DE 102 25 674 Α1的文中可尋獲此一用於均質 的光于》又備的發展說明。在此,兩個透鏡陣列是於該光學 路徑内,一者位在另一者後方的方式所排列,其中該最後 側透鏡陣列是由兩個+陣列所組成。% &可在一總共三個 平面内獲致一種複數個透鏡的週期性排列,而該等平面各 者是與入射於該入方側上之輻射的傳播方向相垂直。 d而,當利用同調輻射源時,會在該出方側處於強度 布上出現干涉圖案,其原因是該透鏡排列的週期性,而 5 201037355 此干/步圖案會造成均質性的劣化。 文件 Fraunh〇fer IOF Jahresbericht 2007」在第 46 及 47頁上描述可如何|!由一椒形排列來打破該透鏡排列的週 期性’藉以改善在出方側上所獲得之強度分布的均質性。 不過’由於干涉所造成的影響仍無法消除,同時強度分布 可能會因該楔形透鏡排列之故而在該楔形的方向上有所變 化。文件Ph〇t〇nic 3/2006」在第76至79頁描述為減少因 週期性透鏡排列所造成之干涉圖案而在光學路徑上運用漫 射盤(即漫射屏幕)的方式。根據製造過程而定,該等漫射屏 幕設有可按一預定固體角度均句地散射入射光線的隨機性 表面結構。然部份高度功率損失則為使用漫射屏幕的缺點。 該文件DE 197 51 106 A1」描述一種雷射印表機,此 者含有下列沿-光學軸線上的構件群組:__雷射二極體陣 列’該陣列將作為-光源的複數個_射源節段(雷射二極體) 子分割雷射透鏡排列構件,此者經子分割為複數個對 應於該等輻射源節段的雷射透鏡;—飛眼(flyeye)積分器, 此者具有複數個球形透鏡,該等透鏡按節段方式週期性地 排列於-與該光學㈣、—第—和—第二影像場透鏡相垂 直的平面内;一印相透鏡(printing lens); 一調變器·以及 -媒介平面。自該雷射二極體陣列所發出的光線在該等輕 射源節段的總數上為非同調。此文件並未說明具有複數個 射線束之光線輻射的均質化處理,該等射線束本身之内為 同調,然相對於彼此則為逐對地非同調。而除該等複數個 按節段方式所週期地排列的球形透鏡以外,該飛眼積分器 201037355 '、匕3該第&该第二影像場透鏡。故該文件並非敛述一 種僅具有單一個週期性且按節段方式之透鏡排列以及一聚 光器的設備。 後文中假設所提及於前述之先前技藝為已知。圖^顯 示U基本原理並利用—週期性透鏡排列Μ和—聚光器 12以均:雷射輻射的光學設備的概略圖。在圖"里,該雷 射輻f是由左手側入射於該週期性透鏡排列上。部份的射 線束是在該週期性透鏡排列後方依不同的離出角度自於該 透鏡,列内的個別透鏡發出’圖1中為簡明起見僅分別顯 示-单-離出角度α。根據該離出角度而定,在鄰近的部份 射線束之間可獲致一光學路徑差△。根據該離出角度而定, 該聚光器將該等個別的部份射線束成像於-成像場14上, 在其上會產生一擾動干涉圖案,而此圖案影響到該射線束 輪廓的均質性。此干涉圖1、、语 卞欠圖案的起源類似於一光柵的繞射情 況,即如熟諳本項光學領域之人士所皆知。 【發明内容】 本發明之目的為以進-步發展出一種於本文開始即已 陳述的光學設備’使得能夠減少擾動干 率損失。 …円度功 此目的可藉由一種用以均質具有_預定波長並 如申請專利範圍第1項所述之特性的光線㈣之設備所達 成。從而,該設備包含-週期性透鏡排列,其中含^ 個透鏡’此等透鏡經排列於與該光線輕射之人射複 '^大致 201037355 垂直的至少一平面内;以及一聚光器,此者經排列以將源 自《玄週期性透鏡排列的光線成像於一照明場之内(即之 上)’該場經排列於—對應於該聚光器之一焦距的距離處。 違週期性透鏡排列含有複數個區段,藉以讓具有該預定波 長的複數個射線束之其中一者個別地入射,並且為針對於 该等區段之内的透鏡所週期性地構成。該聚光器經排列以 將該等複數個射線束成像於該照明場上而具一橫向偏移(即 位移)。該橫向偏移的維度經調整以供因在該週期性透鏡排 列處之該等複數個射線束的繞射所造成的強度調變大致地 相互補償。 若該等複數個射線束之個別一者入射於該等區段的個 別者上’則該設備可將該等射線束成像於該照明場上而 經彼此相對位移(即偏移)《>藉此可將該等個別射線束予以均 質化同時干涉調變可為偏移(位移)重疊,從而使得該等干 涉調變的「凹谷」及「頂峰」在總和上能夠獲以大致補償。 該等複數個射線束的數量愈多,該設備所均質的光線輻射 即愈均勻。 對於減少在該等區段之邊界區域處的功率損失,該週 期性透鏡排列的複數個區段可為彼此橫向地空間分隔。 為獲得一儘可能均勻的總強度,此等橫向偏移可大致 等於P/Ν’其中因,繞射所致生的強度調變具有—料週期性 P ’並且該等複數個射線束的數量為N。 在一第一具體實施例裡,該聚光器可包含至少— 透鏡,此者經子分割成複數個部份,並且各個部份可 聚光 經排 201037355 =該等複數個射線束之其_者分別地進行成像而具 *為決定此偏#,該經子分割$光透鏡的言亥等部份可為 橫向彼此空間分隔及/或可為相對於彼此而傾斜(即斜置)。 該傾斜可為由將該等部份轉離於—與該人射方向相垂直的 平面所獲致。 在一第二具體實施例裡,可將一平面平行(即共平面)
平板分別地排列於一部份數量之複數個射線束的光學路徑 内0 為決定此偏移,該等共平面平板可為相對於彼此而傾 斜(即斜置)。該傾斜可為由將該等共平面平板轉離於一與該 入射方向相垂直的平面所獲致。 為避免該等射線束之間的干涉,該設備可包含複數個 光源,其中各個光源經調適以分別地產生該等射線束之其 者為產生本身内為同調的射線束,可利用雷射及/或雷 射二極體作為該等光源。尤其,可利用複數個準分子雷射 作為該等光源。 為簡化該等射線束的產生作業,該設備可進一步包含 光導(即光纖)以供接收光線輻射,其中該光纖分別地包含 耗出點以供麵出該等複數個射線束之一者,並且其中該等 麵出點之間的光學路徑長度大於該光線輻射的同調長度。 如此’即可自該等同調光源的其中之一或一些產生彼此間 為逐對(pair-wise)非同調的射線束。 為以較佳地(即有利地)製造該聚光器,後者可包含至少 201037355 一集光透鏡。 一進一步特點是關於一種用以均質光線輻射的方法。 該方法包含一步驟,即分別地產生複數個同調光線的射線 束’其中各個射線束對於該等複數個射線束之一者彼此非 同調;以及一步驟,即將該等複數個射線束導引朝向—透 鏡排列’此者具有一前述用以均質光線輻射之設備的複數 個區段’因而該等複數個射線束之個別一者分別地落於該 等區段之個別一者上。 【實施方式】 圖1顯示一根據先前技藝的透鏡系統且概予元件編號 100表示。該透鏡系統1 〇〇在該入方側上包含一週期性透鏡 排列10 ’並且在其出方側上包含一聚光器12。該聚光器12 排列於該週期性透鏡排列1 〇後方的該光學路徑上,使得自 。亥週期性透鏡排列i 0發出的平行射線束被聚焦於一照明場 14内。為此,該聚光器12及該照明場14按分隔一對應於 遠聚光器1 2之一焦距的距離所排列。 該週期性透鏡排列1〇包含複數個集光透鏡16,該等複 數個集光透鏡經排列於一與一同調射線束20之傳播方向18 大致垂直的平面内,而該射線束具有波長λ並且自圖1的 手側進入。為簡明起見,圖1内的週期性透鏡排列1 〇僅 在一平面内顯示出四個集光透鏡16。在多數情況下,每個 平面可有10個或20個透鏡,且經常亦可達1〇〇個’並且 按—個後接著一個(即如該週期性透鏡排列)的平行排列的 10 201037355 方式使用複數個此笨裱於 ., , 调此等透鏡。在本射,該離出肖度 該最後(最後側)透鏡平面後 ”·’ 夂乃邳野於该傳播方向18的離出 :度:攸而’该詞t「週期性透鏡排列」不僅包含平面排 列,並且亦概略包含空間排列。此外,亦可在該週期性透
鏡排列10利用平凸隹#、泰# L 集先透鏡,而非所顯示的雙凹集光透鏡 1 6 〇 對此’同調光線自受該入方(入射)同調射線束2〇所照 射之集光透鏡16而按不同的離出角度α出現。為便於較佳 概略表示’圖】僅矣會示一部份對應於—單一離出角度〇的 射線束。㈣文解釋對於所有㈣的離出角度α基本上皆 為成立。 自各個經照射的集光透鏡16顯現出一部份射線束22。 根據該離出角度01而定,可在鄰近的部份射線束22、24之 間獲致一光學路徑差△。熟諳本項光學領域之人士可自該幾 何排列直接地瞭解在該光學路徑差△與該離出角度α之間 存在有一關係式
A = 6sina, 其中b表示該集光透鏡16的橫向寬度。該等部份射線束 22、24在收斂性部份射線束22,、24,裡由該聚光器12所成 像’此等收斂射線束重疊於該照明場14内的一焦點26上。 該焦點26的位置X是由該聚光器12的焦距f和該離出角度 α依據下式所給定 11 (2) 201037355 x = /tana。 在圖1裡,該聚光器12按一簡易方吒 J乃式偵得如一具有焦 距f的集光透鏡28。然該聚光器12亦可Λ 人士 β j馬一含有複數個聚 光透鏡的系統,而在此情況下,該焦距f县本- 二1疋表不此一系統的 總焦距。 由於具有該光學路徑差△之部份射線束22,、24,的重 豎,因此在該焦點26處獲得建設性或破壞性干涉。當該光 學路徑差A為該入方(入射)同調射線束2〇之波長λ的整數 倍時,該建設性干涉為最大’亦即強度放大。若該光學路 徑差△為該波長λ的半整數倍(而非其整數倍),則該破壞性 干涉導致該強度I的滅絕,亦即強度衰減。對於微小的離出 角度α,正弦及正切函數足夠精準地重合(即所謂的近軸近 似),因此根據等式(丨)和,該光學路徑差△按照下式隨該 照明場14上的位置X而改變,即 (3) Δ = χ6// 因此由於該父替建設性及破壞性干涉之故而獲致該強度Ι(χ) 的週期性調變3 0。 所 ’ 因入^ f λ \ 万(入射)同調射線束20在該週期性透鏡排 ^ 〇處的繞射而出現-強度調變30,此調變侵犯(擾動)到 β亥入方射線束2〇的均質化。 12 201037355 圖2顯示一概經標註為200的透鏡系統,其中亦含有 一週期性透鏡排列1〇、一聚光器丨2及一成像場14 ^該週 期性透鏡排列1〇包含三個區段l〇a、l〇b、10c而用於三個 本身内為同調之射線束20a、20b、20c的分別入射。在該等 本身内為同調的射線束20a、20b、20c之間並無顯著的相位 相關性’這意味著該等個別的射線束20a、2〇b、2〇c相對於 彼此為逐對非同調。
當該週期性透鏡排列10受到該等入方(入射)射線束 20a、20b、2〇c照射時,會自該週期性透鏡排列1〇的各個 透鏡I6出現部份射線束22a、22b、22c,即如該透鏡系統 1〇〇般。該等個別部份射線束22a、22b、22c出現自相對應 的射線束20a、20b、20c ,並且特別是擁有其同調性質。該 聚光器12將該射線束20a的所有部份射線束22a成像於一
收斂射線束20’a内,而此射線束在該焦點26上為經重疊於 本身内為同調之相對應射線束2〇b、2〇c的其他收斂射線束 22’b、22’c。該等本身内為同調之個別射線束2〇a、2扑、Μ。 是以一強度I(x)貢獻於對該照明場14的照射。即如圖i的 透鏡系統100般,各個本身内為同調的射線束2〇&、鳩、 2〇c在當成像於該照明4 14之内(之上)時擁有一強度分布 100’而該分布具有週期性的強度調變3〇a、鳩、術。由 於該等本身内為同調的射線走 J叼釘琛禾ZUa、20b、2〇c相對於彼此為 逐對非同調,因而當兮望^ 口叩田及寺收斂射線束2〇,a、20,b、2〇,c在 焦點2 6内重疊時並不會導致一 π守双進步的干涉,藉此該等個別 同調射線束 20a、2〇h、on。aa、eb« b 2〇C的週期性強度調變30a、30b、 13 201037355 3〇c按加法方式重疊成一週期性總強度3〇。 因此’當在該透鏡系統200裡由複數個相對於彼此為 逐對非同調的射線束20a、20b、20c照射時,這些擾動性的 週期性強度調變30a、30b、3〇c甚至會放大,即如相較於傳 統的透鏡系統。 圖3顯示一設備3〇〇的第一具體實施範例,此者適用 於藉由一週期性透鏡排列1 〇以均值複數個具有非均質射線 束輪廓的入方(入射)同調射線束2〇a、2〇b、2〇c,並同時降 低因繞射所造成的強度調變3〇a、3〇b、3〇c。為此,該設備 300包§一心光器,此者具有一聚光透鏡32,該透鏡按照 該等相對於彼此為逐對非同調並且具有(橫向)部份32a、 32b、32c之射線束20a、2〇b、2〇c的數量所子分割。該經 子分割之聚光透鏡32的分別(個別)部份32a、32b、32c以 一橫向偏移(即位移)V而按一距離所彼此相隔排列,此值對 應於該照明場14裡該等個別(分別)強度調變3〇a、3〇b、3〇c 之間的偏移。該偏移V經選定使得該強度調變3〇a的一「凹 谷」會被據此而偏移(位移)的強度調變30b、30c所補償。 由於該等強度調變3〇a、30b、30c具有一均勻週期性p,因 此能夠在跨於該總照明場丨4上獲得一大致固定的總強度 36 ° 即如圖3所示’可進一步發展該設備300的具體實施 例使得該週期性透鏡排列1 〇的個別區段1 〇a、1 〇b、1 〇c亦 按一距離所彼此相隔’而此距離大致對應於該橫向偏移V。 藉由此一(橫向)分割排列,即能減少該等區段1 0a、1 Ob、1 0c 14 201037355 或該等部份32a、32b、32c之邊界區域内的損失。在該設備 200的一進一步發展裡,該聚光透鏡32之個別部份 32b、32c可相對於-與該入方(入射)射線束2〇a、 之傳播方向18相垂直的平面在一旋轉方向列上傾斜(即斜 置)。該等個別(即分別)強度調變3〇a、3〇b、3〇c可相對於 彼此而移動(即位移)一與該傾斜無關的偏移(位移)V,。除該 聚光透鏡32中該等部份32a、32b、32c的傾斜之外,或另 者,該等部份32a、32b、32c的區段10a、1〇b、1〇c亦可按 一距離所彼此相隔。 圖4顯示一用以均質同調射線束2〇a、2〇b、2〇e之非均 質射線束輪廓的設備400之第二具體實施例,該等射線束 相對於彼此為逐對非同調。此均質化再度地是由一週期性 透鏡排列10所進行,即如前文中針對於該設備3〇〇所述 者。該週期性透鏡排列1G可選擇性地包含個別區段心、 l〇b、10c,該等互相按一距離彼此分隔。在該等外部同調射 線束20’a、20’c的光學路徑裡排列有共平面(即平面平行) 平板伽、橋(該等平板至少在所使用的波長範圍裡為通透 性即如熟諳本項光學領域之人士所眾知者,在該等射線 束20’a、20’c非垂直地入射於該等共平面平板4〇&、4帅上 的情況下,由於該等共平面平板4〇a、4〇b的折射指數η異 於環繞區域(的折射指數)之故,因而會出現一橫向偏位 移)v。離開該等共平面平板4〇a、4〇b的射線束2〇,’&、2〇,,c 會相對於該等射線束20,a、20,c而平移該橫向偏移V。該 偏移V可為藉由分別地在42a、42e方向上旋轉(即轉動)該 15 201037355 等共平面平板40a、40b所決定。由於該等射線束2〇a、2〇b、 20c相對於彼此為逐對非同調,因此其強度調變3〇a、3〇b、 30c為相加地重疊(干涉)。藉由據此地選擇該偏移v,即如 刖文對於該設備300所描述者,一所獲總強度36為大致固 定(即均質)。所以,不僅該等入方(入射)射線束2〇a、2〇b、 20c的非均質射線束輪廓能夠被該週期性透鏡排列1 〇所均 質化,同時可大幅地減少因該週期性透鏡排列1〇處之繞射 所造成的強度調變30a、30b、30c。 β玄傳統透鏡系統1 〇〇以及該等用於均質化的設備3〇〇、 400 ^大致依循傅立葉光學(F〇urier 〇ptics)的物理定律。後 文中的對偶性關係即歸屬於此。一方面,在進入側上具有 小於該透鏡排列(透鏡陣列)之一單一透鏡結構維度的非均 質射線束輪廓部份結構會在離出側的照明場14上變寬(寬 化)’並從而獲以平滑化。簡言之:在該進入側上的小型結 構可在該離出側上獲致一大型結構。另一方面,該透鏡排 列(透鏡陣列)的週期性結構可獲致一干涉調變,而其遇期性 小於該離出側上的照明場14。據此而簡言之:在該進入侧 上的大型週期性結構可在該離出側上獲致一小型週期性結 構。 由根據先前技藝之透鏡排列(透鏡陣列)的均質化是利 用刖述成像效應的第一項。就此,自考量到光線光學(非傅 立葉光學)開始即已足夠。然而,光線光學的考量會忽視前 述繞射效應的無可避免第二項。此繞射效應即為吁由本發 明所克服者。 16 201037355 有關於一種運 30b、30c可由下列 作機制的詳細考量’該等強度調變30a、 FraUnh〇fer繞射積分式所近似描述 岣4(’)= J4〇〇)e-域㈣“办 =J4o0)e—_办 "\ΑΜε-2π^λ^άγ (4)
八10(y)為在1亥週期性透鏡排列1 〇後方(源自於其後側) 離開之光線輕射的複數值振幅,並且&。為該振幅A丨。的傅 立葉轉換函數。更物地說,AiQ(y)表示該光線輻射在位於 該透鏡排列後方(亦即其後側)之一焦點平面(未予圖示)内的 複數值振巾田從而,A"(y)表示該光線輻射在該照明場Μ 内的複數值振幅。等式⑷裡的積分是對於該週期性透鏡排 列1〇的區段10a、10b、1〇c之其一者分別地沿圖3及4中 所繪之y軸而延伸。 在°亥週期性透鏡排列10之後側上的複數值振幅A10近 似地獲自於一入方(入射)同調射線束2〇a、2〇b、2〇c之振幅 Am與該週期性透鏡排列1〇中(被該等射線束所照射之區段 10a、10b、i〇e其一者)的一成像函數L(y)之迴旋:
17 1 其中星號(*)是表示函數間之迴旋乘積的符號。例如對於高 201037355 斯輪廓’該等入方(入射)同調射線束20a、20b、20c的橫向 振幅分布據以個別地按照如下形式(除固定因數以外): Λ。(扣他)2, (6) 其中〇2〇表示該高斯輪廓的特徵寬度。該成像函數L(y)又近 似地為一對於一單一透鏡16之單一成像函數/(y)與一週期 性光柵(即網格)函數g(y)的迴旋,而此函數g(y)對應於該週 期性透鏡排列10 (分別地相對應區段10a、l〇b、l〇c)内之透 鏡16的週期性排列: g(y)=YJ5{y-bj) ° J=0 ⑺ 因此,根據等式(5)和(7),該複數值振幅A1G等於 茗。 (8) 由於逐點乘積(·)以及迴旋乘積(*)可互降為另一者(可 彼此互相交換),因此在該照明場14裡該所獲複數值振幅 A 1 4 為: = ,其中 = (9) 藉此,一入射同調射線束20a、20b、20c之等式(6)的 18 201037355 间斯輪廓AWy)可根據下式轉換為一寬化(變寬的)高斯輪 廟入20(父) 以-㈣。)2,其中 σι〇=Α//(σ·2〇;Γ), (1〇) 而經傅立葉轉換之單一成像像函數f則可自此切截出一近 似長方形的強度輪廓。不過,根據等式(9),一光柵(即網格) 0 繞射函數#為乘法重疊於此長方形輪廓上。可藉由等式(7) 之週期性光柵函數的傅立葉轉換獲得該光柵函數忌,並 且為熟諳光學領域之人士所眾知,即 《(穿)。csinG/x 碧)/si♦普)。 (11) 在等式(11)裡’出現該等聚光器12、32的焦距f、該等 入方(入射)同調射線束20a、20b、20c的波長λ、該等透鏡 〇 16中分別被該週期性透鏡排列10 (該等區段l〇a、10b、10C 其一者)内的射線束20 a、20b、20c其一者所照射的數量j , 以及該透鏡排列10的光柵週期性b,作為該等設備3〇〇、 400的參數(分別地該等設備3〇〇、400的使用方法)。 即如本文開始處所述’該光線輻射在該照明場14上的 強度I(x)為與該複數值振幅A14之絕對值的平方成正比,亦 即 19 201037355 為此原因,各個其本身内同調的單一射線束2〇a、20b、20c 可按照下式
以一對於該照明場14之照射的強度調變3〇a、30b、30c貢 獻於該總強度In。在等式(12)裡,該強度函數Ik(x)的標號 k利用編號k=〇、1、2來表示個別的射線束2〇a、2〇b、2〇c。 根據等式(12),該等個別射線束2〇a、2〇b、2〇c相對於彼此 而橫向地,亦即圖3及4中所顯示的χ方向上,平移一偏 移V。該等干涉調變30a、3〇b、3〇c的週期性ρ亦為按照等 式(12)所決定。該偏移(位移)v的一較佳選擇為
P 、20c中橫向位移地成像且
其中N為該等射線束20a、20b、20c 本身内為同調的數量。即如在圖5及 及N=2所示者,此選擇在實作上(至少 情況下)可獲得一大致始哲从ώ Σ 0 20 (13) 201037355 以趨向而言,該等設備300、400照射該照明場14於 實作上愈均質化’該等互相逐對非同調射線束的數量N愈 多。
前揭討論針對於該等強度調變3〇a、3〇b、30c的單—維 度橫向結構化(在X方向上)。然其一情況為例如當該週期性 透鏡排列1 0之個別透鏡16為圓柱形透鏡而與分別如圖3 及4所繪平面相垂直之方式所排列。對此,圖7概略圖顯 不對於N=2射線束20a和20b的個別強度最大值42a及 42b。在此情況下,會在一方向44上,在此為χ軸選定 一偏移(位移)V。 圖8顯示一對應於Ν=2同調射線束2〇a、2〇b的分別具 有最大值42a及42b之強度調變3〇a、30b的二維結構。在 此例中,該等強度調變按一在該方向46上相對於彼此平移 一偏移v的方式所排列。該方向向量46為所謂「倒易光柵 向量(Reciprocal Grating Vector)」(即倒易網格向量)的第N 個分數,即如热諳本項光學領域之人士所眾知者。如此, 對於熟諳本項光學領域之人士而言,可直接地獲以將該所 述設備廣義化成一擁有所獲倒易網格42a、42b之個別透鏡 1 6的任意週期性透鏡排列1 〇。 地 同 即如刖文中既已多次強調者,該等設備3〇〇、分別 以多個在本身内為個別地同調並且相對於彼此為逐對非 調的射線束20a、20b、20c為基礎。該等可為由_據以相 21 201037355 關(非相位耦合)之雷射所個別地產生。此外,或另者,該等 射線束20a、20b、20c的所有或其個別(單一)者亦可為利用 一或更多雷射所產生。就此,圖9顯示一排列,其中含有 一雷射48;以及一光導(光纖)50,而由該雷射耗所發射的 雷射輻射52經耦入至其内。該等射線束2〇a、2〇b、2〇c於 點處54所耦出。該等射線束2〇a、2〇b ' 2〇c本身内為同調, 並且擁有一依據該雷射48之佈局(設計類型)而定的同調長 度。該等射線束20a、20b、20c相對於彼此為逐對非同調, 原因是該耦出點處54經選定使得在鄰近的耦出點處54間 該光導50之内的光學路徑長度大於該同調長度。 即如自前述之個別具體實施範例說明所能顯知者,可 利用該設備300或該設備400將具有一非同調射線束輪廓 的入方(入射)同調光線予以均質化,而該光線以一均勻橫向 強度分布成像於一照明場14上,藉此該等具體實施範例同 時能夠獲以成功地降低因該週期性透鏡排列1〇處之繞射效 應所造成的擾動性干涉調變30a、30b、30e。 【圖式簡單說明】 前文中參照隨附圖式以進一步詳細解釋本發明。在該 等圖式裡: ~ 圖1顯示-根據先前技藝用以均質同調射線束的透铲 系統的概略圖; 兄 圖2顯示圖i中用以均質分別同調之複數個射線 透鏡系統之一第一發展方式; 、 22 201037355 圖3顯示一根據本發明用 一具體實施例; 圖4顯示一根據本發明用 一具體實施例; 以均質光線輻射之設備的第 以均質光線輻射之設備的第 圖5為一利用三個雷射而因繞射 « ^ β ^ 噁射所造成之強度調變以 及匕們之重豐情況的概略圖; 圖6為一利用兩個雷射 ^ ^ 口現射所造成之強度調變以 〇
及匕們之重疊情況的概略圖; 圖7為當使用一第—週期 ^ 月性透鏡排列時,一利用兩個 寄射之照明場的概略圖; 圖8為當使用一第二% # Φ^性透鏡排歹1m,一利用兩個 窗射之照明場的概略圖;以及 =9為一利用—個雷射以產生三個射線束之光 的概略圖,其中該等射線束相對於彼此為逐對非同調。 【主要元件符號說明】 100 200 300 > 400 10 l〇a 、 l〇b 、 10c 12 14 16 根據先前技藝之透鏡系統 透鏡系統的第一進一步發展 根據本發明之設備 週期性透鏡排列 週期性透鏡排列之區段 聚光器 照明場 集光透鏡 23 201037355 18 入射方向的傳播方向 20 ' 20a ' 20b ' 20c 同調射線束 22 ' 24 部份射線束 26 焦點 28 聚光透鏡 30、30a、30b、30c 強度調變 32 經子分割之聚光透鏡 36 總強度 38 旋轉(即轉動)方向 40a 、 40b 共平面平板 42a ' 42b 干涉最大值 44 ' 46 分別為1D及2D偏移向量 48 雷射 50 光導(即光纖) 52 所發射的雷射輕射 54 出點 24
Claims (1)
- 201037355 七、申請專利範圍: 1· 一種用於均質光線輻射(20)的設備(3〇〇 ; 400),該光 線輻射具有一週期性波長以及複數個射線束(2〇a、2〇b、 20c) ’其中該等射線束在其本身内為同調,並且特定射線束 相對於彼此為逐對非同調,該設備包含: -一週期性透鏡排列(10),此者包含在至少一平面内的 複數個透鏡(16),而該平面是以與該光線輻射(2〇)的入射方 向(1 8 )大致垂直來排列,以及 〇 - 一聚光器(12) ’此者經排列以將自該週期性透鏡排列 (1 〇)所射出的射線成像於一照明場(丨4)内,此照明場排列於 一對應於該聚光器(12)之焦距(f)的距離處, 其中該週期性透鏡排列(1〇)包含複數個區段(1〇a、 l〇b、l〇c) ’藉以讓該等複數個射線束(2〇a、20b、2〇c)之一 者個別地入射,該等射線束具有一預定波長並且相對於該 等透鏡(16)週期性地構成於該等區段内,其中該聚光器(12) 經排列以將該等複數個射線束(20a、20b、2〇e)成像於該昭 Ο θ *… 明場(14)上而具有一橫向偏移(V),並且其中該偏移的維度 經調整’藉以大致地相互補償因在該週期性透鏡排列(1〇) 處的該等複數個射線束(20a、20b、20c)之繞射所造成的強 度調變(30a、30b、30c)。 2. 如申請專利範圍第1項之設備,其中該週期性透鏡排 列U〇)的複數個區段(10a、10b、10c)相對於彼此而橫向排列 在一距離處。 3. 如申請專利範圍第1或2項之設備,其中因繞射所造 25 201037355 成的該等強度調變(30a、30b、30c)具有一橫向週期性p,並 且該橫向位移(V)大致等於P/N,其中N為該等射線束(2〇a、 20b、20c)的數量。 4. 如申請專利範圍任一前項之設備,其中該橫向位移(v) 根據該波長而定’並且尤其是與該波長成反比。 5. 如申請專利範圍第1至4項任一項之設備,其中該聚 光器(12)包含至少一聚光透鏡(32),其經子分割成複數個部 份(32a、32b、32c),並且其中各個部份(32a、32b、32勾經 排列以供該等複數個射線束(2〇a、2〇b、2〇c)之一者以具有 一偏移來個別地成像。 6·如申請專利範圍第5項之設備,其中該等經子分割的 聚光透鏡(32)的部份(32a、32b、32c)相對於彼此橫向地位在 一距離處及/或相對於彼此而傾斜。 7. 如申請專利範圍第丨至4項任一項之設備,其中一共 平面平板(40a、40b)分別地排列於在一部份數量之複數個射 線束(2Ga、2Gb、2Ge)的光學路徑裡的該聚光器(12)之後。 8. 如申明專利範圍第7項所述之設備,其中該等共平面 平板(40a、40b)相對於彼此而傾斜。 9. 如申請專利範圍任一前項之設備,進一步包含複數個 光源其中各個光源經調適以分別地產生該等複數個射線 束(20a、20b、20c)之一者。 10. 如申吻專利範圍第9項之設備,包含雷射及/或雷射 一極體或疋包含作為該等光源的倍頻固態雷射。 η·如申明專利範圍第1至8項其中-項之設備,進— 26 201037355 步包含一光纖(50)以供接收該光線輻射(20),其中該光纖(5〇) 分別地包含耦出點(54)以供耦出該等複數個射線束(2〇a、 20b、20c)之一者,並且其中該等耦出點(54)之間的光學路 徑長度大於該光線輻射(20)的同調長度。 12. 如申請專利範圍任一前項之設備,其中該聚光器(12) 包含至少一集光透鏡。 13. —種用以均質具有一預定波長之光線輻射(2〇)的方 法,包含下列步驟: 分別地產生複數個具有該預定波長之同調光線的射線 束(20a、20b、20c),其中各個射線束(20a、20b、20c)在其 本身為同調,而相對於該等複數個射線束(2〇a、20b、2〇c〇 彼此為非同調;以及 將該等複數個射線束(20a、20b、20c)導引朝向一透鏡 排列(10),此者在如申請專利範圍第1至12項任一項之設 備(3 00、400)裡具有複數個區段(1〇a、i〇b、1〇c),因而該等 複數個射線束(2〇a、20b、20c)之個別一者落於該等區段 (10a、l〇b、l〇c)之個別一者上。 八、圖式: (如次頁) 27
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