TW201036799A - Imprint mold - Google Patents

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TW201036799A
TW201036799A TW98111967A TW98111967A TW201036799A TW 201036799 A TW201036799 A TW 201036799A TW 98111967 A TW98111967 A TW 98111967A TW 98111967 A TW98111967 A TW 98111967A TW 201036799 A TW201036799 A TW 201036799A
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Taiwan
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TW98111967A
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Tai-Cherng Yu
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Hon Hai Prec Ind Co Ltd
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201036799 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 用於壓印微小光 本發明涉及一種壓印模具,特別是涉及一種 學元件例如微鏡片的壓印模具。 【先前技術】 WLP(wafer levei package)製程是目前新發展的相機 製,方式,其是制與半導體製軸整合之制堆疊方式者雔 ,堅印方^ ’主要是利賴印模具的壓印麟,_ 面^ Ο 〇 =才=在複製材料上壓印出非_鏡片,紐再利用熱‘或 ,UV細化,使非球面鏡#定型,織再轉疊方式或爆 P方式形成鏡頭,並且與後段影像處理器封裝製程整合1 i制 之優點在於可大量生產光學鏡頭模組。 /、衣壬 在壓印聰巾’如綠敷在基板上的複製材料乡賊印鏡 所而的複製機’而無法料制複紐料排出 能完全與基板觸,造成壓印細職作 在詉差,而無法達到鏡頭模組預定之性能。 【發明内容】 有鑒於此’有必要提供一種將多餘複製材料排出的壓印模具。 麵印模具’其包括面和S置在第—表面上的圖案 部,所述圖案部邊緣具有向外開設的至少一個溝槽。 與先前技術相比,本發明實施例的壓印模具的圖案部邊緣具 f溝^1,其一,在壓印過程中,溝槽可以釋放困在圖案部内的空 就、’從而可防止氣觸產生;其二,在壓印過財,如果複製材 料過夕’其可作為流道使多餘的複製材料排&或者儲存多餘的複 製材料使,壓印模具與基板完全接觸,進而減小壓印成型元件的 厚度,使得鏡頭模組的性能達到預定之性能。 201036799 * 【實施方式】 下面將結合附圖對本發明作進一步詳細說明。 如,1所示,第—實施例將以用於麈印微鏡 Γίί: ° ::rft Γ尺鈦祕料,_、_鏡 Ο ❹ ϋ模具10具#—個表面u和設置在表面m :個=圖案部12可用來成型球面鏡片或非球面s= 也案。P12的形狀可根據需成型的鏡片形狀來決定。心 J面11整體呈方形’ _和位於表仙財心,溝和以 中Γ對稱分佈並—直延伸至表面11的邊緣。“溝槽 相互垂直且父點為表面11的幾何中心〇。 五個錢稀於喃,討《切_,例如, ί2内ΪΪΒ功能主要包括:其一,在愿印過程,釋放困在圖案部 果=二Ϊ而可防止氣泡的產生;其二,在壓印過程^如 g出或使多餘的複製材料暫存在流道内以減小壓印成型元件^ 印模ΐι圖第5實施例_印模具20的結構與第一實施例壓 構大致類似,其主要區別在於··壓印模且20除了自 括圖案部22和四個溝槽23外,還具有十字騎準標記24、。’、 ,案部22及對準標記24分別位於表面21的左下角及右上 ,圖案部22與對準標記24的位置並不限於此,例如,^ 準才示圯24可以位於圖案部22之外的任何位置。 壓印時,對準標記24被相應轉印到基板上, 次等後續影卩時,通過對準標記2績被轉印的對準“相g 201036799 ‘證,從而在雙面壓印或者堆疊壓印時實現較高精度 或消除偏心現象。 平滅小 如圖3所示,第三實施讎印模·的結構與第二實施例 的結構大致類似,其主要區別在於:壓印模具30的圖案^ 彡狀相_溝槽33 ’且溝槽33延伸至靠近表面31 遭緣的位置即停止。 如圖4所示,細實施例壓印模具懈有—個表面伸 表面41上的圖案部42、兩個波浪形溝槽43和£字形對準標記44。
之間通過支溝槽45互連通。#複製材制餘财而溝槽^不 能完全儲存時,支溝槽45可將多餘的複製材料暫存其中。 當然’對準標記44也可以為I字形、F字形或者丁字形等 狀。 八 如圖5、圖6所示,採用壓印模具1〇在矽基板5〇上壓印鏡片 先在矽基板50塗佈複製材料(例如,uw) 51,然後利用壓 具10壓印複製材料51以賴铸12轉印到⑦基滅^上從而在石夕 ,板50上形成鏡片60。由於壓印模具1〇對應區域的複製材料較 夕除了壓印鏡片60所需的複製材料外還有些許剩餘,溝槽13作 ,儲存空’多餘的複製材料7〇暫存其巾。由於溝槽1;3可以 夕餘的複製材料70使得壓印模具10與基板50完全接觸,從而使得 =60的厚度麟等於或接近設計值,避免了傳統壓印模具 存在的“冗餘厚度”,提高了鏡片品質。 综上所述,本發明確已符合發明專利之要件,遂依法提出專 利申請。惟,以上所述者僅為本發明之較佳實施方式,自不能以 此限制本案之申請專利顧。舉凡麟本案技藝之人士援依本發 明之精神所作之等效料或變化,皆應涵蓋於以下申請專利 内。 比1 【圖式簡單說明】 201036799 圖1是本發明第一實施例壓印模具的示意圖。 圖2是本發明第二實施例壓印模具的示意圖。 圖3是本發明第三實施例壓印模具的示意圖。 圖4是本發明第四實施例壓印模具的示意圖。 圖5至圖6是採用本發明第一實施例的壓印模具在基板上壓 印成型鏡片的示意圖。 【主要元件符號說明】 壓印模具 10、20、30、40 表面 11、21、31、41 圖案部 12、22、32、42 溝槽 13、23、33、43 對準標記 24、34、44 支溝槽 45 基板 50 複製材料 51 鏡片 60 多餘的複製材料 70

Claims (1)

  1. 201036799 •七、申請專利範圍: 1. 一種壓印模具,其包括第一表面和設置在第〆表面上的圖案 — 部,其中:所述圖案部邊緣具有向外開設的至少/個溝槽。 - 如申請專利範圍第1項所述之壓印模具,其中:戶斤述溝槽延伸至 所述第一表面的邊緣。 3.如申請專利範圍第1項所述之壓印模具,其中:進〆步包括支溝 槽’相鄰溝槽通過所述支溝槽連通。..... 請專利範圍第;1至3項任一項所述之壓印模具,其中 表面設置有群標記,所崎準標記錄
    5十其一準標記為
TW98111967A 2009-04-10 2009-04-10 Imprint mold TW201036799A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI707766B (zh) * 2018-07-16 2020-10-21 奇景光電股份有限公司 壓印系統、供膠裝置及壓印方法
US11194247B2 (en) 2018-01-31 2021-12-07 Canon Kabushiki Kaisha Extrusion control by capillary force reduction

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