TW200811543A - Light source application efficiency improving device - Google Patents

Description

200811543 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本㈣係涉及光源使用效率提升裳置，特別是一種應 用於可提升整體光源的使用效率， 心 組明顯呈現昏、暗帶區之光丄用背光模 【先前技術】 —按，-般應用在資訊震置的液晶顯示器，係可以依昭 ”之，㈣擇彻直下式或者是側光式的背i 其士紝接-立门 直下式为光模組架構之 二本了構圖’整體背光模組之結構組成係由内向外依 序配設有一反光罩1 1、若千氺、、盾1 〇 i / 2、擴散板13、數 枚先子膜片1 4，以及液晶面板i 5 ;其中，各光^ 2 可為直條狀或ϋ㈣其他連續折彎形狀之姆並以適當之 間距舖設在反光罩11與擴散板13之間；而市面上^常 見口亥擴散板1 3與液晶面板1 5間之數光學膜片^ 4可由 1〜3片之擴散片、〇〜2片之增光片、◦〜丄片之反射 式偏光片等互相搭配而成，其作用乃係使通過之光線形成 擴散作用’藉以改善正對各光源丄2間隔部位因為無光線 產生，而在液晶模組上形成昏、暗帶區之現象。 ^ 又，由於擴散板1 3之作用僅在令所通過之光線均勻 放出，對於改善液晶模組昏、暗帶區現象之效果有限，因 此即有些背光模組刻意拉長光源12與擴散板13之間 隙，以期擴大各光源1 2進入擴散板丄3之範圍，達到縮 小昏暗帶區之目的；惟，如此之結構設計不但效果相當有 200811543 : 限 之 【發明内容】 本發明「光源使用效率提升裝置」 — 用以將光源所產生的光绔灼勹鉬A、,日十液日日鮮頁不益 以^ 液晶面板照射之結構加 示器之基本組成架構，同樣係透過 艇片、液Ba面板呈現發光體之光源表現效果。 其中’背光模組中相對痒於来湄夕忠 置有調光結構，其調光結 透之光學結構體細經由‘:= ’可更有效地分配光源之光線。並可消 除各先源之_昏暗帶區，以更為主動、積極 【實施方式】 m η查委員清楚本發明之結構組成，以及整 一運作方式，茲配合圖式說明如下： 本發明「光源使用效率提升裝置」，該 應於光源之光線行進路徑上設置有财二1組中相對 可讲於忠紿士&上°又置有5周先結構，其調光結構 叹二彳直接或間接射出處，•該調光結構可以為完全 可反射及穿透之光學結構體，如第二圖之 杰夕二列中’係^周光結構3設於光源2 1上方，所形 下式背光模組’該光源可以為發光二極體或燈管， 200811543 =*= 為第單之形式且覆蓋於各光 刀J如弟二圖（A)所示之第—给 f结:3係包含複數相對應光源2 !數量一：:構= 1 ’如圖所示’各光學結 2:、，、。構-3 方，亦可設置於各光源之間，當2二 1上 =層，並可重疊或交錯之;; =7之Γ:Γ各光源21上方，以及設置於:光 置=罩” i可:ίί!穿透、完全反射或可反射及穿透 + ,、、二加工處理之透明片或複合 處理可以為噴砂、钱刻、霧化、設置網點或 子材之複合材料，亦可利用加工處理控制反射率 及牙透率’並可依使用者所需調整反射率與穿透率之比例 大小。 各光源21之光線行進路徑可如第四圖之第三實施例 所示’其係於各総2 1上方分職置可反射及穿透之光 學結構體311’並控制其反射#及穿透率皆為5〇%， 故各光源2 1朝上方射出之光線經由光學結構體3工工 後，有5 0%的光線穿透朝上方射出，而5 〇%的光線反 射至光源2 1下方之反射片2 3後朝上方射出，藉以平均 各光源2 1處與各光源2 1間之輝度，以提升光的有效使 用效率，可更有效地分配光源之光線，並有效紐各光源 200811543 : 之間的昏暗帶區。 如第五圖所示’為本發明之第四實施例，其係於各光 源2 1上方分別設置可完全反射之光學結構體32，故 各光源2 1朝上方射出之光線經由光學結構體3 1 ^料光線反射至光源21下方之反射片23後朝上方射 出，錯以平均各光源2 1處與各光源2 1間之輝度，提升 =重複有效使用效率，並有效鎌各錢之間的昏暗帶 =六圖⑷所示’為本發明之第五實施例，其係於各 :、上方分別設置可完全穿透之光學結構體3 ^ 而該光學結構體3 i 3上方可承載支料其他光學膜片& (如擴散片或稜鏡片），不僅可承載支撐光學膜片4， 二護下方之光源2 1及上方之光學膜片4 ;當然，該 二=之^學結構體f13上方亦可搭配有其他光學結 版3 1 ’如弟六圖⑻所示，該光學結構體 於相對應各光源2 J上方。 〇又1 =光結構域置方式除了如第二圖及第三 Π=Γ)、⑻所示之第六實施例中，該調光結構 =主要係由—個或以上之透明片32或複合材料上 Π;、完全反射或可反射及穿透之調光區域3 3， 3 = 2 H㈣或可反射及穿透之調光區域相互 Γ域3 3可經加工處理而形成於各光源21 上方’或形成於各光源21之間。 1 二ΪΓ广，！本發明之第七實施例，調光結構係 。又於先_邊，所减之侧光式背域組，其調光結構3 8 200811543 :I以為單—光學結構體31之形式且設於各光源2 边，如圖所不之實施例中，其光源2 i係由導柘？ ^ 側邊形成雙向入光，而光學結構體3 4之出光侧241。 或者如第九圖所示之第八實施例令，該 含稷數相對應光源2 1數量之光學結構體3 1°，A光源^ »置於¥先板2 4之侧邊2 4 2 ;當然，其調光么士盖 )於一個或以上之透明片或複合材料上，破山 、°冓亦了 有完全穿透、完全反射或可反射及穿“ 者’如第十圖之第九實施例所示學 、側先式月先杈I且，並設置於光源之 ，調光結構3可以為完全穿透、完全反射 光學結構體，可以平均各光源處與各 = 效消除各光泝夕i< 輝度’以有 量，並可诘小北丄 可降低光源之使用數 射式偏模組中光學膜片（如擴散片.、增光片或反 提升光的η用’亚可更有效地分配光源之光線，進而 杈升先的重禝有效使用效率。 用效==置本==::^佳可行之光源使 之實_日曰丄 專利之申請；惟，以上 ^兄月及圖式所示’係本發明較佳實施例者，並非以 9 200811543 : 此侷限本發明，是以，舉凡與本發明之構造、裝置、特徵 等近似、雷同者，均應屬本發明之創設目的及申請專利範 圍之内。 【圖式簡單說明】 第一圖係為習用背光模組之結構示意圖。 第二圖係為本發明中背光模組第一實施例之結構示意圖。 第三圖（A)、（B)係為本發明中背光模組第二實施例之結構 立體圖。 第四圖係為本發明中背光模組第三實施例之光線行進示意 圖。 第五圖係為本發明中背光模組第四實施例之光線行進示意 圖。 第六圖（A)、（B)係為本發明中背光模組第五實施例之結構 不意圖。 第七圖（A)、（B)係為本發明中背光模組第六實施例之結構 示意圖。 第八圖係為本發明中背光模組第七實施例之結構示意圖。 第九圖係為本發明中背光模組第八實施例之結構示意圖。 第十圖係為本發明中背光模組第九實施例之結構示意圖。 【元件代表符號說明】 * · · 11——反光罩 12--光源 13---擴散板 200811543 : 14——光學膜片 15--液晶面板 2 1--光源 2 2--反光罩 2 3--反射片 2 4——導光板 2 4 1—出光侧 2 4 2 一^則邊 3 ---調光結構 ) 3 1 光學結構體 311—光學結構體 - 3 12一光學結構體 、 3 13一光學結構體 3 3--調光區域 4一--一光學膜片

Claims (1)

1. 200811543 十、申請專利範圍： 1、 一種光源使用效率提升裝置，該相對應於光源之 光線行進路徑上設置有調光結構，其調光結構可以為完全 穿透、完全反射或可反射及穿透之光學結構體。 2、 如申请專利範圍第1項所述光源使用效率提升裝 置，其中，該調光結構係包含複數相對應光源數量之光學 結構體。 3、 如申請專利範圍第1項所述光源使用效率提升裝 置，其t，該完全穿透之光學結構體上方可設置有光學膜 片或光學結構體。 、 4、 如申請專利範圍第1項所述光源使用效率提升裝 置，其中，該調光結構係可應用於直下式背光模組。 5、 如申請專利範圍第丄項所述光源使用效率提升裝 置，其中，該調光結構係可應用於侧光式背光模組。 ，该完全穿透之光學結構體可以為透明片 6、 如申請專利範圍第i項所述光源使用效率提升裝 工處理之透明片赤益人从如 置丄其中’該可反射及穿透之光學結構體係包含有

   q/u、巧僻诹王旻係由一 複合材料上形成有完全穿透 請專利範圍第1項所述光源使用效率提升裝 項所述光源使用效率提升裝 係由一個或以上之透明片或 完全反射或可.反射及穿透之 12 200811543 • 調光區域。 裝置，^j利乾圍第9項所述光源使用效率提升 各，形成，- 線行itt #直下式背光模組，其光源上方相對μ光 :===光結構，其調光結構可心穿 7:射或可反射及穿透之光學結構體。 、組，其中，二匕專利1t圍第11項所述直下式背光模 ,:°亥几全牙透之光學結構體可以為透明片。 組，LUf利範圍第11項所述直下式背光模 -組，i夂ί:請/利範圍第13項所述直下式背光模 點或設置高分子材之複合材料。 ^ <置網 )該調光模組，其中， 形成有士入μ Ϊ 或上之透明片或複合材料上 ^王牙①全反射或可反射及穿透之調光區域。 ㈣光f 請專·圍第15項所述f域組，其中， 經加工處理而形成於各光源上方，或形成於 m # .種側光式月光模組，其光源係由導光板侧邊， 於槿而相對應於光源之光線行進路徑上設置有調光 光結構可以為完全穿透、完 射及 牙透之光學結構體。 13 200811543 1 8、如申請專利範圍第2 7 組’其中，該完全穿透之光學結構體可=光式背光模 組，其中，該可/ 7項所述側光式背光模 工處理之透明片或複合材料。 K糸包含有一經加 2 〇、如申請專利範圍第1 9 組，其中，該加工處理可以為嘖砂、射广丄光式背光模 點或設置高分子材之複合材料。、 ]、務化、設置網 2 1、如申請專利範圍第.2 7頊所、 組，其令，該光源係由導光板之一側述側光式背光模 22、如申請專利範 側邊形成入光。 組，其令，該 …弟;1 7員所述側光式背光模 於導光板之出光側了…以為單一光學結構體之形式且設 組，範圍第17項所述側光式背光模 結構體而;:ΐ= 包含複數相對應光源數量之光學 口光子、、'〇構體係設置於導光板之側邊。 組，其中，二f:範圍第17項所述側光式背光模 於導光拓/φΐ 4可以為單一光學結構體之形式且設 光源數二及該調光結構亦可包含複數相對應 之側邊。予、°冓體，而各光學結構體係設置於導光板 14