TARIFNAME ILERI TEKNOLOJI ANTIMIKROBIYAL KORUYUCU yüz MASKESI Bulusun Konusu Bulus, kisisel koruyucu ekipman olarak hava dezenfeksiyonunda kullanilip ayrica ortamdaki partikül ve zararli gazlara karsi da etki gösterecek hava temizleme sistemi olup, antimikrobiyal ve katalitik madde içeren aktif karbon filtre (birinci asama katalitik adsorpsiyon) ve nano boyutlu Ti02 fotokatalitik katalizörlü (ikinci asama fotokatalitik inaktivasyon) olmak üzere iki asamali inaktivasyon mekanizmasina sahip, sarj edilebilir pil ile çalisarak kullanim kolayligi saglayan ve nefes alisi kolaylastiran hava çekme fani (9)içeren, çekilen, havanin farkli yolla kolay tahliyesini saglayan antimikrobiyal yüzeyli koruyucu yüz maskesini konu almaktadir. Teknigin Bilinen Durumu Hava. ve solununi yoluyla tasinan enfeksiyonlarin önlenmesi amaciyla kapali alanlarin dezenfeksiyonunu ve sterilizasyonunu amaçlayan pek çok uygulama COVID-l9 pandemisi sonrasi gündeme gelmistir. (World Health Organization, Rational use of personal protective equipment for coronavirus disease (COVID-l9) and considerations during severe shortages, 6th April, 2020) Iç ortam havasindaki toplam. bakteri ve virüs konsantrasyonlari üzerine yapilan az sayidaki çalismalarda, çesitli iç ortam ve dis ortam havasinda sirasiyla yaklasik 105 CFU/ HQ bakteri ve 106 CFU/ HQ olan virüs konsantrasyonlari rapor edilmektedir. Insanlar, epidermislerinde lO12 CFU mikroorganizma ve beslenme kanallarinda lO14 CFU mikroorganizma tasidiklarindan, bulunduklari çevrede en büyük biyoaerosol kaynaklarindan biridir. (Prussin, Aaron J., and Linsey C. Marr. "Sources of airborne microorganisms in the built environment." Microbiome 3.l (20l5): 78.) Dogrudan ve dolayli temas yoluyla çok sayida virüsün insanlar arasinda kolayca bulastigi bilinmektedir. Enfekte olmus kisi tarafindan disari verilen hava, öksürük veya hapsirma gibi akinti, virüsün havaya karismasina neden olarak baska bir kisiye dogrudan aktarabilmektedir. Ayrica enfekte kisilerin bulundugu ortamdaki masa üstü, kapi kolu gibi yüzeyler ve enfekte bireyin kisisel kullanimina mahsus esya ile temas sonrasinda dolayli yoldan da bulasabilmektedir. Enfeksiyonlarin dogrudan ve dolayli yoldan yayilmasini önlemek amaciyla çesitli dezenfeksiyon ve sterilizasyon stratejileri kullanilmaktadir. Öne çikan temel dezenfeksiyon ve sterilizasyon yapilandirmalari daha çok kapali alanlardan ve yüzeylerden dolayli temas sirasinda olusabilecek, kontaminasyonun engellenmesini hedefleyen fiziksel ve kimyasal inaktivasyon yapilandirmalaridir. Dokusu hava geçisi için uygun olmayip, aslinda hava akisini azaltarak bir solunum cihazinin gerekli nefes alabilirligine müdahale etmektedir. Mikroorganizmalarin yayilmasini azaltmak için benzer bir uygulama da çogunlukla etanol içeren el dezenfektanlarinin kullanimidir. Bu yüzey sanitasyon sistemleri, elle temas yoluyla yayilmayi azaltmada etkilidir, ancak havadaki virüslere karsi korunmada. etkisizdir. Hastalik bulasmamis kisi, bu alkol bazli dezenfektanlari önceden enfekte kisi tarafindan birakilmis mikrop yüklü yüzeylerde virüsü öldürmek için kullanir. Elbette el dezenfektanlari da havadaki virüslerin solunmasina karsi koruma saglamaz. Sonuç olarak dolayli temas yoluyla kontaminasyonun yayilmasini engellemek üzere pek. çok sanitasyon uygulamasi bulunmaktadir. Ancak dogrudan temas ile kontaminasyonu engellemek amaciyla kullanilan filtrasyon temelli kisisel koruyucu maskeler disinda alternatif bulunmamaktadir (World Health Organization. lnfection prevention and control during health care when COVID-l9 is suspected: interim guidance, 19 March Organization, 2020). Dogrudan temas doluyla kontaminasyonu engellemek amaciyla kullanilan maskeler, özellikle epidemi ve pandemiye neden olabilecek Viral hastaliklara sadece filtrasyon yoluyla koruma saglamaktadir. sayili dokümanlara konu maskelerde inaktivasyon filtrasyon ile saglanmaktadir. Enfeksiyonlarin dogrudan yayilmasini Önlemek amaciyla uygulanan kisisel koruma yöntemi olan maske kullaniminda inaktivasyon sadece filtrasyon ile sagladigindan tam. koruma saglamamaktadir. Filtrasyon islemi ile filtre yüzeyine tutunan mikroorganizmalar enfeksiyon riskini daha da arttirmaktadir. Bu maskelerin bertarafi da sorun teskil etmekte ve dolayli enfeksiyon riski yaratmaktadir. maskelerde ise inaktivasyon kimyasal veya biyolojik ajanlarla saglanmaktadir. Kimyasal antimikrobiyal ajanlar ile islem görmüs tekstil materyalinden olusan çok katmanli yüz maskelerinin temel sorunu nefes alisverisi zorlastirmasidir. Bununla birlikte nefes ile nemlenen maske uzun süreli kullanima uygun olamamaktadir. Kimyasal bilesim alerjik bünyelerde ve atopiye egilimli ciltler için toksik özellikler gösterebileceginden saglik sakincalari bulunmaktadir. Bunlarin haricinde tam yüz maskelerinin ise kullanim zorlugu sebebiyle tercih edilmedigi bilinmektedir. Bilinen teknikte, ultraviyole isima da genellikle iç ortam havasi, yüzeyler, su ve cerrahi aletlerin sterilizasyonunda kullanilan etkili bir mikrobiyal kontrol sürecidir. Uygulanan UV isinin dalga boyuna bagli olarak; UV-A(315-400 nm), UV-B dezenfeksiyon ve sterilizasyon amaciyla kullanilmaktadir (Matafonova, Galina, and Valeriy Batoev. "Recent progress on application of UV excilamps for degradation of organic pollütants and microbial inactivation." Chemosphere 89.6 mikroorganizmalar için en öldürücü dalga boyuna sahip olmasi nedeniyle mikrobiyal kontaminasyonu önlemek amaciyla tercih edilir (Chevrefils, G., Caron, E., Wright, H., Sakamoto, G., Payment, P., Barbeau, B., & Cairns, B. (2006). UV` dose required to achieve incremental log inactivation of bacteria, protozoa and viruses. IUVA News, 8(1), 38-45). UV-C isinlarinin mikrobiyal kontaminasyonu önlemek amaciyla kullanildigi durumda insanlar üzerinde zararli UV isinlarinin etkisini yok etmek amaciyla, kisi ile direkt temasini engelleyen özel filtreler ve UV isik sönümleyici isin tuzaklari gelistirilmistir (Liu, Q., Chen, Z., Wei, D., & Du, Y. (2014). Acute toxicity formation potential of benzophenone-type UV filters in chlorination disinfection process. Journal of Environmental Sciences, 26(2), 440-447). UV isimanin kullanildigi fotolitik inaktivasyon isleminde, UV isin dogrudan. mikrobiyal hücreye penetre ederek. hücre ve protein yapisini bozarak öldürmektedir. Teknikte UV-LED'in maskelerde kullanimina örnek olarak doküman, dokuma olmayan(non-wowen) kumaslardan. yapilan maskelerin ömrünün kisa olmasi ve yeterli koruma saglamamasi probleminin Çözümü adina gelistirilmis, kullanim ömrünü ve güvenligini artiran, UV-LED çipleri içeren filtreli maskeleri konu almaktadir. Söz konusu filtreli maskelerin tibbi amaçli kullanildigi belirtilmektedir. Bu maskelerde, civa içermeyen UV LED çiplerinden bir ya da daha fazla kullanilmistir. UV-A UV-LED'ler olarak temin edilebilen, dalga boyu 100 nm ila 380 nm arasinda olan en az bir UV radyasyon kaynaginin bir ve/Veya daha fazla inhalasyon ve/veya ekshalasyon valfi içerisine, kullanicinin yüz bölgesinin (agiz ve/veya burun) UV radyasyonuna maruz kalmasi önlenerek, baglandigi belirtilmektedir. Yüz bölgesinin UV isimasina maruz kalmasinin önlenmesi için, uygun bir plastik malzemeden yapilmis bir UV koruyucu cihaz bulunmaktadir- Dokümana konu maskenin bir çerçeve veya maske gövdesinin disinda yerlestirilmis, dokunmamis (non-woven) uygun. bir kumastan olusan bir ve/veya daha fazla takilabilir degistirilebilir filtre elemani içerdiginden bahsedilmektedir. Dokümana konu filtre maskesini çalistirmak için gerekli güç kaynagi ayri, sarj edilebilir bir akümülatör ve/veya pil ve/veya USB kablo araciligiyla harici bir cihaz ile saglanir. SÖZ konusu dokümanda fotolitik inaktivasyon saglanmaktadir. Fotolitik inaktivasyon isleminde koloni halinde bulunan mikroorganizmalarin bazen birbirini gölgeledigi ve UV isimanin inaktivasyon verimini azalttigi bilinmektedir. Bu dezavantajiyla birlikte, ön partikül filtresi ve UV isima temelli fotolitik inaktivasyon saglayan bu inaktivasyon sistemine sahip yüz maskesini konu alan patentte kullanilan dalga boylarinin ozon üretme potansiyeli göz ardi edilmistir. Teknigin bilinen durumuna ait bir baska Örnek olarak doküman. bir` maske ve bir boyun. kismi içeren. bir solunum cihazina iliskindir. Bahsedilen maske, kullanicinin en azindan agzini veya burun deliklerini önemli ölçüde çevreleyecek sekilde gelistirilmistir. Boyun kismi bahsedilen maskeye tutturulur ve kullanicinin boynunun arkasini büyük ölçüde çevreleyecek sekilde adapte edilmektedir. Söz konusu cihazin filtre düzenegi bir kaba filtre, bir ön filtre, yüksek verimli partikül hava (HEPA) filtresi, gelismis bir karbon filtresi, bir aktif karbon filtresi (buharla aktive edilen veya çoklu kimyasal ile aktive edilen), bir foto katalizör filtresi veya kaplamasi (ortam isigi ve/veya LED ile aktive edilmis) ve bir soguk katalizör filtresi grubundan seçilen bir ya da dahar fazlar filtre içermektedir. Foto katalizör filtresinin tercihen titanyuni dioksitten yapildigi ve tüm isik tiplerine duyarli oldugu belirtilmektedir. Bu sayede de UV isinin kullaniminin gerekli olmadigi ve böylelikle cihazin güvenliginin arttirildigi belirtilmektedir. Dolayisiyla söz konusu doküman UV isinin kullanimi için güvenli bir cihaz sunmamaktadir. Bu durumda havadaki mikroorganizmalarin inaktivasyonunun istenilen düzeyde saglanamayacagi düsünülmektedir. Literatürde bahsi geçen bu patentte, UV-LED sistemi aktif olarak çalismamaktadir. Ayrica kullanilan fotokatalizör filtresi Ti02 katkili aktif karbondur ve gün isigi ile aktive edilmektedir. Yine kullanilan UV isimanin ozon üretimi ve saglik etkileri göz ardi edilmistir. Solunum cihazi kullanimda olmadigi durumda cihazi mikrobiyal inaktivasyon amaciyla UV-LED lambalarin kullanilarak temizlenmesi talimati da gün isiginin yeterli olamayacagi durumlar oldugunu ortaya koymaktadir. UV isimanin kullaniciya ya da çevresine olabilecek zararli etkileri engelleyecek bir mekanizma tanimlanmamistir. Yukarida bahsedilen dezavantajlarin giderilmesi için yerinde (in-situ olarak) ve %lOO'e yakin inaktivasyon saglayan, kendi kendini temizleyen, dezenfekte eden ve kullanildigi ortamin havasini ve hijyenik kosullarini iyilestiren, güvenli, ileri teknoloji bir kisisel koruyucu maskesi gelistirilmistir. Bulusun Detayli Açiklamasi Bulus, ileri teknoloji antimikrobiyal koruyucu bir yüz maskesini konu almaktadir. Gelistirilen maske, birinci asamada katalitik adsorpsiyon ve ikinci asamada fotokatalitik inaktivasyon olmak üzere iki asamali inaktivasyon saglamasi esasina dayanmaktadir. Bulus en genel haliyle, bir dis kapak (1) (ön kapak), katalitik adsorbsiyon saglayan bir ön filtre (4) ve/veya bir hava filtresi (7), fotokatalitik inaktivasyon saglayan bir sanitasyon hücresi (lO), dis kapak (1) ve sanitasyon hücresi (10) arasinda konumlanan bir ara inaktive yüzey (6) ve bir yapi (19) içermektedir. Bulusa konu antimikrobiyal koruyucu yüz maskesi daha detayli - havanin maskeye girmesi için bir dis kapak (1), - katalitik adsorbsiyonun saglanmasi için dis kapakla (1) ara inaktive yüzey (6) arasinda bulunan, istege bagli olarak çikarilip takilabilen antimikrobiyal xwe katalitik Inadde içeren granül aktif' karbon içerikli bir ön filtre (4) ve/veya ön filtre (4) kullanilmadigi durumlarda da koruma saglayan hava giris bosluguna (8) yerlestirilen antimikrobiyal ve katalitik madde içeren granül aktif karbon içerikli bir hava filtresi (7), - nefes alisi kolaylastiran bir hava çekme fani (9), - fotokatalitik inaktivasyonun saglanmasi için UV-C isin dalga boyuna sahip ozon üretmeyen en az bir UV LED lamba (14), UV-C isima sönümleyici siyah isin tuzagi (12), UV-C isininin temas yolu olan titanyum dioksit kapli bir inaktive yüzey (11) ve bir güç ünitesi içeren bir sanitasyon hücresi (10), - dis kapaktan (l) geçen havanin sanitasyon hücresine (lO) geçmesi için yüzeyinde hava giris boslugu (8) içeren, dis kapak (1) ile sanitasyon hücresi (10) arasinda bulunan bir ara inaktive yüzey (6), - sanitasyon hücresi (10) altinda bulunan, kullanicinin agzinin ve/veya burnunun en az bir kismini kapsayan bir yapi (19) ve - bahsedilen yapinin (19) üzerinde, maske içerisine çekilen havanin farkli yolla kolay tahliyesi için bir çikis portu içermektedir. Bulusun bir yapilandirmasinda dis kapak (1) havanin maskeye girmesini saglayan emme delikleri (3) içermektedir. Bulusun bir yapilandirmasinda ön filtre (4) bakir, çinko ve kolloidal gümüs katkili granül aktif karbon içeriklidir. Bulusun bir yapilandirmasinda ön filtre(4), kartus modellidir. Ön filtre (4) kullanici tarafindan istege bagli olarak belirli süre kullanilip, kullanici tarafindan degistirilebilirdirg Maske bu filtre kullanilmadan, da tam inaktivasyon ile çalisabilmektedir. Bulusun bir yapilandirmasi ön filtrenin (4) olmadigi durumda, hava giris boslugunda (8) hava filtresi (7) içermektedir. Bahsedilen hava filtresi (7) bakir, çinko ve kolloidal gümüs içeren antimikrobiyal filtredir. Bulusun. bir yapilandirmasinda ön filtre (4) ve/veya hava filtresi (7) iki katmanli olmaktadir. Ilk katman bakir, çinko ve/veya kolloidal gümüs katkili antimikrobiyal ve katalitik madde içerikli granül aktif karbon içermekte olup, mikrobiyal inaktivasyon saglamaktadir. Ikinci katman katkisiz granül aktif karbon filtre içermekte olup, ortamdaki zararli gazlara karsi da etki göstermektedir. Bulusun bir yapilandirmasinda ara inaktive yüzeyi (6), Ön filtre (4) ile sanitasyon hücresi (10) arasinda ayirici ve destek baglanti yüzeyi olmaktadir. Bulusun bir yapilandirmasinda ara inaktive yüzey (6) antimikrobiyal kaplamalidir. Bulusun bir yapilandirmasinda ara inaktive yüzey (6) üzerinde hava akisini düzenleyen hava akis kanallari (5) bulunmaktadir. Bulusun bir yapilandirmasinda ara inaktive yüzey (6) üzerindeki sanitasyon hücresi (10) hava giris bosluguna (8) yerlestirilen bir hava çekme fani (9)(emis fani) bulunmaktadir. Bahsedilen hava çekme fani (9) kullanici tarafindan nefes almayi kolaylastirmaktadir. Bulusun bir yapilandirmasinda titanyum dioksit nano boyutludur. Bulusun bir yapilandirmasinda; UV LED lamba (14) civa içermeyen ozon üretmeyen UV-C dalga boyuna sahiptir. Tercihen UV LED lamba (14) 4 adettir. Bulusun bir yapilandirmasinda güç ünitesi sanitasyon hücresi (10) için gerekli enerjiyi saglamaktadir. Bulusun bir yapilandirmasinda güç ünitesi, güç ayar devresi (13), sarj edilebilir pil (16) ve mikro usb sarj bölümü (15), UV-C için açma/kapama butonu (18) içermektedir. Bulusun bir yapilandirmasinda sanitasyon hücresi (10) nefes yolu girisinden nefes yolu çikisina kadar uzanan tek katmanli ve labirent yapilidir. Bulusun bir yapilandirmasinda yapi (19), kullanicinin yüz hatlarini saran yumusak bir yüzeye sahiptir. Bulusun bir yapilandirmasinda yapi (19) nefes giris yönüne açilabilen tek yönlü hava giris valfi (20) içermektedir. Bulusun bir yapilandirmasinda çikis portu tek yönlü hava çikis valfi (21) içermektedir.Bu sayede maskenin içine Çekilen ve solunum sonucu olusan havanin farkli yolla kolay tahliyesi saglanmaktadir. Tek yönlü hava giris valfi (20) ve tek yönlü hava Çikis valfi (21) nefes alma güçlügü çeken kullanicilar için kolaylastirici ve konforlu olup, maske bu valfler olmadan da ayni etkinlikte mikrobiyal inaktivasyonla çalisabilmektedir. Bulusun bir yapilandirmasi kullanicinin bas kismina sabitlenen ayarlanabilir askilar içermektedir. Bulusun bir yapilandirmasinda UV-C isima sönümleyici siyah isin tuzagi (12), sanitasyon hücresinin (10) çikisinda bulunmaktadir. Bu sayede her yastan ve tüm risk gruplarindaki her kullanicinin UV-C isimanin yikim etkilerinden korunmasi saglanmaktadir- Bulusun bir yapilandirmasina konu maske içerisinde sanitasyon, sirasiyla katalitik adsorpsiyon ve fotokatalitik inaktivasyon asamalarindan olusmaktadir. Katalitik adsorpsiyon için virüs, bakteri, küf vb. tüm mikroorganizmalar üzerinde antiseptik (germicidal) etkili Cu, Zn ve kolloidal Ag katkili aktif karbon içerikli ön filtre (4) bulunmaktadir. Fotokatalitik inaktivasyon için ozon üretmeyen UV-C isin dalga boyuna sahip UV LED lamba (14) ile fotolitik inaktivasyon ve isigin temas yolu nano TiO2 kaplanarak fotokatalitik antimikrobiyal nitelik kazandirilmis yüzeyde inaktivasyon saglanmaktadir. Bulusun bir yapilandirmasinda maskenin nefes yolu boyunca ilerleyen mikroorganizmalar sirasiyla antiseptik (germicidal) etkili Cu, Zn ve kolloidal Ag kapli aktif karbon filtreden geçerek, UV-C isin dalga boylu UV LED lamba (14) yerlestirilmis labirent yol boyunca ilerleyecek ve nano boyutlu TiOzkaplanarak fotokatalitik antimikrobiyal nitelik kazandirilmis yüzey üzerinde üç asamada inaktive edilecektir. Bu sayede iç ortam havasinin mikrobiyal yükü ne kadar yüksek olursa olsun pratikte %lOO inaktivasyon saglanacaktir. Bulusun bir yapilandirmasinin çalisma prensibi ile havadaki parçaciklarin tutulmasi saglanmakta, aktif karbon filtrenin antimikrobiyal malzeme ile kapli olmayan kisimlari ile adsorpsiyon yoluyla zararli gaz ve koku giderilmekte ve Cu, Zn ve kolloidal Ag katkili antimikrobiyal ve katalitik.malzeme ile kaplanmis aktif karbon filtre, maskeye gelen mikroorganizmalarin sayisinda önemli bir azalma saglamaktadir. Daha sonra UV-C fotolitik inaktivasyon ve Ti02 kapli yüzeyde fotokatalitik inaktivasyon ile geri kalan mikroorganizmalarin giderilmesini saglamaktadir. Bulusun bir yapilandirmasi sekil 1 ila 8'de gösterilmektedir. Sekil 1'de dis kapak (1) verilmekte olup, dis kapak (1), üzerinde kirli havanin filtrasyon sistemine girmesine izin veren emme delikleri (3) bulunan bir ön kapaktir. Dis kapak (1) üzerindeki hava akis yolu (2) sekil 1'de gösterilmektedir. Sekil 2'de katalitik adsorpsiyon saglayan, antimikrobiyal ön filtre (4) gösterilmekte olup, ön filtre (4) virüs, bakteri, küf vb. mikroorganizmalar üzerinde antiseptik (germicidal) etkili Cu, Zn ve kolloidal Ag katkili aktif karbon içerikli katalitik adsorbsiyon filtresidir. Ön filtre (4) kullanici tarafindan istege bagli olarak kullanilabilir. Belirli süre kullanilip, kullanici tarafindan degistirilebilen kartus modelli ve antimikrobiyal niteliklidir. Maske bu katalitik adsorbsiyon hücresi olmadan da çalisabilmektedir. Ön filtre (4) üzerindeki hava akis yolu (2) sekil 2'de gösterilmektedir. Sekil 3'teantimikrobiyal kaplamali ara inaktive yüzey (6) gösterilmekte olup, ara inaktive yüzey (6), ön filtre (4) ile sanitasyon hücresi (10) arasindaki ayirici, hava akisini düzenleyen, destek baglanti yüzeyidir. Yüzey üzerindeki hava giris boslugu (8), ön filtrelenmis havanin sanitasyon hücresine (lO) geçisini saglar. Bu hava giris boslugunda (8) Cu, Zn ve kolloidal Ag kapli antimikrobiyal ve katalitik malzeme içeren adsorpsiyon saglayan ön filtrenin (4) kullanilmadigi durumda islem gören daha küçük boyutlu Cu, Zn ve kolloidal Ag katkili granül aktif karbon içerikli antimikrobiyal hava filtresi (7) bulunmakta olup, sekil 3'te gösterilmektedir. Hava akis yolu (2) ara inaktive yüzey (6) üzerinden geçmektedir. Sekil 4'te maskenin hava yolu girisinde nefes almayi kolaylastirici hava çekme fani (9)(emis fani) bulunmaktadir. Bu sayede nefes çekis hizina bagli olmaksizin hava yolundan akis saglanmaktadir. Sekil 4'te gösterildigi gibi hava çekme fani (9) ara inaktive yüzey (6) üzerindeki hava giris bosluguna (8) yerlestirilmektedir. Sekilde 5'te gösterilen hava akis yolundan (2) da anlasilabilecegi gibi söz konusu yapilandirmaya ait sanitasyon hücresi (10), katmanli bir yapidan ziyade nefes yolu girisinden nefes yolu çikisina kadar uzanan tek katmanli ve labirent yapilidir. Bu sayede hafif' olmasindan. dolayi kullanim kolayligi ve nefes konforu saglamaktadir. Söz konusu yapilandirmaya ait sanitasyon hücresi (lO), ozon üretmeyen UV-C isin dalga boyuna sahip 4 adet UV LED lamba (14), nano boyutlu titanyum dioksit kapli inaktive yüzey (11) ve UV-C isima sönümleyici siyah isin tuzagindan (12) olusur. Sekil 5'te gösterildigi gibi UV-C isima sönümleyici siyah isin tuzagi (12) (light trap) kullaniciyi UV-C isimanin yikim etkilerinden korumak amaciyla sanitasyon hücresinin (10) çikisina konumlandirilmistir. Sanitasyon hücresi (10) için gerekli enerjiyi saglayan güç ünitesi, güç ayar devresi (13), sarj edilebilir pil (16) ve mikro usb sarj bölümü. (15) içerir. Sekil 6'da UV-C için açma/kapama butonu (18) ve mikro USB sarj girisi (17) gösterilmektedir. Sanitasyon hücresi (10) altinda kullanicinin burun ve agiz yapisini kaplayan yumusak yüzeyi haiz bir yapi (19) bulunmaktadir. Sekil 7'de yapilandirmaya konu maskenin iç yüzeyi gösterilmektedir. Kullanicinin yüz hatlarini saran bahsedilen yumusak yapi (19) nefes yönüne açilabilen tek yönlü hava giris valfi (20) içermektedir. Sekil 8'de yapinin (19) üzerinde hava çikis yolu gösterilmektedir. Bunun için nefes çikis yönüne açilabilen tek yönlü hava çikis valfi (21) içeren havanin disari atilacagi çikis portu bulunmaktadir. Sekil 3'te verilen ara inaktive yüzeyden (6) hava akis yolunu (2) izleyerek hücre içerisine çekilen hava, sekil 5'te gösterilen sanitasyon hücresinde (lO) hava akis yolunu (2) (nefes yolunu) takip etmekte ve sekil 7'de gösterilen tek yönlü hava giris valfinden (20) hava akis yoluna (2) yönlendirilmektedir. Gümüs iyonlari basta olmak üzere bakir ve çinko iyonlarinin antibakteriyel etkisi uzun yillardir çalisilmis ve etkinligi görülmüstür. Sekil 2'de de gösterilen bakir, Çinko ve kolloidal gümüs katkili antimikrobiyal malzeme ile kaplanmis aktif karbon içerikli ön filtre (4), pasif süreç boyunca (maske kullanilmadigi durumda, sanitasyon sistemi çalismadigi zaman) maskenin içerisinde kalan mikroorganizmalarin gelismesini durdurarak sistem tekrar çalismaya baslatildiginda bu mikroorganizmalarin havaya verilmesini engellemektedir. Ayrica hava akiminin pasif difüzyonu sonucu olusabilecek kontaminasyon, maske girisinde inaktive edilecek ve kullanim basladiginda kisiyi riske sokmayacaktir. Bu da koruyucu kilif gereksinimini ortadan kaldirmaktadir. Bulusa konu maske istenildiginde bu antiseptik (germicidal) Cu, Zn ve kolloidal Ag katkili aktif karbon içerikli ön filtre (4) olmadan da fotokatalitik sanitasyon hücresi (lO) sayesinde pratikte %lOO inaktivasyon ile çalisabilmektedir. Teknikteki fotolitik inaktivasyon saglayan maskelerin aksine, fotokatalitik inaktivasyon (TiOz -UV sistemi) süreçleri daha güvenilir sterilizasyon sunmaktadir. Fotokatalitik sistem (TiOg -UV sistemi) kendi kendini temizleyen, dezenfekte eden ve kullanildigi ortamini havasini ve hijyenik kosullarini gelistiren bir sistemdir. UV isik temas yüzeyleri üzerinde nanometre boyutunda TiO2'nin bir fazi olan anataz fazi olusturulmustur. Bu faz fotokatalitik etkiye sahiptir. Fotokatalitik sistemler ultraviyole radyasyona maruz kaldigi zaman kimyasal tepkimeye girerek ayrismakta ve aktif oksijen açiga çikarmaktadir. Aktif oksijen içerisinde organik maddelerin yükseltgenmesi, bozundurulmasi ve süper oksidasyon yoluyla bakterilerin giderilmesi ve havanin istenmeyen kokulardan ve zararli gazlardan arindirilmasi özelligine sahiptir. Gelistirilenr bulustar fotokatalitikr inaktivasyon saglanarak havadaki mikroorganizmalarin giderilmesi için enerjisi C sinifi UV LED lambalar (14) kullanilmis ve sanitasyon yüzeyi Ti02 ile kaplanmistir. Ti02 düsük maliyetli ve kararli olmasi, organik bilesikleri UV isimasi altinda 02, su ve CO2 gibi zararsiz bilesiklere döndürmesi nedeniyle literatürde en çok tercih edilen yari iletken olup, dezenfeksiyon amaciyla yaygin olarak kullanilmaktadir. Bulusun bir yapilandirmasinda iç-dis yüzey ve tüm aksamlar bakir, çinko ve kolloidal gümüs katkili antimikrobiyal malzeme ile kaplanmaktadir. Bulusun bir yapilandirmasinin dis yüzeyinde çinko, bakir ve/veya kolloidal gümüs katkili antimikrobiyal malzeme katkili boya kullanilmistir. Bulus ile dogrudan enfekte kisinin solunum yoluyla iç ortama biraktigi patojen ve aerosollerden korunmak amaciyla kullanimi rahat ve güvenilir antimikrobiyal koruyucu yüz maskesi gelistirilmistir. Bu maske özellikle yüksek risk ile çalisan saglik personeli, hasta ve risk grubu (65 yas üstü, solunum rahatsizligi, kalp hastaligi vb.) kisiler için kullanim kolayligi ve nefes kolayligi saglamaktadir. Bulus sayesinde maske yüzeyine tutunabilecek mikroorganizmalarin yerinde inaktivasyonu saglanarak yüksek koruma saglanmaktadir. Mikroorganizma maske yüzeyinde ve içerisinde inaktive edildiginden sonrasinda maske ile temas sonucu olusabilecek enfeksiyon riski yaratmamaktadir. Gelistirilen maske mukavemetli ve uzun ömürlü kullanim saglamaktadir. Maske içerisindeki sanitasyon sistemi sayesinde maske kendi kendini steril etmektedir. Bu sayede kullanim sonrasi bertaraf sirasinda enfeksiyon riski tasimamaktadir. Gelistirilen maske nefes yolu üzerinde tek yönlü hava giris valfi (20) ve tek yönlü hava çikis valfi (21) sayesinde nefes alisverisini zorlastirmamaktadir. Bu nefes yolu sayesinde maske sanitasyon hücresi (lO) nemden korunmakta ve kullaniciya kullanim rahatligi saglamaktadir. Bu sayede katmanli yüz maskelerinden ayrilmaktadir. Bulus, alerjik bünyelerde ve atopiye egilimli ciltler için saglik sakincalari olusturmamaktadir. Bulus, kullanicin burnunu ve agzini kavrayan yapisi (19) ve bas kismina sabitlenen ayarlanabilir askilari ile kullanim kolayligi saglamaktadir. Bulus, enfekte kisinin tasidigi Virüs ve bakterinin inaktive edilmesinin yani sira içerdigi aktif karbon filtre sayesinde ortamdaki kötü kokularin. ve gazlarin da tutulmasini saglamaktadir. Bulusta sanitasyon hücresi (10) mikro USB sarj bölümü (15) ile kolay sarj edilebilir nitelikte olup tekrar tekrar kullanilabilir özellikte gelistirilmistir. Bulusa konu maske tasinabilir güç kaynagi (power bank) ile hizli sarj edilebilir nitelikte gelistirilmistir. Bulusa konu kisisel koruyucu antimikrobiyal yüz maskesi, halk sagligini korumak amaçli olarak risk altinda bulunan tüm bireyler için kullanima uygundur. Bunun disinda yüksek risk ile Çalisan saglik personeli, klinik uygulamalar, mikrobiyal arastirmalar, dezenfeksiyon ve sterilizasyon arastirmalari yapan özel kamu laboratuvarlari için büyük kullanim alanina sahiptir. Teknikteki dokümanlarin aksine bulusa konu olan maskede ozon üretmeyecek UV-C isima kullanilmaktadir. Bahsedilen bulusta fotokatalitik. sistem. aktif' olarak kullanilmaktadir. Maske kullanimdayken katalizör UV-C isimali fotokatalitik sistem aktif olarak çalismaktadir. Nefes yolu üzerindeki geçis yüzeyleri katalitik kaplamali olup, ayrica granül aktif karbon filtre hem antimikrobiyal hem de katalitik adsorpsiyon görevi görecek Cu, Zn ve kolloidal Ag temellidir. Ayrica fotolitik sistem tekrar üreme durumunu engelleyecek fotokatalitik inaktivasyon mekanizmasina sahiptir. Bulusa konu olan yuz maskesinde UV isimanin etkilerini ortadan kaldiracak bir isik tuzagi (light trab) ve ozon üretmeyecek dalga boyunda UV-C LED lambalar (14) bulunmaktadir. Bu sayede kullaniciya güvenli ve pratikte %100 etkili inaktivasyon saglayan kullanim sunmaktadir. Bulusta kullanilan fotolitik ve fotokatalitik sistem aktif bir sekilde çalismaktadir. Bulus Virus, bakteri, küf Vb. mikroorganizmalar üzerinde antiseptik (germicidal) etkili Cu, Zn ve kolloidal Ag katkili aktif karbon içerikli katalitik adsorbsiyon filtresi ve UV-C isin dalga boyuna sahip ozon üretmeyen en az bir UV LED lamba (14), UV-C isima sönümleyici siyah isin tuzagi (12), UV-C isininin temas yolu olan titanyum dioksit kapli bir inaktive yüzeyi (11) ile gerçeklesen fotokatalitik inaktivasyon ile literatürdeki tüm eksiklikleri gidermektedir. Özetle bulus kisisel koruyucu ekipman olarak ileri teknoloji antimikrobiyal koruyucu bir yüz maskesi olup, ortamdaki partikül ve zararli gazlara karsi da etki gösterecek hava temizleme sistemine sahip olup, bir dis kapak (1), katalitik adsorpsiyonun saglanmasi ve havadaki zararlarin giderilmesi için dis kapakla (1) ara inaktive yüzey (6) arasinda bulunan, istege bagli olarak çikarilip takilabilen bir çinko, bakir ve kolloidal gümüs içerikli antimikrobiyal ve katalitik granül aktif karbon ve katkisiz granül aktif karbon seklinde iki katmandan olusan bir ön filtre (4) ve/veya hava giris bosluguna (8) yerlestirilen bir çinko, bakir ve kolloidal gümüs içerikli antimikrobiyal ve katalitik granül aktif karbon ve katkisiz granül aktif karbon seklinde iki katmandan olusan bir hava filtresi (7),nefes alisi kolaylastiran hava çekme fani (9) (emis fani), fotokatalitikr inaktivasyonun saglanmasi için ozon üretmeyen UV-C isin dalga boyuna sahip UV LED lamba (14, UV-C isininin temas yolu olan nanometre boyutlu titanyum dioksit kapli inaktive yüzey (ll) ve bir güç ünitesi içeren bir sanitasyon hücresi (10), dis kapaktan (1) geçen havanin sanitasyon hücresine (10) geçmesi için yüzeyinde hava giris boslugu (8) içeren, dis kapak (1) ile sanitasyon hücresi (10) arasinda bulunan bir ara inaktive yüzey (6), sanitasyon hücresi (10) altindar bulunan, kullanicinin agzinin ve/veya burnunun en az bir kismini kapsayan bir yapi (19) ve bahsedilen yapinin (19) üzerinde, maske içerisindeki havanin farkli yolla kolay tahliyesi için bir çikis portu ve çinko, bakir ve kolloidal gümüs içerikli antimikrobiyal madde kapli ve/veya bu antimikrobiyal madde içeren boya ile boyanmis diger tüm maske yüzeyleri içermektedir. Sekillerin Açiklamalari Sekil 1: Bulusa konu maskeye ait dis kapaginin görünümü Sekil 2: Bulusa konu maskeye ait antimikrobiyal ön filtrenin görünümü Sekil 3: Bulusa konu maskeye ait antimikrobiyal kaplamali ara inaktive yüzeyin görünümü Sekil 4: Bulusa konu maskeye ait hava çekme faninin görünümü Sekil 5: Bulusa konu maskeye ait sanitasyon hücresinin görünümü Sekil 6: Bulusa konu maskeye ait sanitasyon hücresinin baska bir görünümü Sekil 7: Bulusa konu maskeye ait iç yüzeyin görünümü Sekil 8; Bulusa konu maskeye ait maske çikis hava yolunun görünümü Sekillerde Yer Alan Referans Numaralarinin Açiklamalari .Dis kapak .Hava akis yolu .Emme delikleri .Ön filtre .Hava akis kanallari 6.Ara inaktive yüzey 7.Hava filtresi 8.Hava giris boslugu 9.Hava çekme fani . Sanitasyon hücresi 11. Inaktive yüzey 12. UV-C isima sönümleyici siyah isin tuzagi 13. Güç ayar devresi 14. UV LED lamba . Mikro USB sarj bölümü 16. Sarj edilebilir pil 17. Mikro USB sarj girisi 18. Açma/kapama butonu Tek yönlü hava giris valfi Tek yönlü hava çikis valfi TR TR