TR201922541A2 - Bir optik izolasyon yöntemi - Google Patents
Bir optik izolasyon yöntemiInfo
- Publication number
- TR201922541A2 TR201922541A2 TR2019/22541A TR201922541A TR201922541A2 TR 201922541 A2 TR201922541 A2 TR 201922541A2 TR 2019/22541 A TR2019/22541 A TR 2019/22541A TR 201922541 A TR201922541 A TR 201922541A TR 201922541 A2 TR201922541 A2 TR 201922541A2
- Authority
- TR
- Turkey
- Prior art keywords
- laser
- wavelength
- filter
- gain
- optical isolation
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 38
- 238000002955 isolation Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 claims description 7
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 7
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 5
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 3
- 230000009022 nonlinear effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 3
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012770 industrial material Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0064—Anti-reflection devices, e.g. optical isolaters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0092—Nonlinear frequency conversion, e.g. second harmonic generation [SHG] or sum- or difference-frequency generation outside the laser cavity
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/09—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on magneto-optical elements, e.g. exhibiting Faraday effect
- G02F1/093—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on magneto-optical elements, e.g. exhibiting Faraday effect used as non-reciprocal devices, e.g. optical isolators, circulators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0078—Frequency filtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
- H01S3/067—Fibre lasers
- H01S3/06754—Fibre amplifiers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/1601—Solid materials characterised by an active (lasing) ion
- H01S3/1603—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
- H01S3/1618—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth ytterbium
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/30—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range using scattering effects, e.g. stimulated Brillouin or Raman effects
- H01S3/302—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range using scattering effects, e.g. stimulated Brillouin or Raman effects in an optical fibre
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
Buluş; spektral filtre ve kazanç bandı ile optik izolasyon yapılmasını sağlayan bir optik izolasyon yöntemi (100) ile ilgilidir.
Description
TARIFNAME BIR OPTIK IZOLASYON YÖNTEMI Teknik Alan Bulus; spektral filtre ve kazanç bandi ile optik izolasyon yapilmasini saglayan bir optik izolasyon yöntemi ile ilgilidir. Önceki Teknik Fiber lazerler, yüksek isin kalitesi, yüksek dönüsüm verimliligi ve yüksek ortalama güçler üretme kabiliyeti gibi olaganüstü avantajlari nedeniyle son zamanlarda büyük ilgi görmektedir. Bunlar arasinda, ultra hizli fiber lazerler, endüstri, tip ve bilimsel arastirmalardaki uygulamalari nedeniyle çok fazla ilgi görmektedirler. Hassas mikro islemede ve yüzey degisikliklerinde pikosaniye ve femtosaniye darbelerinin uygulanmasi son yillarda önemli ölçüde artmaktadir. Pikosaniye veya femtosaniye darbeleri üreten ultra hizli lazerlerin malzemelerle son derece hassas etkilesimi, bu tür lazerlerin endüstriyel malzeme islemesine daha fazla nüfuz etmesine ve artmasina neden olmaktadir. Bu kullanim senaryolarindaki önemli sorunlarda biri lazer islemesi sirasinda lazer isiginin çalisilan yüzeylerden geri yansimasi ve lazer performansi üzerinde olumsuz etki olusturmasidir. Geri yansima, hedef malzeme ile etkilesimi sirasinda lazer isinlari tarafindan olusturulan plazma kalkanindan meydana geldiginden, bu plazma kalkani geri yansiyan isigi mükemmel bir sekilde yönlendirmekte ve metrelerce uzakta olsa bile lazer isininin kaynaklandigi lazere yönlendirilmesini saglamaktadir. Lazerin son ve en güçlü yükseltici asamasi en büyük tehlikeye maruz kalirken, geri yansima lazer sisteminin içinde güçlendirilebilmekte ve ana osilatör güç yükseltici tabanli lazer sistemlerinde önceki yükseltme asamalarina ve hatta kaynak lazere zarar verebilmektedir. Bir lazeri geri yansimaclan korumak için optik bir izolatör kullanmak standart bir uygulamadir. Optik izolatör, bir yönde yüksek isik geçirgenligine ve zit yönde yüksek bir zayiflamaya sahip olan pasif bir optik cihazdir. Neredeyse pratik kullanimdaki tüm izolatörler Faraday etkisine dayanmakta, burada isigin polarizasyonu harici bir manyetik alan kullanilarak karsilikli olarak döndürülmesi engellenmektedir. Bununla birlikte, izolasyon elde etmek için kullanilabilecek baska, genellikle daha karmasik teknikler bulunmaktadir. Bu sekilde izolasyon hem zarar riskinin hem de olumsuz etkisinin daha fazla oldugu yüksek güçlü lazerler için özellikle önemlidir. Bununla birlikte, optik izolatörleri elde etmek zordur ve daha yüksek güçlerde giderek pahali hale gelmektedir. Son yillarda, lazerlerin çikis güçlerinin artmasi, optik izolatörlerin gücünün artmasindan kaynaklanmaktadir. Bu sebeple, optik bir izolasyon Cihazi kullanmadan etkili optik izolasyon elde etmek için alternatif ve pratik bir yönteme ihtiyaç duyulmaktadir. patent dokümaninda optik izolasyon için kullanilan bir aparat ve bir yöntemden bahsedilmektedir. Aparat; bir lazer, bir isin dagitim sistemi ve bir çikis portu içermektedir. Lazer; bir tepe gücü ile tanimlanmakta ve bir sinyal dalga boyunda lazer radyasyonu yaymaktadir. Lazer radyasyonu, isin dagitim sistemi yoluyla laZErden çikis portuna baglanmaktadir. Isin dagitim sistemi; bir optik izolatör ve bir optik elyaf içermekte ve lazer tarafindan yayilan lazer radyasyonunun gücünün çikis portundaki lazer radyasyonunun gücünden daha fazla olacagi sekilde sinyal dalga boyunda lazer radyasyonunu zayiflatmaktadir. Optik izolatör, raman dalga boyuna kiyasla sinyal dalga boyunda daha büyük geriye optik izolasyona ve ileri iletime sahiptir. Optik elyaf, uyarilmis raman saçilimini bastirmak için bir bastirrna araci içermektedir. patent dokümaninda optik bir sistemi optik olarak izole etmek için kullanilan optik bir izolatörden bahsedilmektedir. Optik izolatör; bir filtre ve bir raman degistiriei içermektedir. Filtre, optik sistemin çiktisiyla optik olarak birlestirilmekte ve degisen frekanslardaki elektromanyetik radyasyonun geri yansiyan kisimlarini filtrelemektedir. Raman degistirici, elektromanyetik radyasyonun frekanslarini raman saçilmasi yoluyla kaydirinak için filtrenin çiktisi ile optik olarak birlestirilmektedir. Teknigin bilinen durumunda yer alan CN101217227 sayili Çin patent dokümaninda pompa kaynakli lazer diyot için bir koruma izolasyon eihazmdan bahsedilmektedir. Lazer diyot izolasyon koruma cihazi, bir pompa kaynakli lazer diyot ve bir lazer ortami arasinda kristal veya fiber pigtail bölümü saglamak üzere yapilandirilmistir ve kristal veya fiber pigtail, lazer diyotunun çikis lazer dalga boyunun yüksek bir penetrasyonuna sahiptir. Çalisan dalga boyu lazeri, uyarilmis Raman saçilmis isik ve lazer ortami tarafindan üretilen ASE isigi, pompa kaynakli lazer diyotunu hasardan koruyan, lazer diyotunun hizmet ömrünü artiran ve maliyeti düsüren pompa kaynagindan izole edilmektedir. Bulusun Kisa Açiklamasi Bu bulusun amaci, spektral filtre ve kazanç bandi ile optik izolasyon yapilmasini saglayan bir optik izolasyon yöntemi gerçeklestirmektir. Bu bulusun bir baska amaci, optik bir izolasyon cihazi kullanmadan etkili optik izolasyon elde etmek için alternatif ve son derece pratik bir optik izolasyon yöntemi gerçeklestirmektir. Bu bulusun bir diger amaei, spektral filtre kullanarak lazerin yansima etkisinin üstesinden gelmeyi saglayan bir optik izolasyon yöntemi gerçeklestirmektir. Bulusun Ayrintili Açiklamasi Bu bulusun amacina ulasmak için gerçeklestirilen "Bir Optik Izolasyon Yöntemi" ekli sekilde gösterilmis olup, bu sekil; Sekil 1. Kazanç izolasyon mekanizmasina ait grafiklerin yer aldigi genel bir görünümdür. Sekil 2. Bulus konusu optik izolasyon yönteminde a) geri yansiyan isigin merkez dalga boyuna karsi deney (kareler) ve simülasyon (çizgi} çikis gücü. b) yükseltilmis geri yansima sonuçlari, c) 2W kaynak ve farkli geri yansima güçleri için simüle edilmis çikis gücü ve d) yükseltilmis geri yansitilmis güç sonuçlarina ait deneysel grafiklerdir. 100. Yöntem Bulus konusu optik izolasyon saglamada kullanilan yöntem (100); -lazer çikis spektrumunun genisliginin artirilmasi (101), -uzun geçis filtresinin dalga boyunu kesmesi (102], -lazerden çikan isinin hedefe (H) gönderilmesi (103), -lazer isininin bir kisminin lazere tekrar gelmesi (104] ve -lazere dönen isinin spektral filtre tarafindan durdurularak, filtreden kaçan kisminin kazanç bandi disinda kalmasi sayesinde lazerin korunmasi (105) adimlarini içermektedir. Bulus konusu Optik izolasyon yönteminde (100), basta Raman saçilimi olmak üzere çok çesitli dogrusal olmayan etkiler sebebiyle, lazerin çikis spektrumunun genisligi, tipik olarak daha uzun dalga boylarina dogru asimetrik olarak genisletilmektedir (101). Böylece merkezi dalga boyu daha uzun dalga boyuna geçmektedir. Bulusun bir düzenlemesinde dalga boyu 1030 nm`den 1150 nm"ye gEÇmektedir. Uzun geçis filtresi, kazanç bant genisligi araliginda olan dalga boyunu kesmekte (A) ve spektrumun geri kalanini geçirrnektedir (102). Ardindan lazer çiktisi hedefe (Hl gönderilmektedir (103]. Geri yansima nedeniyle, lazer isininin bir kismi tekrar lazere gönderilmektedir (104). Bu isin kismen spektral filtre tarafindan durdurulmaktadir (105). Filtreden kurtulan lazer isini bölümü, lazerin kazanç bant genisligine uymadigi için çok az kazanç elde edilmekte veya hiç kazanç elde edilememektedir (105). Bu nedenle, orijinal spektral kaymanm meydana geldigi fiber veya optik ortam arti kazanç bandi ve/veya spektral filtre, tamamen bir izolatör gibi davranarak lazer sistemini korumaktadir (10 5 ). Bulus konusu optik izolasyon yöntemi (100) ile lazerin Optik izolatörde oldugu gibi, dogal sinirlamalari ve yüksek maliyetleri olmadan, geri yansimaya karsi basariyla korunmasi saglanmaktadir. Yönteme (100) iliskin gerçeklestirilen ön deneyler 10 W iterbiyum (Yb) katkili lazer ile yapilmaktadir. Geri yansitma ve çogaltilmis geri yansitma güçleri ayni anda güç ölçerler ile ölçülmektedir. Geri yansiyan lazerin merkezi dalga boyu Sekil 2a° da gösterildigi gibi kazanç bant genisligi içindeyse çikis gücünü bozabilmektedir. Sekil 2b" de gösterildigi gibi kazanç bant genisligi içindeki spektrum filtrelenerek 20 dB1 den fazla izolasyon elde edilmektedir. Yöntem (100), Sekil 2c ve Sekil 2d" de gösterilen simülasyon sonuçlari ile dogrulanmaktadir. Sekil 2' de geri yansiyan isigin merkez dalga boyuna karsi deney (kareler) ve simülasyon (çizgi) çikis gücü (a) ve yükseltilmis geri yansima (b) sonuçlari yer almaktadir, Ayrica yine Sekil 2" de 2W kaynak ve farkli geri yansima güçleri ve 300 mW (daireler) için simüle edilmis çikis gücü (c) ve yükseltilmis geri yansitilmis güç (di sonuçlari yer almaktadir. Bu temel kavramlar etrafinda bulus konusu optik izolasyon yöntemi (100) için çok çesitli uygulamalarin gelistirilmesi mümkün olup, bulus burada açiklanan örneklerle sinirlandirilamaz, esas olarak istemlerde belirtildigi gibidir. TR
Claims (1)
1.ISTEMLER . Optik izolasyon saglamada kullanilan; -lazer çikis spektrumunun genisliginin artirilmasi (101), -uzun geçis filtresinin dalga boyunu kesmesi (102), -lazerden çikan isinin hedefe (H) gönderilmesi (103), -lazer isininin bir kisminin lazere tekrar gelmesi (104) ve -lazere dönen isinin spektral filtre tarafindan durdurularak, filtreden kaçan kisminin kazanç bandi disinda kalmasi sayesinde lazerin korunmasi (105) adimlari ile karakterize edilen Optik izolasyon yöntemi (100). Basta Raman saçilimi olmak üzere çok çesitli dogrusal olmayan etkiler sebebiyle, lazerin çikis spektrumunun genisliginin, tipik olarak daha uzun dalga boylarina dogru asimetrik olarak genisletilmesi (101) ile karakterize edilen Istem 1” deki gibi bir yöntem (100). Merkezi dalga boyu daha uzun dalga boyuna geçmesi ile karakterize edilen Istem 2, deki gibi bir yöntem (100). . Uzun geçis filtresinin, kazanç bant genisligi araliginda olan dalga boyunu kesmesi (A) ve spektrumun geri kalanini geçirmesi (102) ile karakterize edilen Istem 3°teki gibi bir yöntem (100). Lazer çiktisinin hedefe (H) gönderilmesi (103) ile karakterize edilen istem . Geri yansima nedeniyle, lazer isininin bir kisminin tekrar Iazere gönderilmesi (104) ile karakterize edilen Istem 5, teki gibi bir yöntem (100). edilen Istem 6' daki gibi bir yöntem (100]. Filtreden kurtulan lazer isini bölümünün, Iazerin kazanç bant genisligine uymadigi için çok az kazanç elde edilmesi veya hiç kazanç elde edilememesi (105) ile karakterize edilen Istem ?deki gibi bir yöntem (100). Orijinal spektral kaymanin meydana geldigi fiber veya optik ortam arti kazanç bandi ve/veya spektral filtre ile tamamen bir izolatör gibi davranarak lazer sisteminin korunmasi (105) ile karakterize edilen Istem 8* deki gibi bir yöntem (100). TR
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TR2019/22541A TR201922541A2 (tr) | 2019-12-30 | 2019-12-30 | Bir optik izolasyon yöntemi |
| PCT/TR2020/051353 WO2021137810A1 (en) | 2019-12-30 | 2020-12-22 | An optical isolation method |
| EP20910176.5A EP4085301A4 (en) | 2019-12-30 | 2020-12-22 | METHOD FOR OPTICAL ISOLATION |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TR2019/22541A TR201922541A2 (tr) | 2019-12-30 | 2019-12-30 | Bir optik izolasyon yöntemi |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TR201922541A2 true TR201922541A2 (tr) | 2021-07-26 |
Family
ID=76687544
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TR2019/22541A TR201922541A2 (tr) | 2019-12-30 | 2019-12-30 | Bir optik izolasyon yöntemi |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP4085301A4 (tr) |
| TR (1) | TR201922541A2 (tr) |
| WO (1) | WO2021137810A1 (tr) |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002076482A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-03-15 | Fujitsu Ltd | 光増幅器，光増幅方法及び光増幅システム |
| EP2381543B1 (en) * | 2008-12-26 | 2019-07-10 | Fujikura Ltd. | Fiber laser apparatus |
| CN102540624A (zh) * | 2011-11-23 | 2012-07-04 | 深圳大学 | 基于多普勒振镜的可调谐光学变频器 |
| IL221918A (en) * | 2012-09-12 | 2016-11-30 | V-Gen Ltd | Optically isolated |
| JP6140750B2 (ja) * | 2015-03-24 | 2017-05-31 | 株式会社フジクラ | ファイバレーザ装置 |
-
2019
- 2019-12-30 TR TR2019/22541A patent/TR201922541A2/tr unknown
-
2020
- 2020-12-22 WO PCT/TR2020/051353 patent/WO2021137810A1/en unknown
- 2020-12-22 EP EP20910176.5A patent/EP4085301A4/en active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2021137810A1 (en) | 2021-07-08 |
| EP4085301A4 (en) | 2024-01-03 |
| EP4085301A1 (en) | 2022-11-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2460186C2 (ru) | Волоконный лазер, имеющий превосходную стойкость к отраженному свету | |
| JPWO2008143084A1 (ja) | ファイバレーザ | |
| CN108701952B (zh) | 用于材料的工业加工的装置和方法 | |
| US20210194199A1 (en) | Fiber laser system with mechanism for inducing parasitic lights losses | |
| US9407053B2 (en) | Hybrid isolator and mode expander for fiber laser amplifiers | |
| JP7162606B2 (ja) | パルス群を放出するためのレーザ光源 | |
| TR201922541A2 (tr) | Bir optik izolasyon yöntemi | |
| EP3186859B1 (en) | Device for reducing optical feedback into laser amplifier | |
| JP5114388B2 (ja) | 光増幅器、ファイバレーザ及び反射光除去方法 | |
| JP2007221037A (ja) | 光増幅器、ファイバレーザ及び反射光除去方法 | |
| US10122143B2 (en) | Pulsed laser system | |
| JP2013537002A5 (tr) | ||
| US11411367B2 (en) | Optical filtering to stabilize fiber amplifiers in the presence of stimulated Brillouin scattering | |
| CN112556680B (zh) | 一种三轴光纤陀螺仪用ase光源 | |
| US10749310B2 (en) | MOPA laser system with back reflection protection | |
| Li et al. | Multiplexing and Amplification of 2-$\mu\text {m} $ Vortex Beams With a Ho: YAG Rod Amplifier | |
| CN113922199B (zh) | 抗回返的主振荡功率放大脉冲激光器 | |
| US11489311B2 (en) | Optical amplifier | |
| Klopfer et al. | Investigation of a Large Mode Area Pulsed 1550 nm Laser System | |
| KR20220134656A (ko) | 방사선 피드백을 억제하는 장치, 및 이러한 장치를 포함하는 레이저 시스템 | |
| EP2717393A1 (en) | Laser device and laser machining method | |
| Klopfer et al. | High beam quality, single-polarization output from a mJ energy level, kHz rep-rate 1550 nm fiber laser | |
| Danson et al. | Generation of focused intensities of 5× 1019 Wcm− 2 | |
| KR20120095146A (ko) | 광섬유 증폭기 보호용 멀티코어 광섬유 | |
| Jäckel et al. | Utilization of a few-cycle probe beam to study relativistic laser-plasma interaction |