TR201821117T4 - Dengeleme elektrik devresi içeren alüminyum izabe fırını. - Google Patents
Dengeleme elektrik devresi içeren alüminyum izabe fırını. Download PDFInfo
- Publication number
- TR201821117T4 TR201821117T4 TR2018/21117T TR201821117T TR201821117T4 TR 201821117 T4 TR201821117 T4 TR 201821117T4 TR 2018/21117 T TR2018/21117 T TR 2018/21117T TR 201821117 T TR201821117 T TR 201821117T TR 201821117 T4 TR201821117 T4 TR 201821117T4
- Authority
- TR
- Turkey
- Prior art keywords
- balancing
- cells
- current
- conductors
- electrolytic cell
- Prior art date
Links
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 88
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 88
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 163
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 94
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 claims description 53
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 37
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 14
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 9
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 3
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- -1 solubility Chemical compound 0.000 description 2
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 2
- 238000009626 Hall-Héroult process Methods 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000004064 dysfunction Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 235000011837 pasties Nutrition 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C3/00—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts
- C25C3/06—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts of aluminium
- C25C3/16—Electric current supply devices, e.g. bus bars
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C3/00—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts
- C25C3/06—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts of aluminium
- C25C3/20—Automatic control or regulation of cells
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C3/00—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts
- C25C3/06—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts of aluminium
- C25C3/24—Refining
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C7/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells; Servicing or operating of cells
- C25C7/005—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells; Servicing or operating of cells of cells for the electrolysis of melts
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
Bu alüminyum izabe fırını her biri bir anoda (52), elektroliz akımını anoda (52) doğru yönlendirmek üzere hücrenin (50) karşılıklı iki uzunlamasına kenarı boyunca yukarı uzanan yükseltme ve bağlama elektrik iletkenlerine (54) ve elektroliz akımını bir sonraki hücrenin (50) yükseltme ve bağlama elektrik iletkenlerine yönlendirmek üzere bağlantı iletkenlerine bağlı katot çıkışlarına bağlanan katot iletkenlerinin (55) içerisinden geçtiği bir katoda (56) yer veren, sıra uzunluğuna göre enlemesine düzenlenmiş olan hücrelerin (50) oluşturduğu bir sırayı içermektedir. Ayrıca alüminyum izabe fırını içerisinden elektroliz akımının geçtiği elektrik devresinden ayrı olan, hücrelerin (50) aşağısında uzanan ve bir dengeleme akımının elektroliz akımının genel akış yönüne ters yönde içerisinden ve hücrelerin (50) aşağısından geçebildiği bir dengeleme elektrik devresini içermektedir.
Description
TARIFNAME
DENGELEME ELEKTRIK DEVRESI IÇEREN ALÜMINYUM IZABE FIRINI
Bu bulus bir alüminyum izabe firiniyla, alüminyum izabe firininin kullanilmasina yönelik
bir yöntemle ve bu tür alüminyum izabe firinlarinda alüminyum oksidin elektrolitik
hücrelerde karistirilmasina yönelik bir prosesle ilgilidir.
Alüminyumun Hall-Héroult prosesi kullanilarak elektroliz yoluyla alüminyum oksitten
endüstriyel olarak üretilebildigi bilinmektedir. Bu amaçla içerisinde refrakter
malzemelerden yapilma bir astarin yer aldigi bir çelik pota kovanini, katottaki elektroliz
akimini toplayarak pota kovaninin tabanindan veya kenarlarindan geçen katot
çikislarina yönlendirmesi amaçlanan katot iletkenlerinin içerisinden geçtigi karbon
malzemeden yapilma bir katodu, katot çikislarindan bir sonraki hücreye dogru büyük
ölçüde yatay olarak uzanan baglanti iletkenlerini, içerisinde alüminyum oksidin
çözdürüldügü bir elektrolit banyosunu, bu elektrolit banyosuna daldirilmis en az bir
anoda yer veren en az bir anot grubunu, üzerine anot grubunun asildigi bir anot
çerçevesini ve elektroliz akimini katot çikislarindan bir sonraki hücredeki anot
çerçevesine ve anot grubuna ve anoda yönlendirmek üzere bir önceki elektrolitik
hücrenin baglanti iletkenlerine baglanan ve yukari dogru ilerleyen, elektroliz akimina
yönelik besleyicileri içeren bir elektrolitik hücre kullanilmaktadir. Daha belirgin bir
ifadeyle, anotlar önceden pisirilmis karbon bloklarina sahip önceden pisirilmis anot
tipindedir; yani bunlar elektrolitik hücreye yerlestirilmeden önce pisirilmektedir.
Klasik durumda bir alüminyum üretim tesisi veya alüminyum izabe firini, paralel siralar
halinde enlemesine hizalanmis ve seri olarak baglanmis birkaç yüz elektrolitik hücreyi
içermektedir.
Birkaç yüz bin Amper seviyesindeki bir elektroliz akimi bu elektrolitik hücrelerin içinden
geçmekte ve bu da büyük bir manyetik alani meydana getirmektedir. Temel olarak
akimi bir elektrolitik hücreden siradakine tasiyan baglanti iletkenleri tarafindan üretilen
bu manyetik alanin düsey bileseninin, manyetohidrodinamik (MHD) kararsizliklar olarak
bilinen kararsizliklara neden oldugu bilinmektedir.
Bu MHD kararsizliklarin, proses performansini düsürdügü bilinmektedir. Hücre ne
kadar kararsiz olursa, anot ile metal katmani arasindaki kutuplar arasi mesafe de o
kadar fazla olmaktadir. Bu durumda ise, kutuplar arasi mesafe ne kadar fazla olursa,
prosesin enerji tüketimi de o kadar fazla olmaktadir; bunun nedeni, Joule etkisi
neticesinde enerjinin kutuplar arasi boslukta yitime ugramasidir.
Buna ek olarak, hem hücreler içinde hem de disinda yer alan iletkenlerdeki bütün
elektrik akimi akisi tarafindan üretilen manyetik alan yatay bileseni, sivilarin içinden
geçen elektrik akimiyla etkilesimde bulunmakta ve metal katmaninda sabit
deformasyona yol açmaktadir. Anotlarin az miktarda israfla birlikte homojen olarak
tüketilebilmesi için, metal katmani seviyesinde üretilen düzensizliklerin yeterince küçük
olmasi gereklidir. Seviye degisikliklerinin küçük oldugundan emin olunabilmesi için,
manyetik alanin yatay bilesenlerinin sivilarda (elektrolit banyosu ve metal katmani)
mümkün oldugu kadar antisimetrik olmasi gereklidir. Yatay bilesenleri içeren manyetik
alanin uzunlamasina veya enlemesine bileseni söz konusu oldugunda antisimetrinin,
söz konusu alan bilesenine paralel olan hücre merkezi eksenine dik bir mesafede ve bu
merkezi eksenin her iki yaninda ayni mesafede, söz konusu bilesenin degerinin ters
olacak olmasi anlamina geldigi kabul edilmektedir. Manyetik alanin yatay bilesenlerinin
antisimetrisi, hücredeki ara yüzde mümkün olan en simetrik ve en düz deformasyonu
saglayan konfigürasyondur.
Elektroliz akimini tasiyan iletkenlere ait özel bir düzenlemenin kullanilmasi yoluyla,
elektroliz akimi geçisinin meydana getirdigi manyetik alana yönelik dengeleme
yapilarak MHD kararsizliklarin kontrol altina alinabilecegi özellikle FR1079131 ve
belgesine göre, baglanti iletkenleri her bir elektrolitik hücrenin uçlari veya baslari
etrafindan yanal olarak geçmektedir. Bu, kendinden dengelenme olarak bilinmektedir.
Bu prensip, manyetik alanin bir elektrolitik hücre ölçeginde lokal olarak dengelenmesini
temel almaktadir.
Kendinden dengelenmenin temel avantaji, MHD kararsizliklarin dengelenmesi için
elektroliz akiminin kendisinin kullanilmasinda yatmaktadir.
Yine de, elektrik iletkenleri elektrolitik hücrelerin baslari etrafindan geçtigi için,
kendinden dengelenme kenarlarda büyük bir alan gereksinimine yol açabilmektedir.
Her seyden önemlisi, bu çözümü uygulamaya geçiren baglanti iletkenlerinin büyük
uzunlugu, iletkenlerin direnç etkisine bagli olarak bir hat içi elektrik kaybina ve
dolayisiyla artan isletme maliyetlerine yol açmakta ve önemli miktarda ham maddeyi ve
dolayisiyla yüksek üretim maliyetlerini gerekli hale getirmektedir. Elektrolitik hücreler
büyük boyutlu oldugu ve yüksek akim siddetinde çalistigi zaman, bu dezavantajlar
daha da belirgin hale gelmektedir.
Ayrica, kendinden dengelenmeli bir elektrik devresine sahip bir alüminyum izabe
firininin tasarimi sabittir. Hizmet ömrü süreci içerisinde, elektroliz akiminin siddetinin,
tasarim sirasinda öngörülen siddet degerinin üzerine çikacak sekilde artirilmasi gerekli
hale gelebilmektedir. Bu aslinda, bu yeni dagilima uygun olarak tasarlanmamis olan
kendinden dengelenmeli elektrik devresinden kaynaklanan manyetik alan dagilimini da
degistirecek, bunun sonucunda ise bu manyetik alana yönelik dengeleme artik
optimum olarak yapilmayacaktir. Bu gelistirme potansiyeli yoklugunun üstesinden
gelinmesine ve optimuma yakin manyetik dengelemenin geri kazanilmasina yönelik
çözümler mevcut olsa da, bu çözümler özellikle karmasik ve uygulamaya konulmasi
pahali yapidadir.
Özellikle FR2425482 sayili patent belgesinden bilinen, MHD kararsizliklarin
azaltilmasina yönelik baska bir çözüm, elektrolitik hücre siralarinin yanlari boyunca
sekonder bir elektrik devresinin veya harici bir döngünün kullanilmasini içermektedir.
Elektroliz akimi siddetinin önceden belirlenmis bir yüzdesine esit bir siddete sahip olan
bir akim bu sekonder elektrik devresinden geçmektedir. Harici döngü, yakin elektrolitik
hücre sirasindaki elektroliz akiminin meydana getirdigi manyetik alanin etkilerini
dengeleyen bir manyetik alani üretmektedir.
Ayrica EP0204647 sayili patent belgesinden, elektrolitik hücre siralarinin yanlari
boyunca uzanan sekonder bir devrenin, baglanti iletkenleri tarafindan meydana
getirilen manyetik alanin etkisinin azaltilmasi amaciyla kullanilabildigi, bu sekonder
devredeki elektrik iletkenleri içinden geçen akimin siddetinin elektroliz akimi siddetinin
bilinmektedir.
Harici bir döngü vasitasiyla dengeleme saglanmasi çözümü, elektroliz akiminin içinden
geçtigi ana devreden bagimsiz sekonder bir devreyi temin etmesi seklindeki avantaja
sahiptir.
Sekonder devrenin, banyo-metal ara yüzü seviyesinde pota kovanlarinin küçük
kenarlarina yakin olan hücre siralarinin yanlari boyunca konumlandirilmasi, manyetik
alanin yatay bileseni üzerinde herhangi bir etkiye yol açilmaksizin düsey bilesene
yönelik dengeleme yapilmasini mümkün hale getirmektedir.
Harici bir döngü vasitasiyla dengeleme saglanmasi çözümü baglanti iletkenlerinin
uzunlugunu, kütlesini ve elektrik kayiplarini önemli ölçüde düsürse de, ek bir elektrik
güç istasyonunu ve ek bir bagimsiz sekonder elektrik devresini gerekli hale
getirmektedir.
Ayrica harici bir döngü vasitasiyla dengeleme saglanmasi çözümünün bir manyetik
alan birikimine isaret ettigi, bu durumun seri akimla birlikte çok güçlü bir toplam ortam
alanini meydana getirdigi ve toplam ortam alaninin gücünün, isletme ve ekipman
üzerinde kisitlara yol açacak ölçüde (örnegin tasitlar için kalkanlama gerekmesi) ve bir
siradan kaynaklanan manyetik alanin bitisik siradaki hücrelerin kararliligi üzerinde
etkiye sahip olmasina neden olacak ölçüde oldugu da dikkati çekecektir. Bir siranin
bitisik sira üzerindeki etkisinin azaltilmasi için bunlarin birbirinden ayrilmasi
gerekmekte ve bu da, her bir elektrolitik hücre sirasinin ayri bir hol içinde barindirilmasi
anlamina gelecek olan çok önemli bir mekansal kisiti meydana getirmektedir.
Buna ek olarak, bitisik iki elektrolitik hücre sirasinin uçlarini birbirine baglayan elektroliz
devresi ile sekonder devre arasindaki baglanti parçasi, bir siranin ucundaki hücreleri
kararsiz hale getirme egilimi göstermektedir. Bir siranin ucunda kararsiz hücrelerin
mevcut olmasi durumundan kaçinilabilmesi için, sekonder devrenin bu kismi
FR2868436 sayili patentten bilindigi gibi, manyetik alanin bir siranin ucundaki hücreler
üzerindeki etkisi kabul edilebilir olacak sekilde düzeltilmesi amaciyla önceden
belirlenmis bir yol temel alinarak yapilandirilabilmektedir. Ne var ki bu yol sekonder
devrenin uzunlugunu ve dolayisiyla malzeme maliyetini gözle görülür biçimde
artirmaktadir. Normal çözümün, sekonder devre ile bir siranin ucunda yer alan
hücrelere ait elektroliz devresi arasindaki birlesme parçasinin daha uzaga tasinmasini
içerdigine, ancak bunun alan kullanimini artirdigina ve ayrica elektrik iletkenlerinin
uzunlugunu ve dolayisiyla malzeme ve enerji maliyetlerini artirdigina dikkat edilmelidir.
Sonuç olarak, harici bir döngü vasitasiyla dengeleme saglanmasina yönelik bilinen
çözümlerin nispeten önemli yapisal maliyetlere yol açtigi asikardir.
Bu durumda mevcut bulusun, artirilmis performans ve daha az alan kullanimi sunan bir
manyetik konfigürasyona sahip bir alüminyum izabe firinini temin ederek, bu
dezavantajlarin tamamen veya kismen üstesinden gelmesi amaçlanmaktadir.
Bu amaçla mevcut bulus her biri bir pota kovanini, bir destege ve en az bir anoda sahip
anot gruplarini ve katottaki elektroliz akimini (li) toplamasi ve bunu pota kovani
disindaki katot çikislarina yönlendirmesi amaçlanan katot iletkenlerinin içinden geçtigi
bir katodu içeren ve sira uzunluguna göre enlemesine düzenlenmis olan elektrolitik
hücrelerin olusturdugu en az bir siraya yer veren bir alüminyum izabe firiniyla ilgili olup
özelligi, elektrolitik hücrenin elektroliz akimini (I1) anot gruplarina yönlendirmek için
elektrolitik hücrenin karsilikli iki uzunlamasina kenari boyunca yukari dogru uzanan
anot gruplarina bagli yükseltme ve baglama elektrik iletkenlerini ve elektroliz akimini
katot çikislarindan bir sonraki elektrolitik hücrenin yükseltme ve baglama elektrik
iletkenlerine yönlendirecek biçimde tasarlanan, katot çikislarina bagli baglanti
iletkenlerini içermesi ve alüminyum izabe firininin elektrolitik hücrelerin asagisinda
uzanan en az bir dengeleme elektrik devresini içermesi ve bu dengeleme devresinin
içinden, yukarida yer alan elektrolitik hücrelerin içinden akan elektroliz akiminin (I1)
genel akis yönüne ters bir yönde ve elektrolitik hücrelerin asagisinda bir dengeleme
akiminin (l2) akabilmesidir.
Dolayisiyla bulusa uygun alüminyum izabe firini daha az yer kaplamakta ve genel
performansin artmasini saglayacak ölçüde, manyetik açidan çok kararli hücrelere
sahip olabilme avantajini sunmaktadir.
Bu alüminyum izabe firininin kullanilmasina yönelik bir yöntem uyarinca, yukarida yer
alan elektrolitik hücrelerin içinden akan elektroliz akiminin (l1) genel akis yönüne ters
bir yönde ve elektrolitik hücrelerin asagisinda akan bir dengeleme akimi (Iz),
dengeleme devresinin içinden geçmektedir.
Avantajli bir durum olmak üzere, dengeleme akiminin (lg) siddeti, elektroliz akiminin (I1)
siddetinin %50'si ila %150'si seviyesindedir.
Yükseltme ve baglama elektrik iletkenleri, birbirini dengelemek ve hücrelere ait
manyetik alanin yatay bilesenlerinin büyük ölçüde antisimetrik bir dagilimini
gerçeklestirmek üzere elektrolitik hücrelerin arasindaki bosluklarda, hücrelerin her bir
yaninda ve hücrelerin iki uzunlamasina kenarinin yukarisinda düzenlenmekte,
manyetik alanin düsey bileseni üzerinde herhangi bir etkiye yol açmaksizin alüminyum
katmani düzeyinde az bir degisikligin söz konusu olmasini temin etmekte, böylece bir
hücre ile digeri arasindaki elektrik iletkenleri olan baglanti iletkenleri ile yükseltme ve
baglama iletkenleri içinden, dengelenmesi gerekli istenmeyen düsey ve yatay manyetik
alana yol açan iletkenler pratikte yalnizca, pota kovaninin asagisinda yatay olarak bir
hücreden digerine uzanan iletkenler, yani daha belirgin bir ifadeyle baglanti iletkenleri
seklinde olmaktadir. Bu istenmeyen manyetik alan ise dengeleme elektrik devresi
vasitasiyla dengelenmekte olup söz konusu elektroliz akiminin (li) siddetinin %50*si ila
elektrolitik hücrelerin içindeki elektroliz akiminin (I1) genel akis yönüne ters bir yönde
ve elektrolitik hücrelerin asagisinda, bu dengeleme elektrik devresinin içinden
akabilmektedir.
Dolayisiyla hücredeki manyetik alanin düsey bileseni azaltilabilmekte veya neredeyse
ortadan kaldirilabilmekte ve sivilar içinde büyük ölçüde antisimetrik bir yatay manyetik
alan dagilimi muhafaza edilebilmektedir. Dolayisiyla önerilen çözüm bir yandan çok az
kararsizliga sahip bir hücrenin edilmesini ve dolayisiyla performansin artirilmasini
mümkün hale getirirken, bir yandan da prosesin tatmin edici biçimde islev göstermesi
için bir baska gereklilik olmak üzere, banyo/metal ara yüzünde az bir seviye
degisikligini muhafaza etmektedir.
Hücrelerin ve hücre siralarinin ve bulusa uygun alüminyum izabe firininin yakinindaki
manyetik alan küçüktür ve neredeyse tamamen iptal edilmektedir ve bunun sonucunda,
alüminyum izabe firininin ve bu firinda kullanilan ekipmanin çalismasi üzerinde, güçlü
manyetik alanlarla iliskili kisitlar ortadan kaldirilmis olmaktadir. Böylece bir siradan
kaynaklanan manyetik alan bitisik siradaki hücrelerin kararliligini artik etkilememekte.
bu sayede hücre siralari birbirine daha yakin yerlestirilebilmekte ve özellikle bitisik iki
hücre sirasi daha küçük bir bina içine konumlandirilabilmekte ve tüm bunlar, yalnizca
bir dengeleme devresi kullanildigi zaman bile yapisal maliyetlerde çok önemli
tasarruflar saglanmasina olanak taniyacak ölçüde olmaktadir.
Teknigin bilinen durumundaki cesaret kirici deneyimlerin aksine, dengeleme devresi
elektrolitik hücrelerin asagisindan geçmekte ve elektrolitik hücre sirasinin veya
siralarinin yanlari boyunca uzanmamaktadir. Böylece, elektrolitik hücre sirasinin veya
siralarinin her iki yanindaki alan bosaltilmaktadir. Sonuçta, her bir elektrolitik hücrenin
ve daha özel bir ifadeyle pota kovaninin yan tarafi boyunca bos alan elde edilmesi
öngörülebilmekte, bu ise bunlarin yükseltilmesine kiyasla daha az pahali bir durum
olmaktadir. Pahali ve agir bir kaldirma çözümüne duyulan ihtiyacin söz konusu
olmamasi, önemli yapisal tasarruflari saglamaktadir.
Tercih edilen bir uygulamaya göre, dengeleme elektrik devresi, içerisinden elektroliz
akiminin (I1) geçtigi elektrik devresinden ayri bir sekonder dengeleme elektrik
devresidir. “Ayri” ifadesi, iki devrenin elektriksel olarak bagli olmadigi anlamina gelir
sekilde kullanilmaktadir.
Elektrolitik hücrelerden birinin, sicakligi 1,000°C,ye yakin, elektrolitik hücrelerden
birinde mevcut sivilar tarafindan hasar görmesi halinde, dengeleme devresi zarar
görecek ve kopacak veya normal çalisamaz hale gelecek, bu ise dengeleme devresi
elektroliz akimi akisi tarafindan üretilen manyetik alani artik dengeleyemeyecegi için
performansi etkileyecek ve alüminyum izabe firini daha düsük performansli düsük bir
modda çalismayi sürdürecek, dengeleme devresinden geçmekte olan akimin sadece
manyetik alana yönelik dengeleme yapmasi amaçlandigi ve alüminyum üretiminde
kullanilmasi amaçlanmadigi için, alüminyum izabe firini zararli bir çalismayi durdurma
durumuna ugramayacaktir.
Ayri bir sekonder dengeleme elektrik devresinin kullanilmasi ayrica, söz konusu
dengeleme devresi tarafindan zaman içinde meydana getirilen dengeleyici manyetik
alanin modifiye edilmesi olasiligini da sunmaktadir. Bunun yapilabilmesi için, sekonder
dengeleme elektrik devresinden geçmekte olan akimin siddetinin degistirilmesi
gereklidir. Bu özellikle, terfi ettirilebilirlik ve uyarlanabilirlik bakimindan önem
tasimaktadir. Bunun nedeni kismen, alüminyum izabe firininin ömrü sirasinda elektroliz
akiminin siddetinin artirilmasi halinde. dengeleme akiminin siddetinin gerektigi gibi
degistirilmesi yoluyla, manyetik dengelemenin bu degisiklige göre ayarlanabiliyor
olusudur. Bunun nedeni ayrica, dengeleme akiminin siddetinin, elde mevcut
alüminyum oksitin özelliklerine ve kalitesine göre ayarlanabiliyor olusudur. Bu sayede
MHD akislarin hizlari, elde mevcut alüminyum oksitin özellikleri temel alinarak sivilarin
karismasinin veya alüminyum oksitin banyo içinde çözünmesinin tesvik edilmesi veya
azaltilmasi saglanacak sekilde kontrol edilebilmekte, bu ise nihayetinde alüminyum
oksit temininin özellikleri isiginda mümkün olan en iyi performansin elde edilmesine
yardimci olmaktadir.
Daha belirgin bir ifadeyle, sekonder dengeleme elektrik devresi, elektrolitik hücrelere
elektroliz akimini besleyen istasyondan farkli olan kendi elektrik güç istasyonundan güç
alabilmektedir.
Tercih edilen bir uygulamada, alüminyum izabe firini birbirine paralel düzenlenen, tek
bir istasyondan güç alan ve elektriksel olarak seri baglanan iki sira hücreyi içermekte
olup buradaki düzenleme, iki sira hücrenin birincisinden geçen elektroliz akiminin daha
sonra iki sira hücrenin ikincisinden ve iki sira hücrenin birincisindeki akisin tamamen
tersi olan yönde geçmesi saglanacak biçimde ve dengeleme elektrik devresinin bu iki
paralel hücre sirasinin asagisinda bir döngüyü olusturmasi saglanacak biçimde
yapilmaktadir.
Bu, içlerinden zit yönlü elektrik akimlarinin geçtigi dengeleme devresi ve baglanti
iletkenleri vasitasiyla es zamanli olarak saglanan manyetik dengeleme
düsünüldügünde, bitisik iki elektrolitik hücre sirasinin ayni binaya yerlestirilecek
biçimde birbirine yaklastirilabilmesi anlamina gelmektedir. Son olarak, alan ve yapisal
maliyetler anlaminda kazanilanlar, dengeleme devresinin yapimi ve isletilmesinin
maliyetine bagli olarak kaybedilenlerden fazladir.
Sekonder dengeleme elektrik devresi hücrelerin asagisinda bir döngüyü meydana
getirdigi için, bunun yapiminda süper iletken malzemeden yapilma bir elektrik
iletkeninin kullanilmasi avantajli hale gelmekte ve her seyden önemlisi, yine basvuru
gibi, birkaç dönüsün seri olarak yapilmasi mümkün olmaktadir.
Avantajli bir durum olmak üzere elektrolitik hücre, iki uzunlamasina kenarinin her biri
boyunca ve karsilik gelen uzunlamasina kenarin büyük ölçüde tüm uzunlugu üzerinde
önceden belirlenmis araliklarla konumlandirilan bir dizi yükseltme ve baglama elektrik
iletkenini içermektedir.
Her bir uzunlamasina kenar üzerinde, yükseltme ve baglama iletkenleri elektrolitik
hücrenin uzunlamasina yönü boyunca düzenli araliklarla konumIandirilabilmektedir.
Bu sayede, manyetik alana ait uzunlamasina yatay bilesenin (yani hücrenin
uzunluguna paralel olan yatay bilesenin) dengesi iyilestirilebilmektedir.
400 ila 1,000k Amper araligindaki bir akim siddetiyle çalisan bir hücre örnegin tercihen,
iki uzunlamasina kenarinin her birinin tüm uzunlugu boyunca düzenli araliklarla
konumlandirilmis 4 ila 40 adet yükseltme ve baglama iletkenini içerebilmektedir.
Ilerleme yönüne göre öncedeki konumda yer alan yükseltme ve baglama elektrik
iletkenleri ile ilerleme yönüne göre sonraki konumda yer alan yükseltme ve baglama
elektrik iletkenleri elektrolitik hücreye ait uzunlamasina bir medyan düzlemden, yani
hücrenin enlemesine yönüne büyük ölçüde dik olan ve bunu büyük ölçüde esit iki
parçaya ayiran düzlemden esit mesafeli olarak yerlestirilebilmektedir.
Ilerleme yönüne göre öncedeki konumda yer alan yükseltme ve baglama elektrik
iletkeni ile ilerleme yönüne göre sonraki konumda yer alan yükseltme ve baglama
elektrik iletkeni ifadeleriyle, sirasiyla elektrolitik hücrenin ilerleme yönüne göre önceki
konumda yer alan veya ilerleme yönüne göre sonraki konumda yer alan uzunlamasina
kenari boyunca yerlestirilmis yükseltme ve baglama elektrik iletkenleri kastedilmekte,
burada ilerleme yönüne göre önceki konumda yer alan uzunlamasina kenar elektrolitik
hücre sirasinin baslangicina en yakin olan kenara karsilik gelmekte ve ilerleme yönüne
göre sonraki konumda yer alan uzunlamasina kenar elektrolitik hücre sirasinin
baslangicindan en uzak olan elektrolitik hücre uzunlamasina kenarina karsilik
gelmekte ve ilerleme yönüyle ilgili olarak, elektrolitik hücre sirasi ölçeginde elektrik
akiminin genel akis yönü temel alinmaktadir.
Tercih edilen bir uygulamaya göre, yükseltme ve baglama elektrik iletkenleri, elektrolitik
hücrenin medyan uzunlamasina düzlemine göre büyük ölçüde simetrik bir tarzda
yerlestirilmektedir.
Baska bir deyisle, elektrolitik hücrenin iki uzunlamasina kenarindan biri boyunca
uzanan yükseltme ve baglama elektrik iletkenleri, elektrolitik hücrenin uzunlamasina
medyan düzlemine göre, yani hücrenin enlemesine yönüne büyük ölçüde dik olan ve
bunu büyük ölçüde esit iki parçaya ayiran düzleme göre, söz konusu elektrolitik
hücrenin karsi uzunlamasina kenari boyunca uzanan yükseltme ve baglama elektrik
iletkenlerine büyük ölçüde simetrik olacak tarzda yerlestirilmektedir.
Böylece, sivilar içindeki yatay manyetik alan dagiliminin avantajli büyük ölçüde
antisimetrik özelligi daha da gelistirilmektedir.
Tercih edilen bir kullanim yöntemine göre, elektrolitik hücrenin ilerleme yönüne göre
öncesinde yer alan yükseltme ve baglama elektrik iletkenleri ile elektrolitik hücrenin
ilerleme yönüne göre sonrasinda yer alan yükseltme ve baglama elektrik iletkenleri
arasindaki akim dagilimi, sirasiyla ilerleme yönüne göre önceki konumda %30-70 ve
ilerleme yönüne göre sonraki konumda %30-70, tercihen sirasiyla ilerleme yönüne
göre önceki konumda %40-60 ve ilerleme yönüne göre sonraki konumda %40-60
seklindedir.
Bu kullanim yöntemi, sivilar içindeki yatay manyetik alan dagiliminin avantajli büyük
ölçüde antisimetrik özelliginin daha da gelistirilmesini mümkün hale getirmektedir.
Elektrolitik hücrenin ilerleme yönüne göre öncesinde yer alan yükseltme ve baglama
elektrik iletkenleri ile elektrolitik hücrenin ilerleme yönüne göre sonrasinda yer alan
yükseltme ve baglama elektrik iletkenleri arasindaki akim dagilimi, tercihen sirasiyla
ilerleme yönüne göre önceki konumda %45-55 ve ilerleme yönüne göre sonraki
konumda %45-55 seklindedir.
Böylece, sivilar içindeki yatay manyetik alan dagiliminin avantajli büyük Ölçüde
antisimetrik özelligi daha da gelistirilmektedir.
Tercih edilen bir uygulamada, baglanti iletkenleri elektrolitik hücrenin asagisinda büyük
ölçüde düz bir çizgi boyunca ve elektrolitik hücreye göre yalnizca enlemesine yönde
uzanmaktadir.
Dolayisiyla, hücrenin uzunlamasina yönünde uzanan iletkenlerin uzunlugunun en aza
indirgenmesi yoluyla, elektrik iletkenlerinin uzunlugu ve maliyeti azaltilmaktadir. Önceki
teknige ait uygulamalarda bu uzunlamasina elektrik iletkenleri tarafindan üretilen
manyetik alanlar da, özellikle kendinden dengelenmeli hücrelere nazaran
azaltilmaktadir. Buna ek olarak, elektrolitik hücre sirasinin veya siralarinin her iki
yaninda bos alan açilmakta, bu ise hücre/elektrik iletkeni setinin en azindan
uzunlamasina olarak kapladigi alani azaltmakta ve her elektrolitik hücre ve daha
belirgin bir ifadeyle pota kovani boyunca bosluk açilmasinin öngörülmesini mümkün
hale getirmekte, bu da bunlarin yükseltilmesinden daha az pahali bir yaklasim
olmaktadir.
Dengeleme elektrik devresi, elektrolitik hücrelerin enlemesine eksenine büyük ölçüde
paralel olarak uzanan elektrik iletkenlerini içerebilmektedir.
Bir uygulamaya göre, dengeleme elektrik devresi, birbirinden bagimsiz bir dizi
sekonder dengeleme elektrik alt devresini olusturan elektrik iletkenlerine yer
vermektedir.
Elektroliz akiminin siddetinden bagimsiz olarak degisebilen siddete sahip bir
dengeleme akimi, bu sekonder dengeleme elektrik alt devrelerinin her biri içinden
akmaktadir.
Bagimsiz sekonder dengeleme elektrik alt devreleri ifadesiyle kastedilen, diger
sekonder dengeleme elektrik alt devrelerine elektriksel olarak bagli olmayan ve diger
sekonder dengeleme elektrik alt devrelerininkinden ayri bir güç istasyonundan güç
verilebilen alt devrelerdir.
Böylece bu yapi, örnegin bir hücrenin zarara ugramasi ve buna bagli olarak hücrenin
hasar görmesi ve/veya bir veya daha fazla sekonder dengeleme elektrik alt devresinin
kopmasi neticesinde herhangi bir sorunun ortaya çikmasi durumunda, diger hasar
görmemis sekonder dengeleme elektrik alt devrelerinin her biri içinden akan
dengeleme akiminin siddetinin elektroliz akimi akisinin meydana getirdigi manyetik
alani dengeleyecek biçimde ayarlandigi “düsük” bir isletim modunda üretime devam
edilmesi olasiligini sunmaktadir. Dolayisiyla, sekonder dengeleme elektrik alt devreleri
içinden birinin olasi islev bozukluguna karsin, performans yüksek kalabilmektedir.
Dengeleme elektrik devresi, elektrolitik hücrelerin asagisinda birkaç paralel ve/veya
seri dönüsü meydana getiren elektrik iletkenlerini içerebilmektedir.
Bir olasiliga göre, dengeleme elektrik devresi elektrolitik hücrelerin asagisinda paralel
olarak uzanan elektrik iletkenlerini içermektedir.
Dengeleme elektrik devresine ait elektrik iletkenleri elektrolitik hücrelere ait enlemesine
bir medyan düzleme, yani elektrolitik hücrelerin uzunlamasina yönüne büyük ölçüde dik
olan ve hücreleri büyük ölçüde esit iki parçaya ayiran düzleme göre büyük ölçüde
simetrik olarak düzenlenebilmektedir.
Bir olasiliga göre, dengeleme elektrik devresini veya uygun olmasi halinde sekonder
dengeleme elektrik alt devrelerini olusturan elektrik iletkenleri elektrolitik hücrelerin
asagisinda uzanmakta ve birlikte, iki ile on iki arasinda ve tercihen üç ile on arasinda
paralel elektrik iletkenini içeren bir katmani meydana getirmektedir.
Avantajli bir durum olmak üzere, söz konusu elektrik iletkenleri elektrolitik hücrelerin
enlemesine medyan ekseninden büyük ölçüde esit mesafelidir ve bu eksene göre
büyük ölçüde simetrik olarak yerlestirilmektedir.
Dolayisiyla, istenmeyen manyetik alana yönelik dengeleme daha da iyilestirilmektedir.
Bulusa uygun alüminyum izabe firinindaki ve alüminyum izabe firininin kullanilmasina
yönelik yöntemdeki manyetik telafi veya dengeleme prensibi, alüminyum izabe firininda
tamamiyla modüler sekilde yapilmasi mümkün olan bir iletken devresinin elde
edilmesini mümkün hale getirmektedir. Her bir modül örnegin dengeleme elektrik
devresine ait bir elektrik iletkenini ve her bir elektrolitik hücreyle iliskili belirli sayida
baglanti iletkenini ve yükseltme ve baglama iletkenini içerebilmektedir. Iletkenlere ait
devre ve dolayisiyla her bir hücre, hücrelerin uzunlugunu ve hücreler içinden geçen
akimin siddetini belirleyen belirli bir modül sayisini içerebilmektedir. Önceki teknikte
bilinen kendinden dengelenmeli tipteki hücrelerde veya hücre kenarlari boyunca
düzenlenmis manyetik dengeleme devreleri tarafindan dengelenen hücrelerde söz
konusu olan, iletken devrelerinin tamamen yeniden tasarlanmasini gerektirecek uzatma
durumunun aksine, tasarim sirasinda seçilen hücre basina modül sayisi veya bu tür
modüllerin ilave edilmesi yoluyla seçilen hücre uzunlugu hücrelerin manyetik dengesini
bozmamaktadir. Dolayisiyla, hücreler uzatildigi zaman iletken devresini olusturan
malzemenin miktarinin hücrelerin üretim yüzey alanina orani kötülesmemekte, bu oran
modüllerin sayisi ve hücrelerin içinden geçen akim siddetiyle orantili biçimde
artmaktadir. Böylece hücreler sirf ihtiyaca bagli olarak uzatilabilmekte ve içlerinden
geçen akimin siddeti kisitlanmamis olmaktadir. Bu durumda ise, hücrelerin içinden
geçen akimin siddetinin 1,000 k Amper degerinin üzerine, hatta 2,000 k Amper
degerine kadar yükseltilmesi mümkün hale gelmektedir.
Bir uygulamaya göre, elektrolitik hücrenin iki uzunlamasina kenarindan biri boyunca
uzanan yükseltme ve baglama elektrik iletkenleri, bir önceki veya sonraki ayri bir
elektrolitik hücrenin bitisik uzunlamasina kenari üzerinde yer alan yükseltme ve
baglama elektrik iletkenlerine göre kademeli bir düzenlemeye sahiptir.
Baska bir deyisle, bir elektrolitik hücreye (N) ait ilerleme yönüne göre önceki konumda
yer alan yükseltme ve baglama elektrik iletkenleri, diger elektrolitik hücreye (N-1, yani
bir önceki elektrolitik hücreye) ait ilerleme yönüne göre önceki konumda yer alan
yükseltme ve baglama elektrik iletkenlerine göre kademeli bir düzenlemeye sahiptir.
Bu ayni zamanda, ayni mesafe üzerinde daha fazla seri elektrolitik hücrenin elde
edilmesi ve buna bagli olarak performansin artirilmasi amaciyla ya da bir elektrolitik
hücre sirasinin uzunlugunun azaltilmasi ve böylece alan kazanilmasi ve hatta daha
fazla yapisal tasarruf saglanmasi amaciyla, elektrolitik hücrelerin birbirine mümkün
oldugu kadar yaklastirilmasini olanakli hale getirmektedir.
Bulusa uygun alüminyum izabe firininin kullanilmasina yönelik tercih edilen bir yöntem
uyarinca, elektroliz akiminin (li) siddetinin %70'i ila %130'u seviyesinde ve tercihen
elektroliz akiminin (l1) siddetinin %80'i ila %120'si seviyesinde bir dengeleme akimi.
dengeleme elektrik devresi içinden geçmektedir.
Buna göre, alüminyum izabe firininin elektrolitik hücrelerin asagisinda tek bir dönüs
yapan bir elektrik iletkeni tarafindan olusturulan bir dengeleme elektrik devresini
içermesi halinde, bu dengeleme devresi içinden geçen dengeleme akiminin siddeti,
elektroliz akiminin siddetinin %70'i ila %130'u seviyesinde olabilmektedir.
Ayrica, alüminyum izabe firininin elektrolitik hücrelerin asagisinda seri olarak üç dönüs
yapan süper iletken malzemeden yapilma bir elektrik iletkeni tarafindan olusturulan bir
dengeleme elektrik devresini içermesi halinde, elektrik iletkeni içinden geçen
dengeleme akiminin siddeti, elektroliz akimi siddetinin %70'i ila %130lunun üçte biri
seviyesinde olabilmektedir.
Baska bir örnege göre, dengeleme elektrik devresinin, her biri seri olarak yirmi dönüs
yapan ve her biri süper iletken malzemeden yapilma elektrik iletkenlerine yer veren üç
tane sekonder dengeleme elektrik alt devresi tarafindan olusturulmasi halinde, bu üç
sekonder dengeleme elektrik alt devresinin her biri içinden geçen dengeleme akiminin
siddeti, elektroliz akimi siddetinin %701 ila %1307unun altmista biri seviyesinde
olabilmektedir.
Bir uygulamaya göre, her bir katot çikisi pota kovanini yalnizca, elektrolitik hücrenin
uzunlamasina yönüne dik olan düsey bir düzlemde terk etmektedir.
Katot çikislari, elektrolitik hücreye ait pota kovaninin tabani içinden geçmektedir. Katot
çikislarinin elektrolitik hücrenin kenarlarindan disari geçmek yerine tabanina
yerlestirilmesi gerçegi, baglanti iletkenlerinin uzunlugunu ve dolayisiyla sivilar içindeki
yatay akimlari azaltmakta, bu ise daha iyi MHD kararlilik etkisini saglamaktadir.
Baglanti elektrik iletkenleri, elektrolitik hücrenin enlemesine yönüne büyük ölçüde
paralel olarak düz bir çizgi halinde bir sonraki elektrolitik hücrenin yükseltme ve
baglama elektrik iletkenlerine dogru uzanabilmektedir.
Yukarida belirtildigi gibi, bulusa uygun alüminyum izabe firinindaki ve alüminyum izabe
firininin kullanilmasina yönelik yöntemdeki manyetik telafi veya dengeleme prensibi,
elektrolitik hücrelerin uzatilmasi yoluyla, elektrolitik hücrelerin içinden geçen akimin
siddetinin ihtiyaca göre ve herhangi bir manyetohidrodinamik sorun söz konusu
olmaksizin artirilmasini mümkün hale getirmektedir. Bu baglamda, teknigin bilinen
durumuna uygun bir elektrolitik hücre, pota kovaninin ve anotlarin yukarisinda
elektrolitik hücreyi uzunlamasina kat eden bir üst yapiya yer vermektedir. Üst yapi
özellikle, uzunlamasina uçlarinin her birinde ayaklari üzerinde duran bir kirisi
içermektedir. Bu kiris, yine pota kovaninin ve anotlarin yukarisinda uzunlamasina
uzanan, anot gruplarini destekleyen, anot gruplarinin baglandigi bir anot çerçevesini
desteklemektedir. Dolayisiyla, teknigin bilinen durumuna uygun bir elektrolitik hücrenin
uzunlugunun artirilmasi, üst yapinin uzunlugunun ve dolayisiyla kirisi destekleyen
ayaklar arasindaki kiris açikliginin artmasiyla sonuçlanmakta ve üst yapi tarafindan
desteklenmesi gereken agirligi artirmaktadir. Dolayisiyla, teknigin bilinen durumuna
uygun bir elektrolitik hücreye ait üst yapinin uzunlugunun sinirli ölçüde artirilmasi,
bulusa uygun alüminyum izabe firinindaki ve alüminyum izabe firininin kullanilmasina
yönelik yöntemdeki manyetik telafi veya dengeleme prensibinin sagladigi olanaklari
kisitlamaktadir. Bilinen üst yapilar kirisi destekleyen bir veya daha fazla ara kemere yer
vermekteyse de, pota kovani ve anotlarin yukarisinda enlemesine uzanan bu tür ara
kemerler havalelidir ve hücreler üzerinde yapilan özellikle anotlarin degistirilmesi gibi
islemleri karmasik hale getirmektedir.
Bulusun özellikle avantajli bir uygulamasina göre, anot grubuna yönelik destek,
elektrolitik hücreye göre enlemesine uzanan ve elektrolitik hücrenin her bir yaninda iki
uzunlamasina kenarin her birinde desteklenen ve bunlara elektriksel olarak baglanan
bir çapraz elemani içermektedir.
Dolayisiyla, yükseltme ve baglama iletkenleri ile anot grubu arasindaki elektrik
baglantisi elektrolitik hücrenin uzunlamasina kenarlari üzerinde yapilmakta ve anot
grubunun mekanik olarak desteklendigi yer de bu konum olmaktadir.
Anot grubu artik, pota kovaninin ve anotlarin yukarisinda elektrolitik hücrenin
üzerinden uzunlamasina geçen bir üst yapi vasitasiyla desteklenmemekte ve
elektriksel olarak baglanmamakta ve bu, elektrolitik hücrelerin uzunlugunun, bulusa
uygun alüminyum izabe firininin kullanilmasina yönelik yöntemdeki manyetik telafi
veya dengeleme prensibinin sagladigi olanaklarin avantajindan tam olarak
yararlanilmasi için artirilmasini mümkün hale getirecek bir özellik olmaktadir.
Baska bir uygulamaya göre, yükseltme ve baglama iletkenleri anotun veya anotlarin
yukarisinda uzanmaksizin, pota kovaninin her bir yaninda uzanmaktadir.
üzerine izdüsümünün yapilmasi yoluyla elde edilen yüzeyin düsey olarak çevrilmesi
sonucunda olusturulan bir hacmin içerisinde” anlamina gelir sekilde kullanilmaktadir.
Düsey olarak yukari tasinmis olan bir anot kendisinin baglanmasi amaciyla kullanilan
herhangi bir bilesenle karsilasmadigindan, bu tür bir uygulama avantajli bir biçimde,
söz konusu anodun düsey olarak yukari hareket ettirme yoluyla degistirilmesine olanak
tanimaktadir. Anodun konumlandirilmasi ve geri çekilmesindeki bu basitlestirme
sayesinde de, bulusa uygun alüminyum izabe firininin yönetimi ve isletiminde
tasarruflar saglanmaktadir.
Böylece yükseltme ve baglama iletkenlerinin uzunlugu, tipik olarak hücrenin merkezi
uzunlamasina kismi boyunca söz konusu hücrenin yukarisinda uzanan klasik tipteki
yükseltme ve baglama iletkenlerinin kullanilmasi durumuna kiyasla azaltilmaktadir. Bu
ise, üretim maliyetlerinin düsürülmesine yardimci olmaktadir.
Daha belirgin bir ifadeyle, yükseltme ve baglama iletkenleri anot gruplarina, bir pota
kovaninin kenarlarinin yukarisinda baglanmaktadir.
XY düzlemi üzerine izdüsümünün yapilmasi yoluyla elde edilen yüzeyin düsey olarak
çevrilmesi sonucunda olusturulan bir hacmin içerisinde” anlamina gelir sekilde
kullanilmaktadir.
Avantajli bir durum olmak üzere, yükseltme ve baglama elektrik iletkenleri, elektrolitik
hücrede mevcut sivilarin yüzeyini içeren büyük ölçüde yatay bir düzlemin üzerinde, 0
ile 1.5 metre arasindaki bir yükseklige (h) kadar uzanmaktadir.
Böylece, bu yükseltme ve baglama iletkenlerinin uzunlugu, iki metreden fazla bir
yükseklige kadar uzanan klasik tipteki yükseltme ve baglama iletkenlerine kiyasla
önemli derecede azaltilmaktadir.
Bulus ayrica, yukarida ifade edilen özelliklere sahip olan ve yukarida ifade edilen
özelliklere sahip yöntemden yararlanan bir alüminyum izabe firinindaki elektrolitik
hücrelerde mevcut alüminyum oksidin karistirilmasina yönelik bir prosesle de ilgili olup
proses asagidaki adimlari içermektedir:
- Alüminyum oksidin en az bir özelliginin analiz edilmesi,
- analiz edilen söz konusu en az bir özellige göre dengeleme elektrik devresinde
akmasi gereken dengeleme akiminin siddetine iliskin bir degerin belirlenmesi,
- dengeleme akiminin (Iz) siddetinin önceki asamada belirlenen siddet degerine göre
farklilik göstermesi durumunda, dengeleme akiminin ([2) siddetinin bu degere
sahip olacak sekilde degistirilmesi.
Dolayisiyla bulusa uygun proses, alüminyum oksidin daha iyi bir performans elde
edilmesi saglanacak biçimde karistirilmasina yardimci olan kontrollü MHD
kararsizliklarin meydana getirilmesi için, dengeleme akiminin (Iz) siddetinin artiilmasi
veya azaltilmasi yoluyla, manyetik dengelemenin degistirilmesini mümkün hale
getirmektedir. Bu tür bir proses özellikle, hücreleri manyetik olarak çok kararli hale
getiren yukarida açiklanan elektrik iletkeni konfigürasyonunda yararlidir.
Alüminyum oksidin analiz edilen özellikleri bilhassa alüminyum oksidin banyo içinde
çözünme kabiliyeti, alüminyum oksidin akiskanligi, çözünürlügü, flor içerigi, nem içerigi,
vs. seklinde olabilmektedir.
Örnegin bu alanda deneyimli bir kisinin dengeleme akimi (Iz) ile alüminyum oksit
özellikleri arasindaki optimum uygunluklari deneme ve kaydetme yoluyla ürettigi bir
nomograf kullanilarak, dengeleme akiminin siddetine iliskin arzu edilen bir deger,
alüminyum oksidin analiz edilen özellikleriyle iliskili olarak belirlenebilmektedir. Burada,
arzu edilen MHD kararsizliklarin nicel olarak tayin edilmesi söz konusudur.
Alüminyum izabe firininin sürekli isletiminde kullanilmak üzere mevcut alüminyum
oksidin farkli kalitede olmasi, özellikle daha çok veya daha az macunsu olmasi ve
dolayisiyla elektroliz banyosu içinde çözünme konusunda farkli kabiliyetlere sahip
olmasi durumu ortaya çikabilmektedir. Bu durumda sivilarin elektrolitik hücrelerdeki
hareketi, alüminyum oksidin çözünmesine destek saglanmasi amaciyla
karistirilmasinda kullanilabileceginden, bir avantajdir. Kendinden dengelenmenin söz
konusu oldugu durumda, özellikle sivilarin hareketine yol açan manyetik alan elektroliz
akiminin kendisi tarafindan dogrudan dengelenmekte ve baglanti iletkenlerinin izledigi
yol tarafindan uygulanan ve sabitlenen bir manyetik alan dagilimi söz konusu
olmaktadir. Dolayisiyla kendinden dengelenmenin söz konusu oldugu alüminyum izabe
firinlarinda, çözünme veriminin artirilmasi amaciyla alüminyum oksidin hücreler içinde
karistirilma siddetinin artirilmasi için manyetik alan dengelemesine kasitli ve geçici bir
dengesizligin eklenmesi mümkün degildir. Böylece elde yalnizca, çözünme konusunda
normalden fazla güçlügü olan alüminyum oksit mevcut oldugu zaman, kendinden
dengelenmeli alüminyum izabe firinlarinin performansi büyük ölçüde
etkilenebilmektedir.
Bu bulusun diger özellik ve avantajlari, ekli çizimlere atifta bulunularak sinirlayici
olmayan bir örnek halinde sunulan özel bir uygulamaya iliskin asagidaki açiklamadan
asikar hale gelecek olup bu çizimlerde:
- Sekil 1, teknigin bilinen durumuna uygun bir alüminyum izabe firininin sematik bir
görünüsüdür.
- Sekil 2, teknigin bilinen durumuna uygun ardisik iki elektrolitik hücrenin yandan
sematik bir görünüsüdür.
- Sekil 3, Sekil 2'deki iki hücrede içerisinden elektroliz akiminin geçtigi elektrik
devresine ait bir hat semasidir.
- Sekil 4, teknigin bilinen durumuna uygun bir elektrolitik hücrenin, uzunlamasina
düsey bir düzlemi boyunca alinmis kesit halindeki sematik bir görünüsüdür.
- Sekil 5, bulusun bir uygulamasina uygun bir alüminyum izabe firininin sematik bir
görünüsüdür.
- Sekil 6. bulusa uygun bir alüminyum izabe firinindaki ardisik iki hücrede
içerisinden elektroliz akiminin geçtigi elektrik devresine ait bir hat semasidir.
- Sekil 7, bulusun bir uygulamasina uygun bir alüminyum izabe firinindaki bir
elektrolitik hücrenin, uzunlamasina düsey bir düzlemi boyunca alinmis kesit
halindeki bir görünüsüdür.
- Sekil 8, bulusun bir uygulamasina uygun bir alüminyum izabe firinindaki elektrolitik
hücrelerin olusturdugu bir sirada yer alan ardisik üç elektrolitik hücrenin yandan
sematik bir görünüsüdür.
- Sekil 9, bulusa uygun bir alüminyum izabe firinindaki ardisik iki hücrede
içerisinden elektroliz akiminin geçtigi elektrik devresine ait bir hat semasidir.
Sekil 1, teknigin bilinen durumuna uygun bir alüminyum izabe firinini (100)
göstermektedir. Alüminyum izabe firini (100), olusturduklari siranin uzunluguna göre
enlemesine düzenlenmis elektrolitik hücreleri içermektedir. Burada hücreler iki paralel
sira (101, 102) halinde hizalanmakta ve içlerinden bir elektroliz akimi (lmc)
geçmektedir. Bir hücreden digerine ve bitisik sirada gerçeklesen elektroliz akimi (Im)
akisi neticesinde üretilen manyetik alani dengelemek üzere, iki tane sekonder elektrik
akimiyla (lmc) ayni yönde akan akimlar (I104, hos), sirasiyla ilgili devrelerin (104, 106)
içinden geçmektedir. Güç istasyonlari (108), elektrolitik hücre serisine ve sekonder
elektrik devrelerine (104, 106) güç saglamaktadir. Bu örnege göre, 500 kA'Iik siddetteki
bir elektroliz akimi için, “sira sonu" manyetik bozulmalar da hesaba katildiginda, güç
istasyonlarina (108) en yakin elektrolitik hücreler ile güç istasyonlari (108) arasindaki
uçlari ötesine uzanma mesafesi (D300) 45 m seviyesindedir; bir sira ile digeri arasindaki
manyetik bozulmalarin sinirlanmasi amaciyla, iki sira (101, 102) arasindaki mesafe
(D200) ise 85 m seviyesindedir.
Açiklamanin bir elektrolitik hücreyle ilgili Kartezyen referans çerçevesi bakimindan
yapildigi vurgulanmakta olup bu çerçevede, X ekseni elektrolitik hücrenin enlemesine
dogrultusunda yönlendirilmekte, Y ekseni elektrolitik hücrenin uzunlamasina
dogrultusunda yönlendirilmekte ve Z ekseni elektrolitik hücrenin düsey dogrultusunda
yönlendirilmektedir. Uzunlamasina, düsey ve enlemesine dogrultular, yönler, planlar ve
hareketler bu standarda göre tanimlanmaktadir.
Sekil 2, bir hücre sirasi içindeki iki ardisik klasik elektrolitik hücreyi (200)
göstermektedir. Sekil 2'de gösterildigi gibi, elektrolitik hücre (200) iç kismi refrakter
malzemelerle (202) astarlanmis bir pota kovanini (201) ve tabaninda bir alüminyum
katmaninin (210) olustugu bir elektrolit banyosuna (208) daldirilmis bir katodu (204) ve
anotlari (206) içermektedir. Katot (204), katot çikislari (212) seviyesinde pota kovaninin
(201) kenarlarindan geçen katot iletkenlerine (205) elektriksel olarak baglanmaktadir.
Katot çikislari (212), elektroliz akimini bir sonraki elektrolitik hücrenin yükseltme ve
baglama iletkenlerine (213) yönlendiren baglanti iletkenlerine (214) baglanmaktadir.
Sekil 2,de gösterildigi gibi, bu yükseltme ve baglama iletkenleri (213) tek tarafta,
elektrolitik hücrenin (200) ilerleme yönüne göre önceki konumda yer alan kenari
boyunca ve ardindan hücrenin merkezi uzunlamasina kismi ölçüsünde anotlarin (206)
yukarisinda uzanmaktadir.
Sekil 3, Sekil 2“de gösterilen hücrelerin (200) her birinde ve bitisik iki hücre arasinda
elektroliz akiminin (Imo) kat ettigi yolu sematik olarak göstermektedir. Özellikle,
elektroliz akiminin (lioo) bir hücreye ait anot grubuna dogru asimetrik olarak yükseldigi
dikkati çekecek olup bunun nedeni, bu yükselmenin, sira içinde elektroliz akiminin (lmc)
genel akis yönüne göre, yalnizca hücrelerin öncesindeki konumda (Sekil 2 ve 3'teki
hücrelerin solunda) gerçeklesmesidir.
Sekil 4 klasik bir hücrenin (200) kesit görünüsünü sunmakta olup burada, elektroliz
akiminin (I1oo) bir hücreden (200) digerine dogru ve bitisik siradaki akisi tarafindan
üretilen manyetik alanin dengelenmesine yönelik sekonder elektrik devrelerini (104,
106) olusturan elektrik iletkenlerinin, hücrenin (200) yanlarinda yer aldigi görülecektir.
Sekil 5, bulusun bir uygulamasina uygun bir alüminyum izabe firinini (1)
göstermektedir. Alüminyum izabe firini (1) büyük ölçüde dikdörtgen biçimli olan,
elektroliz yoluyla alüminyumu üretmesi amaçlanan ve bir veya daha fazla sira halinde
hizalanabilen, buradaki örnek durumda ise bir elekroliz akiminin (li) beslendigi seri
olarak bagli büyük ölçüde paralel iki sira halinde hizalanmis olan bir dizi elektrolitik
hücreyi (50) içermektedir.
Elektrolitik hücrelerin (50), meydana getirdikleri siraya göre enlemesine düzenlendigine
dikkat edilmesi önemlidir. Enlemesine düzenlenmis elektrolitik hücre (50) ifadesiyle, en
büyük boyutu olan uzunlugu elektroliz akiminin (l1) aktigi genel yöne, yani elekroliz
akiminin (I1) elektrolitik hücrelerde (50) sira ölçeginde aktigi yöne büyük ölçüde dik
olan bir elektrolitik hücrenin (50) kastedildigi dikkati çekecektir.
Alüminyun izabe firini (1) ayrica, içerisinden bir dengeleme akiminin (Iz) geçtigi bir
dengeleme elektrik devresini (6) içermektedir. Sekil 1,de gösterilen devrelerin (104,
106) aksine, dengeleme elektrik devresinin (6) elektrolitik hücrelerin (50) asagisinda
uzandigina dikkat edilmesi önemlidir. Dengeleme akiminin (Iz), elektroliz akimina (I1)
zit olan yönde aktigi da dikkati çekecektir. Sekil 5'teki dengeleme elektrik devresi (6)
daha belirgin biçimde, elektrolitik hücrelere (50) ait siralarin asagisinda bir döngüyü
meydana getirmektedir.
Avantajli bir durum olmak üzere, güç istasyonlarinin (8) olusturdugu bir set, elektrolitik
hücrelere (50) ve dengeleme elektrik devresine (6) bagimsiz olarak güç temin
etmektedir. Baska bir deyisle, dengeleme elektrik devresi (6), içerisinden elektroliz
akiminin (li) aktigi ana elektrik devresinden (7) ayri olan bir sekonder dengeleme
elektrik devresidir.
Dengeleme akiminin (Iz) siddeti, elektroliz akimindan (I1) bagimsiz olarak
degismektedir. Dolayisiyla dengeleme akiminin (Iz) siddeti, elektroliz akiminin (l1)
siddetinin degistirilmesi mutlaka sart olmadan degistirilebilmektedir.
Sekil 8, alüminyum izabe firinindaki (1) ardisik üç elektrolitik hücreyi (50)
göstermektedir. Klasik tarza uygun olarak elektrolitik hücreler (50), metalden ve örnegin
çelikten yapilma olabilen takviye besikleriyle (61) ve refrakter malzemelerden yapilma
bir iç astarla (62) donatilmis bir pota kovanini (60) içermektedir.
Elektrolitik hücreler (50) bir destege (53) (buradaki durumda enlemesine yatay bir
çubuk) ve özellikle karbon malzemeden yapilan ve daha özel bir ifadeyle önceden
pisirilmis tipte olan en az bir anoda (52) yer veren bir dizi anot grubunu, elektroliz
akimini (li) anotlara (52) yönlendirmek üzere teknigin bilinen durumuna uygun
elektrolitik hücrenin (200) aksine elektrolitik hücrelerden (50) her birinin her bir yaninda
uzanan yükseltme ve baglama iletkenlerini (54) ve elektroliz akimini (I1) toplayarak pota
kovaninin (60) tabanindan geçen ve baglanti iletkenlerine (57) baglanan katot
çikislarina (58) yönlendirmek üzere içerisinden katot iletkenlerinin (55) geçtigi, karbon
malzemeden yapilma birkaç katot blogundan meydana getirilebilen bir katotu (56)
içermekte olup söz konusu baglanti iletkenleri (57) de, elektroliz akimini bir sonraki
elektrolitik hücrenin (50) yükseltme ve baglama iletkenlerine (54) tasimaktadir. Anot
gruplari, anotlar asindikça periyodik olarak çikarilacak ve degistirilecek biçimde
tasarlanmaktadir.
Katot iletkenleri (55), katot çikislari (58) ve baglanti iletkenleri (57) örnegin alüminyum,
bakir ve/veya çelikten yapilma metal çubuklar seklinde olabilmektedir.
Sekil 6, bulusa uygun alüminyum izabe firinindaki (1) ardisik iki elektrolitik hücrede (50)
elektroliz akiminin (I1) izledigi yolu sematik olarak göstermektedir. Sekil 3'Ie
kiyaslandiginda, burada elektroliz akiminin (l1) avantajli bir biçimde elektrolitik hücrenin
(50) iki uzunlamasina kenari boyunca yükseldigi kolaylikla görülecektir. içerisinden
dengeleme akiminin (Iz), elektroliz akiminin (li) bir hücreden (50) sonrakine dogru
genel akis yönüne zit olan bir yönde geçtigi dengeleme devresinin (6) elektrolitik
hücrelerin (50) asagisinda mevcut oldugu da dikkati çekecektir.
Sekil 9, bulusa uygun alüminyum izabe firinindaki (1) ardisik iki elektrolitik hücrede (50)
elektroliz akiminin (li) izledigi yolu sematik olarak göstermekte ve katot çikislarinin (58)
pota kovanini (60) daha klasik tarzda, pota kovaninin (60) kenarlarinda terk etmesi
bakimindan, Sekil 6'ya göre farklilik arz etmektedir.
Sekil 7, alüminyum izabe firinindaki (1) bir elektrolitik hücrenin (50) kesit görünüsünü
sunmaktadir. içerisinden dengeleme akiminin (Iz), elektroliz akiminin (I1) bir hücreden
(50) sonrakine dogru genel akis yönüne zit olan bir yönde geçtigi dengeleme
devresinin (6) elektrolitik hücrelerin (50) asagisinda mevcut oldugu da dikkati
çekecekün
Sekil 7'deki örnege göre, dengeleme devresinin (6) ayni büyük ölçüde yatay düzlemde
(XY) yer alan büyük ölçüde esit aralikli olarak düzenlenmis üç iletkene yer veren bir
katmani olusturdugu da dikkati çekecektir ve ayrica bu katmandaki iletkenler, bir
enlemesine medyan düzleme (XZ) göre büyük ölçüde simetrik olarak uzanabilmektedir.
Hücreye yönelik elektrik iletkenlerinin olusturdugu devre ve alüminyum izabe firini
avantajli biçimde modüler tarzda yapilabilmektedir. Sekil 7 özellikle, üç tane özdes
modülden (M) meydana getirilmis bir hücreyi göstermektedir. Bu örnekte her bir modül,
pota kovanina ait üç tane bitisik besigin (61) arasinda yer alan baglanti iletkenlerini (57)
ve büyük ölçüde modülün merkezi besiginin (61) asagisinda yer alan dengeleme
devresine (6) yönelik bir iletkeni içermektedir. Modüle karsilik gelen elektroliz akiminin
siddetinin %Soisi ila %1507si seviyesindeki bir akim, modülün dengeleme devresine (6)
ait iletkenin içinden geçmektedir. Hücrenin manyetik kararliligi modül bazinda temin
edildiginden, hücrenin kararliligi hücreye yönelik elektrik iletkenlerinin olusturdugu
devreyi ve alüminyum izabe firinini meydana getiren modüllerin sayisina bagli degildir.
Böylece, alüminyum izabe firininin yapimi için arzu edilen sartlarin karsilanmasi
amaciyla modüller ilave edilerek, hücrelerin uzunlugu ve akim siddeti basit bir biçimde
ayarlanabilmektedir.
Sekil 8'de gösterildigi gibi, yükseltme ve baglama iletkenleri (54) elektrolitik hücrelerin
(50) her bir uzunlamasina kenari boyunca yukari dogru ve örnegin büyük ölçüde düsey
olarak uzanmaktadir. Elektrolitik hücrelerin (50) uzunlamasina kenarlari, enlemesine
yöne (X) büyük ölçüde dik olan en büyük boyuta sahip kenarlara karsilik gelmektedir.
Ilerleme yönüne göre önceki konumda ve sonraki konumda yer alan yükseltme ve
baglama iletkenleri (54) ayrica, elektrolitik hücreye (50) ait bir medyan düzlemden (YZ)
esit mesafeli olarak düzenlenebilmektedir.
Ilerleme yönüne göre önceki konumda yer alan yükseltme ve baglama iletkenleri (54),
elektrolitik hücrelerin (50) medyan düzlemine (YZ) göre, ilerleme yönüne göre sonraki
konumda yer alan yükseltme ve baglama iletkenlerine (54) büyük ölçüde simetrik
olabilmektedir.
Sekilde gösterilmemekle birlikte, elektrolitik hücrelerden (50) birine ait olan ilerleme
yönüne göre önceki konumda yer alan yükseltme ve baglama iletkenleri (54), sirada bir
önceki elektrolitik hücreye (50) ait olan ilerleme yönüne göre sonraki konumda yer alan
yükseltme ve baglama iletkenlerine (54) göre kademeli bir tarzda düzenlenebilmektedir.
Sekil 8 ayrica, yükseltme ve baglama iletkenlerinin (54) pota kovaninin (60) her iki
tarafinda, anotlarin (52) yukarisinda uzanmaksizin, yani yatay bir düzlemdeki anotlarin
yüzey alanindan düsey olarak izdüsümü yapilan bir hacim içinde uzanmaksizin
ilerledigini de göstermektedir.
Yükseltme ve baglama elektrik iletkenlerinin (54), sivilarin (63) üzerinde yaklasik 0 ile
1.5 metre arasindaki bir yükseklikte (h) uzandigi da dikkati çekecektir.
Ayrica anot grubuna yönelik destek (53), elektrolitik hücreye (50) göre enlemesine
uzanan ve elektrolitik hücrenin (50) her bir yanindaki iki uzunlamasina kenarin her
birinde desteklenen ve bu kenara elektriksel olarak baglanan bir çapraz elemani da
içermektedir.
Elektrolitik hücrelere (50) ait ilerleme yönüne göre önceki konumda yer alan yükseltme
ve baglama iletkenleri (54) ile elektrolitik hücrelere (50) ait ilerleme yönüne göre
sonraki konumda yer alan yükseltme ve baglama iletkenleri (54) arasindaki elektroliz
akimi (li) dagiliminin, örnegin sirasiyla %30 ila %70 oraninda önceki konum ve %70 ila
biçimde, bu akim dagilimi sirasiyla %40 ila %60 oraninda önceki konum ve %60 ila
önceki konum ve %55 ila %45 oraninda sonraki konum seklinde olabilmektedir. Baska
bir deyisle, akim dagilimi %50 arti eksi %20 önceki konum ve geri kalani sonraki
konum, tercihen %50 arti eksi %10 önceki konum ve geri kalani sonraki konum ve
bunun da ötesinde tercih edilen durumda %50 arti eksi %5 önceki konum ve geri kalani
sonraki konum seklindeki bir seviyede olabilmektedir.
Sekil 8'de gösterildigi gibi, katot çikislari (58) ve baglanti iletkenleri (57) yalnizca,
elektrolitik hücrelerin (50) uzunlamasina yönüne (Y) dik bir düsey düzlemde (XZ)
uzanabilmektedir. Özellikle, katot çikislari (58) yalnizca büyük ölçüde düsey olarak
uzanabilmektedir.
Katot çikislari (58) elektrolitik hücrelere (50) ait pota kovaninin (60) tabani içinden
geçebilmekte ve baglanti iletkenleri (57) elektrolitik hücreler (50) arasinda, avantajli bir
biçimde elektrolitik hücrelerin (50) enlemesine yönüne (X) büyük ölçüde paralel bir düz
çizgi boyunca ve bir sonraki elektrolitik hücrenin (50) yükseltme ve baglama
iletkenlerine (54) dogru uzanabilmektedir.
Elektrolitik hücrelerin (50) asagisindan geçen ve sahip oldugu dengeleme akimi (Iz)
elektrik akimina (I1) ters bir yönde akan bir dengeleme elektrik devresi (6) ile elektrolitik
hücrelerin (50) karsilikli iki uzunlamasina kenari üzerinde uzanan yükseltme ve
baglama iletkenlerinin (54) birlikteligi, hücrelerin asagisindan geçen elektrik akimi
iletkenleri tarafindan ve dengeleme elektrik devresi iletkenleri tarafindan üretilen
manyetik alanlar birbirini sifirladigi için, elektrolitik hücrelerde (50) mevcut sivilarin
kararli hale getirilmesini ve bir siranin sonundaki elektrolitik hücrelerde (50) söz konusu
bozulmalarin sinirlanmasini mümkün hale getirmektedir.
Manyetik alanlarin birbirini uygun sekilde sifirlamasinin saglanmasi ve hücrelerin
kararliliginin temin edilmesi bakimindan, dengeleme devresi içinden akan dengeleme
akiminin siddeti avantajli bir biçimde elektroliz akiminin (I1) siddetinin %50 ila %150'si
seviyesinde, tercihen elektroliz akiminin (I1) siddetinin %70 ila %130'u seviyesinde ve
bunun da ötesinde tercih edilen durumda elektroliz akiminin (I1) siddetinin %80 ila
Sonuç olarak, siralar arasindaki mesafeler ve elektroliz devresinin ve dengeleme
elektrik devresinin (6) uzunluklari düsürülebilmektedir. Ayrica yine Sekil 5'e bakilacak
olursa, güç istasyonlarina (8) en yakin elektrolitik hücreler (50) arasindaki mesafe (D1)
ve/veya dengeleme elektrik devresinin (6) bir siranin uçlari ötesine uzanma mesafesi
(D3) 30 m'den az veya bu degere esittir, örnegin 20 m'den az veya bu degere esittir ve
tercihen 10 m'den az veya bu degere esittir, iki sira arasindaki mesafe (Dz) ise 40
m”den az veya bu degere esittir, örnegin 30 m'den az veya bu degere esittir ve tercihen
m'den az veya bu degere esittir. Sekil 5'te gösterildigi gibi, bulusa uygun alüminyum
izabe firinindaki (1) iki sira böylece ayni binaya (12) yerlestirilebilmekte, bu ise çok
önemli yapisal tasarruflarin saglanmasini mümkün hale getirmektedir.
Tercihen dengeleme elektrik devresi (6) hücrelerin (50) asagisinda uzanmakta ve
büyük ölçüde esit aralikli olarak düzenlenen ve hücrelerin (50) enlemesine medyan
eksenine (X) göre büyük ölçüde simetrik olarak dagitilan iki ile on iki arasinda ve
tercihen üç ile on arasinda paralel elektrik iletkenine yer veren bir katmani
olusturmaktadir. Dolayisiyla, paralel iletkenlerden olusan bu katmandaki iletkenler
arasindan örnegin esit dagilimli tarzda geçen dengeleme akimi (Iz), hücrenin (50) tüm
uzunlugu altinda daha iyi dagitilmaktadir. Tüm uzunlugu boyunca hücrenin (50)
asagisina dagitilan, içlerinden elektroliz akiminin (I1) geçtigi baglanti iletkenleri (57)
tarafindan üretilen manyetik alanlar da daha iyi dengelenmektedir.
Dengeleme elektrik devresini (6) olusturan elektrik iletkeni veya iletkenleri hücre (50)
siralarinin asagisinda, söz konusu elektrolitik hücrelerin (50) enlemesine eksenine (X)
büyük ölçüde paralel tarzda uzanmaktadir.
Dengeleme devresinin (6), birbirinden bagimsiz olan ve her birinin içinden elektroliz
akimina (I1) ters yönde akan bir dengeleme akimi geçen bir dizi sekonder dengeleme
elektrik alt devresini meydana getiren elektrik iletkenleri tarafindan olusturulabildigi
dikkati çekecektir. Sekonder dengeleme elektrik alt devreleri elektrolitik hücrelerin (50)
asagisinda döngüler olusturabilmekte, örnegin Sekil 5'teki durumda bu tür iki tane
döngüyü olusturmaktadir. Dolayisiyla, bir elektrolitik hücrenin (50) hasar almasi ve alt
devrelerinden birinin etkilenmesi durumunda, sekonder dengeleme elektrik alt devreleri
veya diger sekonder dengeleme elektrik alt devreleri manyetik alani dengelemeye
devam edebilmektedir.
Ayrica dengeleme devresine (6) ait elektrik iletkenleri veya uygun olmasi halinde
sekonder dengeleme elektrik alt devrelerinden birine ait elektrik iletkenleri elektrolitik
hücrelerin asagisinda paralel ve/veya seri olarak birkaç dönüs yapabilmekte olup bu
özellikle, bu elektrik iletkenleri süper iletken malzemeden yapildiginda söz konusu
olmaktadir.
Dengeleme devresini (6) olusturan elektrik iletkenleri örnegin alüminyum, bakir veya
çelikten yapilma metal çubuklar ya da avantajli bir durum olmak üzere süper iletken
malzemeden yapilma elektrik iletkenleri biçimini alabilmekte olup süper iletken
malzemeden yapilma elektrik iletkenleri enerji tüketiminin azaltilmasini mümkün hale
getirmekte ve esdeger metal iletkenlere kiyasla daha küçük olan kütleleri sayesinde,
desteklenmelerine ya da metal saptiricilar vasitasiyla herhangi bir metal akisina karsi
korunmalarina yönelik yapisal maliyetlerin düsürülmesini saglamaktadir. Avantajli bir
durum olmak üzere, süper iletken malzemeden yapilma bu elektrik iletkenleri, hücre
sirasinin veya siralarinin asagisinda seri olarak birkaç dönüs yapacak sekilde
düzenlenebilmektedir.
Hücrenin asagisindan geçen dengeleme elektrik devresine ait iletkenlerin içinden
geçen akim siddetlerinin toplami avantajli bir biçimde elektroliz akiminin (I1) siddetinin
seviyesinde ve bunun da ötesinde tercih edilen durumda elektroliz akiminin (li)
siddetinin %80 ila %120'si seviyesindedir.
Dolayisiyla, alüminyum izabe firininin (1) elektrolitik hücrelerin (50) asagisinda tek bir
dönüs olusturan bir sekonder dengeleme elektrik devresini (6) içermesi durumunda, bu
dengeleme elektrik devresi (6) içinden akan dengeleme akiminin siddeti, elektroliz
akiminin (I1) siddetinin %50 ila %150'si seviyesinde olabilmektedir. Bu sekonder
dengeleme elektrik alt devresinin (6) elektrolitik hücrelerin (50) asagisinda N tane
dönüsü olusturmasi durumunda, bu dönüslerin her biri içinden geçen N tane akim
siddetinin toplami, elektroliz akiminin siddetinin %50 ila %150”si seviyesinde olacaktir.
Böylece Sekil 5'teki örnege göre, iki dönüsün her biri içinden geçen akimlarin ('20 ve I21)
siddetlerinin toplamina karsilik gelen akim (Iz) siddeti, elektroliz akiminin (li) siddetinin
Bulus ayrica, alüminyum izabe firininin (1) elektrolitik hücrelerinde (50) alüminyum
oksidin karistirilmasina yönelik bir prosesle de ilgilidir. Bu proses, dengeleme elektrik
devresinde (6) akan dengeleme akiminin veya uygun olmasi halinde dengeleme
elektrik devresini olusturan alt devrelerde akan dengeleme akimlarinin siddetinin
modüle edilmesi seklindeki bir asamayi içermektedir. Bu modülasyon daha belirgin bir
ifadeyle alüminyum oksidin özelliklerinin, elektroliz akiminin siddetindeki degisikliklerin
veya alüminyum izabe firinindaki yapisal degisikliklerin bir fonksiyonu olabilmektedir.
Alüminyum oksidin karistirilmasina yönelik bu proses asagidaki adimlari içermektedir:
- Alüminyum oksidin en az bir özelliginin (örnegin alüminyum oksidin banyo içinde
çözünme kabiliyeti, alüminyum oksidin akiskanligi, çözünürlügü, flor içerigi, nem
- bir yandan alüminyum oksidin etkili biçimde karistirilmasi ve bir yandan da
performans üzerinde en düsük olasi etkinin söz konusu olmasi için uygun olan
MHD akislara yönelik bir hiz esiginin üretilmesi amaciyla, analiz edilen söz konusu
en az bir özellige göre dengeleme devresinden geçmesi gereken dengeleme
akiminin siddetine iliskin bir degerin belirlenmesi (bu belirleme adimi, deney
yoluyla elde edilen ve akim siddetinin degeri ile analiz edilen özellik arasindaki
iliskiyi temin eden bir nomograf kullanilarak gerçeklestirilmektedir),
- dengeleme akiminin (lg) siddetinin önceki asamada belirlenen akim siddeti
degerine uygun olarak degistirilmesi.
Elbette bulus, yukarida açiklanan ve sadece örnek olarak sunulan uygulamayla
herhangi bir sekilde sinirli degildir. Bulusun koruma kapsami disina çikilmaksizin,
özellikle çesitli bilesenlerin olusturulmasi veya esdeger tekniklerin diger tekniklerin
yerine konulmasi açisindan modifikasyonlar yapilmasi mümkündür. Bu bulus örnegin,
elektroliz reaksiyonu sirasinda oksijenin olustugu “inert (reaksiyona girmeyen)” tipteki
anotlarin kullanimiyla uyumludur.
Claims (22)
1. Her biri bir pota kovanini (60), bir destege (53) ve en az bir anoda (52) sahip anot gruplarini ve katottaki elektroliz akimini (I1) toplamasi ve bunu pota kovani disindaki katot çikislarina yönlendirmesi amaçlanan katot iletkenlerinin (58) içinden geçtigi bir katodu (56) içeren ve sira uzunluguna göre enlemesine düzenlenmis olan elektrolitik hücrelerin (50) olusturdugu en az bir siraya yer veren bir alüminyum izabe firini (1) olup özelligi, elektrolitik hücrenin (50) elektroliz akimini (I1) anot gruplarina yönlendirmek için elektrolitik hücrenin (50) karsilikli iki uzunlamasina kenari boyunca yukari dogru uzanan anot gruplarina bagli yükseltme ve baglama elektrik iletkenlerini (54) ve elektroliz akimini katot çikislarindan bir sonraki elektrolitik hücrenin (50) yükseltme ve baglama elektrik iletkenlerine (54) yönlendirecek biçimde tasarlanan, katot çikislarina bagli baglanti iletkenlerini (57) içermesi ve alüminyum izabe firininin (1) elektrolitik hücrelerin (50) asagisinda uzanan en az bir dengeleme elektrik devresini (6) içermesi ve bu dengeleme devresinin (6) içinden bir dengeleme akiminin (Iz), yukarida yer alan elektrolitik hücrelerin (50) içinden akan elektroliz akiminin (li) genel akis yönüne ters bir yönde ve elektrolitik hücrelerin (50) asagisinda akabilmesidir.
2. Istem 1'e uygun alüminyum izabe firini (1) olup burada, dengeleme elektrik devresi (6)i içerisinden elektroliz akiminin (li) geçtigi elektrik devresinden ayri bir sekonder
3. Istem 1 veya 2'ye uygun alüminyum izabe firini (1) olup özelligi, alüminyum izabe firininin (1) birbirine paralel düzenlenen, tek bir istasyondan güç alan ve elektriksel olarak seri baglanan iki sira hücreyi içermesi ve buradaki düzenlemenin, iki sira hücrenin birincisinden geçen elektroliz akiminin daha sonra iki sira hücrenin ikincisinden ve iki sira hücrenin birincisindeki akisin tamamen tersi olan yönde geçmesi saglanacak biçimde ve dengeleme elektrik devresinin (6) bu iki paralel hücre sirasinin asagisinda bir döngüyü olusturmasi saglanacak biçimde yapilmasidir.
4. Istem 1 ila 3'ten herhangi birine uygun alüminyum izabe firini (1) olup özelligi, elektrolitik hücrenin (50), iki uzunlamasina kenarinin her biri boyunca ve karsilik gelen uzunlamasina kenarin büyük ölçüde tüm uzunlugu üzerinde önceden belirlenmis araliklarla dagitilan bir dizi yükseltme ve baglama elektrik iletkenini (54) içermesidir.
5. Istem 1 ila 4'ten herhangi birine uygun alüminyum izabe firini (1) olup özelligi, yükseltme ve baglama elektrik iletkenlerinin (54), elektrolitik hücrenin (50) medyan uzunlamasina düzlemine göre büyük ölçüde simetrik bir tarzda düzenlenmesidir.
6. Istem 1 ila 5'ten herhangi birine uygun alüminyum izabe firini (1) olup özelligi, baglanti iletkenlerinin (57) elektrolitik hücrenin (50) asagisinda büyük ölçüde düz bir çizgi boyunca ve elektrolitik hücreye (50) göre enlemesine yönde uzanmasidir.
7. Istem 1 ila 6”dan herhangi birine uygun alüminyum izabe firini (1) olup özelligi, dengeleme elektrik devresinin (6), birbirinden bagimsiz bir dizi sekonder dengeleme elektrik alt devresini olusturan elektrik iletkenlerine yer vermesidir.
8. Istem 1 ila 7'den herhangi birine uygun alüminyum izabe firini (1) olup özelligi, dengeleme elektrik devresinin (6), elektrolitik hücrelerin (50) asagisinda paralel olarak uzanan elektrik iletkenlerini içermesidir.
9. Istem 1 ila 8'den herhangi birine uygun alüminyum izabe firini (1) olup özelligi, dengeleme elektrik devresini veya uygun olmasi halinde sekonder dengeleme elektrik alt devrelerini olusturan elektrik iletkenlerinin, elektrolitik hücrelerin (50) asagisinda uzanmasi ve birlikte, iki ile on iki arasinda ve tercihen üç ile on arasinda paralel elektrik iletkenini içeren bir katmani meydana getirmesidir.
10. Istem 7 ila 9'dan herhangi birine uygun alüminyum izabe firini (1) olup burada, söz konusu elektrik iletkenleri büyük ölçüde esit araliklidir ve elektrolitik hücrelerin (50) enlemesine medyan eksenine göre büyük ölçüde simetrik olarak düzenlenmektedir.
11. Istem 1 ila 10,dan herhangi birine uygun alüminyum izabe firini (1) olup özelligi, elektrolitik hücrenin (50) iki uzunlamasina kenarindan biri boyunca uzanan yükseltme ve baglama elektrik iletkenlerinin (54), bir önceki veya sonraki ayri bir elektrolitik hücrenin (50) bitisik uzunlamasina kenari üzerinde yer alan yükseltme ve baglama elektrik iletkenlerine (54) göre kademeli bir düzenlemeye sahip olmasidir.
12. Istem 1 ila 11”den herhangi birine uygun alüminyum izabe firini (1) olup özelligi, her bir katot çikisinin (58) pota kovanini (60) yalnizca, elektrolitik hücrenin (50) uzunlamasina yönüne dik olan düsey bir düzlemde terk etmesidir.
13. Istem 1 ila 12'den herhangi birine uygun alüminyum izabe firini (1) olup özelligi, anot grubuna yönelik destegin (53), elektrolitik hücreye (50) göre enlemesine uzanan ve elektrolitik hücrenin (50) her bir yaninda iki uzunlamasina kenarin her birinde desteklenen ve bunlara elektriksel olarak baglanan bir çapraz elemani içermesidir.
14. Istem 1 ila 13'ten herhangi birine uygun alüminyum izabe firini (1) olup özelligi, yükseltme ve baglama iletkenlerinin (54) anotun veya anotlarin (52) yukarisinda uzanmaksizin, pota kovaninin (60) her bir yaninda uzanmasidir.
15. Istem 1 ila 14'ten herhangi birine uygun alüminyum izabe firini (1) olup özelligi, yükseltme ve baglama elektrik iletkenlerinin (54), elektrolitik hücrede (50) mevcut sivilarin (63) yüzeyini içeren büyük ölçüde yatay bir düzlemin üzerinde, 0 ile 1.5 metre arasindaki bir yükseklikte (h) uzanmasidir.
16. Istem 1 ila 15'ten herhangi birine uygun bir alüminyum izabe firininin (1) kullanilmasina yönelik yöntem olup özelligi, yukarida yer alan elektrolitik hücrelerin (50) içinden akan elektroliz akiminin (I1) genel akis yönüne ters bir yönde ve elektrolitik hücrelerin (50) asagisinda akan bir dengeleme akiminin (Iz), dengeleme devresinin (6) içinden geçmesidir.
17. Istem 16lya uygun yöntem olup özelligi, dengeleme akiminin (l2) siddetinin, elektroliz akiminin (I1) siddetinin %50”si ila %150'si seviyesinde olmasidir.
18. Istem 17'ye uygun yöntem olup özelligi, dengeleme akiminin (Iz) siddetinin, elektroliz akiminin (I1) siddetinin %70'i ila %130'u seviyesinde ve tercihen elektroliz akiminin (li) siddetinin %80'i ila %120'si seviyesinde olmasidir.
19. Istem 16 ila 18'den herhangi birine uygun yöntem olup özelligi, elektrolitik hücrenin (50) ilerleme yönüne göre öncesinde yer alan yükseltme ve baglama elektrik iletkenleri (54) ile elektrolitik hücrenin (50) ilerleme yönüne göre sonrasinda yer alan yükseltme ve baglama elektrik iletkenleri (54) arasindaki akim dagiliminin, sirasiyla ilerleme yönüne göre önceki konumda %30-70 ve ilerleme yönüne göre sonraki konumda %30- 70 seklinde olmasidir.
20. Istem 19`a uygun yöntem olup özelligi, elektrolitik hücrenin (50) ilerleme yönüne göre öncesinde yer alan yükseltme ve baglama elektrik iletkenleri (54) ile elektrolitik hücrenin (50) ilerleme yönüne göre sonrasinda yer alan yükseltme ve baglama elektrik iletkenleri (54) arasindaki akim dagiliminin, sirasiyla ilerleme yönüne göre önceki konumda %40-60 ve ilerleme yönüne göre sonraki konumda %40-60 seklinde olmasidir.
21. Istem 20'ye uygun yöntem olup özelligi, elektrolitik hücrenin (50) ilerleme yönüne göre öncesinde yer alan yükseltme ve baglama elektrik iletkenleri (54) ile elektrolitik hücrenin (50) ilerleme yönüne göre sonrasinda yer alan yükseltme ve baglama elektrik iletkenleri (54) arasindaki akim dagiliminin, sirasiyla ilerleme yönüne göre önceki konumda %45-55 ve ilerleme yönüne göre sonraki konumda %45-55 seklinde olmasidir.
22. Istem 1 ila 15'ten herhangi birine uygun olan ve Istem 16'ya uygun kullanim yöntemi uyarinca kullanilan bir alüminyum izabe firinindaki (1) elektrolitik hücrelerde (50) mevcut alüminyum oksidin karistirilmasina yönelik proses olup söz konusu proses - alüminyum oksidin en az bir özelliginin analiz edilmesi, - analiz edilen söz konusu en az bir özelligin bir fonksiyonu olarak dengeleme elektrik devresinde (6) akmasi gereken dengeleme akiminin siddetine iliskin bir degerin belirlenmesi, - dengeleme akiminin (Iz) siddetinin önceki asamada belirlenen siddet degerine göre farklilik göstermesi durumunda, dengeleme akiminin ('2) siddetinin bu degere sahip olacak sekilde degistirilmesi seklindeki adimlari içermektedir.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1301910A FR3009564A1 (fr) | 2013-08-09 | 2013-08-09 | Aluminerie comprenant un circuit electrique de compensation |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TR201821117T4 true TR201821117T4 (tr) | 2019-02-21 |
Family
ID=49667213
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TR2018/21117T TR201821117T4 (tr) | 2013-08-09 | 2014-07-30 | Dengeleme elektrik devresi içeren alüminyum izabe fırını. |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10344390B2 (tr) |
EP (1) | EP3030695B1 (tr) |
CN (1) | CN105452536B (tr) |
AR (3) | AR097246A1 (tr) |
AU (1) | AU2014305613B2 (tr) |
BR (1) | BR112016001961A2 (tr) |
CA (1) | CA2919050C (tr) |
DK (1) | DK179170B1 (tr) |
EA (1) | EA030271B1 (tr) |
FR (1) | FR3009564A1 (tr) |
MY (1) | MY178282A (tr) |
SI (1) | SI3030695T1 (tr) |
TR (1) | TR201821117T4 (tr) |
WO (1) | WO2015017924A1 (tr) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR3032459B1 (fr) * | 2015-02-09 | 2019-08-23 | Rio Tinto Alcan International Limited | Aluminerie et procede de compensation d'un champ magnetique cree par la circulation du courant d'electrolyse de cette aluminerie |
WO2017020123A1 (en) * | 2015-08-06 | 2017-02-09 | 9320-0145 Québec Inc. | Electrical connector system for electrolysis cell of aluminum production plant and method of using same |
US20170073829A1 (en) * | 2015-09-14 | 2017-03-16 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for reducing the formation of fluorocarbons in molten salt electrolysis |
RU2678624C1 (ru) * | 2017-12-29 | 2019-01-30 | Общество с ограниченной ответственностью "Объединенная Компания РУСАЛ Инженерно-технологический центр" | Ошиновка модульная для серий алюминиевых электролизеров |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL186581B (nl) | 1954-02-09 | 1900-01-01 | Roquette Freres | Produkt dat gehydrogeneerd zetmeel-hydrolysaat bevat en werkwijze ter bereiding daarvan. |
DE1010744B (de) * | 1955-06-03 | 1957-06-19 | Vaw Ver Aluminium Werke Ag | Schienenfuehrung fuer grosse Elektrolysezellen fuer die Aluminiumelektrolyse |
JPS5216843B2 (tr) * | 1973-10-26 | 1977-05-12 | ||
NO139829C (no) * | 1977-10-19 | 1979-05-16 | Ardal Og Sunndal Verk | Anordning for kompensering av skadelig magnetisk paavirkning mellom to eller flere rekker av tverrstilte elektrolyseovner for smelteelektrolytisk fremstilling av aluminium |
FR2425482A1 (fr) | 1978-05-11 | 1979-12-07 | Pechiney Aluminium | Procede de compensation du champ magnetique induit par la file voisine dans les series de cuves d'electrolyse a haute intensite |
FR2469475A1 (fr) * | 1979-11-07 | 1981-05-22 | Pechiney Aluminium | Procede et dispositif pour la suppression des perturbations magnetiques dans les cuves d'electrolyse a tres haute intensite placees en travers |
AU536947B2 (en) * | 1979-12-03 | 1984-05-31 | Swiss Aluminium Ltd. | Anode support system for molten salt electrolytic cell |
DE3009098C2 (de) * | 1979-12-21 | 1983-02-24 | Schweizerische Aluminium AG, 3965 Chippis | Verfahren zur Führung des Stromes zwischen Elektrolyseöfen |
FR2576920B1 (fr) * | 1985-02-07 | 1987-05-15 | Pechiney Aluminium | Cuve d'electrolyse hall-heroult a barres cathodiques et a calorifugeage dissymetriques |
FR2583069B1 (fr) * | 1985-06-05 | 1987-07-31 | Pechiney Aluminium | Dispositif de connexion entre cuves d'electrolyse a tres haute intensite, pour la production d'aluminium, comportant un circuit d'alimentation et un circuit independant de correction du champ magnetique |
FR2868436B1 (fr) | 2004-04-02 | 2006-05-26 | Aluminium Pechiney Soc Par Act | Serie de cellules d'electrolyse pour la production d'aluminium comportant des moyens pour equilibrer les champs magnetiques en extremite de file |
NO322258B1 (no) * | 2004-09-23 | 2006-09-04 | Norsk Hydro As | En fremgangsmate for elektrisk kobling og magnetisk kompensasjon av reduksjonsceller for aluminium, og et system for dette |
RU2288976C1 (ru) * | 2005-05-04 | 2006-12-10 | Общество с ограниченной ответственностью "Инженерно-технологический центр" | Ошиновка модульная мощных электролизеров для производства алюминия |
RU2316619C1 (ru) * | 2006-04-18 | 2008-02-10 | Общество с ограниченной ответственностью "Русская инжиниринговая компания" | Устройство для компенсации магнитного поля, наведенного соседним рядом последовательно соединенных электролизеров большой мощности |
FR2964984B1 (fr) * | 2010-09-17 | 2012-08-31 | Alcan Int Ltd | Dispositif de connexion electrique entre deux cellules successives d'aluminium |
FR2977898A1 (fr) * | 2011-07-12 | 2013-01-18 | Rio Tinto Alcan Int Ltd | Aluminerie comprenant des cuves a sortie cathodique par le fond du caisson et des moyens de stabilisation des cuves |
CN103649375A (zh) | 2011-07-12 | 2014-03-19 | 力拓艾尔坎国际有限公司 | 包含由超导材料制成的电导体的铝厂 |
-
2013
- 2013-08-09 FR FR1301910A patent/FR3009564A1/fr active Pending
-
2014
- 2014-07-30 MY MYPI2016700419A patent/MY178282A/en unknown
- 2014-07-30 CN CN201480044967.8A patent/CN105452536B/zh active Active
- 2014-07-30 SI SI201431028T patent/SI3030695T1/sl unknown
- 2014-07-30 AU AU2014305613A patent/AU2014305613B2/en active Active
- 2014-07-30 TR TR2018/21117T patent/TR201821117T4/tr unknown
- 2014-07-30 WO PCT/CA2014/050722 patent/WO2015017924A1/fr active Application Filing
- 2014-07-30 BR BR112016001961A patent/BR112016001961A2/pt active Search and Examination
- 2014-07-30 EA EA201690339A patent/EA030271B1/ru not_active IP Right Cessation
- 2014-07-30 US US14/911,099 patent/US10344390B2/en active Active
- 2014-07-30 EP EP14834860.0A patent/EP3030695B1/fr active Active
- 2014-07-30 CA CA2919050A patent/CA2919050C/fr active Active
- 2014-08-05 AR ARP140102940A patent/AR097246A1/es active IP Right Grant
- 2014-08-05 AR ARP140102942A patent/AR097248A1/es active IP Right Grant
- 2014-08-05 AR ARP140102941A patent/AR097247A1/es unknown
-
2016
- 2016-03-03 DK DKPA201670126A patent/DK179170B1/en active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EA030271B1 (ru) | 2018-07-31 |
AR097248A1 (es) | 2016-03-02 |
CN105452536B (zh) | 2017-09-19 |
DK201670126A1 (en) | 2016-03-14 |
BR112016001961A2 (pt) | 2017-08-01 |
EP3030695A4 (fr) | 2017-03-29 |
AR097246A1 (es) | 2016-03-02 |
CA2919050C (fr) | 2021-03-30 |
EA201690339A1 (ru) | 2016-06-30 |
AU2014305613B2 (en) | 2017-08-31 |
MY178282A (en) | 2020-10-07 |
WO2015017924A1 (fr) | 2015-02-12 |
CN105452536A (zh) | 2016-03-30 |
EP3030695B1 (fr) | 2018-10-17 |
FR3009564A1 (fr) | 2015-02-13 |
US10344390B2 (en) | 2019-07-09 |
US20160201208A1 (en) | 2016-07-14 |
CA2919050A1 (fr) | 2015-02-12 |
DK179170B1 (en) | 2018-01-02 |
SI3030695T1 (sl) | 2019-02-28 |
AU2014305613A1 (en) | 2016-02-11 |
AR097247A1 (es) | 2016-03-02 |
EP3030695A1 (fr) | 2016-06-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8070921B2 (en) | Method for electrical connection and magnetic compensation of aluminium reduction cells, and a system for same | |
TR201821117T4 (tr) | Dengeleme elektrik devresi içeren alüminyum izabe fırını. | |
RU2288976C1 (ru) | Ошиновка модульная мощных электролизеров для производства алюминия | |
AU693391B2 (en) | Busbar arrangement for electrolytic cells | |
SU682143A3 (ru) | Устройство дл компенсации магнитного пол в серии алюминиевых электролизеров | |
CN107250439B (zh) | 铝熔炉和补偿由该铝熔炉的电解电流循环产生的磁场的方法 | |
US8961749B2 (en) | Electrical connection device, for connecting between two successive cells of a series of cells for the production of aluminium | |
CN108368624B (zh) | 用于生产铝的包括用于均衡电解池排端部的磁场的装置的电解池组 | |
CN102534682A (zh) | 电流路径等距离铝电解槽母线配置方法 | |
CN105220179A (zh) | 一种超大容量铝电解槽母线连接方法 | |
CN104520475B (zh) | 用于纵向设置的铝电解槽的母线 | |
CN209836326U (zh) | 一种铝电解槽系列的电解厂房及电解槽布局结构 | |
CN110392750B (zh) | 用于铝电解槽系列的模块化母线系统 | |
RU2295589C1 (ru) | Ошиновка алюминиевых электролизеров | |
RU2168564C2 (ru) | Устройство компенсации | |
RU2566120C1 (ru) | Ошиновка алюминиевого электролизера | |
RU2505626C1 (ru) | Ошиновка электролизера для получения алюминия |