TR201815043T4 - Bir nikel oksit katmanı üzerinde kristalize gümüş bazlı fonksiyonel bir katman içeren malzeme. - Google Patents
Bir nikel oksit katmanı üzerinde kristalize gümüş bazlı fonksiyonel bir katman içeren malzeme. Download PDFInfo
- Publication number
- TR201815043T4 TR201815043T4 TR2018/15043T TR201815043T TR201815043T4 TR 201815043 T4 TR201815043 T4 TR 201815043T4 TR 2018/15043 T TR2018/15043 T TR 2018/15043T TR 201815043 T TR201815043 T TR 201815043T TR 201815043 T4 TR201815043 T4 TR 201815043T4
- Authority
- TR
- Turkey
- Prior art keywords
- layer
- silver
- nickel oxide
- feature
- material according
- Prior art date
Links
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 41
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 41
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 41
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 39
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 239000010410 layer Substances 0.000 title claims description 188
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 title claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 50
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 16
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 58
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 34
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 34
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 20
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 18
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 14
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 6
- 238000000407 epitaxy Methods 0.000 claims description 5
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 claims description 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 10
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 7
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 description 14
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013532 laser treatment Methods 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 2
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003087 TiOx Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 239000013074 reference sample Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N tioxidazole Chemical compound CCCOC1=CC=C2N=C(NC(=O)OC)SC2=C1 HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3681—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating being used in glazing, e.g. windows or windscreens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/085—Oxides of iron group metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/086—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/10—Glass or silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
- C23C14/165—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon by cathodic sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/18—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
- C23C14/185—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates by cathodic sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5806—Thermal treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/216—ZnO
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/217—FeOx, CoOx, NiOx
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/25—Metals
- C03C2217/251—Al, Cu, Mg or noble metals
- C03C2217/254—Noble metals
- C03C2217/256—Ag
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/32—After-treatment
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Buluş, gümüş bazlı fonksiyonel en az bir metal katman ve en az iki yansıma engelleyici kaplama içeren, isteğe bağlı olarak manyetik alan yardımlı katodik püskürtme yoluyla çökeltilen ince katmanlı bir yığın ile kaplanan saydam bir altkatman içeren bir malzemenin üretim yöntemi ile ilgilidir, her bir yansıma engelleyici kaplama, her bir fonksiyonel metal katman iki yansıma engelleyici kaplamanın arasına yerleştirilecek şekilde en az bir dielektrik katman içermektedir, yöntem aşağıdaki adım sekansından oluşmaktadır: (a)kristalize nikel oksit bazlı en az bir ince katman içeren yansıma engelleyici bir kaplamanın yerleştirilmesi, daha sonra kristalize nikel oksit bazlı ince katmanın üzerine ve temas halinde gümüş bazlı en az bir fonksyionel metal katmanın yerleştirilmesi.
Description
Tarifname boyunca, bulusa uygun altkatmanin yatay sekilde
koyuldugu varsayilmaktadir. Ince katman yigini altkatmanin
üzerine yerlestirilmektedir. “Üzerine” ve “altina” ve
düsünülmelidir. Özel bir kosul olmadikça, “altina” ve
birbirleri ile temas halinde yerlestirildikleri anlamina
gelmemektedir. Bir katmanin bir baska katmana veya kaplamaya
bir veya daha fazla katman koyulamayacagi anlamina
gelmektedir.
Fonksiyonel katmanin kütlesine göre, gümüs bazli fonksiyonel
metal katman agirlikça en az %95,0, tercihen en az %96,5 ve
hatta en az %98,0 gümüs içermektedir. Tercihen, gümüs bazli
fonksiyonel metal katmanin kütlesine göre, gümüs bazli
fonksiyonel katman agirlikça %1,0'dan az oranda baska metaller
içermektedir.
Gümüs bazli fonksiyonel katmanlarin kalinligi sirasiyla 5 ila
nm, 8 ila 15 nm'dir.
Gümüs bazli fonksiyonel metal katmanlar bir engelleme katmani
ile temas halinde olabilmektedir. Bir engelleme ara katmani,
altkatmana göre belirlenen konumda, bir fonksiyonel katmanin
altina yerlestirilen bir engelleme katmanina karsilik
gelmektedir. Altkatmanin karsisinda fonksiyonel katmanin
üzerine yerlestirilen bir engelleme katmani engelleme üst
katmani olarak adlandirilmaktadir. Engelleme üst katmanlari,
NiCr, NiCrN, NiCrOx, NiO veya NbN bazli katmanlar arasindan
seçilmektedir. Her bir engelleme ara katmani ve üst katmaninin
kalinligi tercihen:
- en fazla 5,0 nm veya en fazla 2,0 nm'dir.
Bulusa göre, kristalize nikel oksit bazli katmanlar engelleme
ara katmaninin islevini kesinlestirmektedir. Kristalize nikel
oksit bazli her bir katmanin kalinligi tercihen:
- en fazla 5,0 nm, en fazla 3,0 nm veya en fazla 2,0 nm'dir.
Yansima engelleyici kaplamalarin dielektrik katmanlari tek
veya birlikte olacak sekilde asagidaki özelliklere sahiptir:
- manyetik alan yardimiyla katodik püskürtme yöntemiyle
çökeltilmektedir,
- bariyer islevine sahip dielektrik katmanlar ve/Veya
sabitleyici isleve sahip dielektrik katmanlar arasindan
seçilmektedir,
- titanyum, silikon, alüminyum, kalay ve çinko arasindan
seçilen bir veya daha fazla elemanin oksitleri veya
nitrürleri arasindan seçilmektedir,
- 5 nm'den yüksek, tercihen 8 ila 35 nm arasinda bir kalinliga
sahiptir.
Sabitleyici islevli dielektrik katmanlar ile fonksiyonel
katman ve bu katman arasindaki arayüzü sabitleyebilen bir
malzeden bir katman kast edilmektedir. Sabitleyici islevli
dielektrik katmanlar; istege bagli olarak alüminyum gibi en az
bir element yardimiyla takviye edilmis, Özellikle Çinko oksit
bazli, tercihen kristalize oksit bazlidir. Sabitleyici islevli
dielektrik katman veya katmanlar tercihen çinko oksit
katmanlardir.
Sabitleyici islevli dielektrik katman veya katmanlar, ya
dogrudan temas halinde ya da bir nikel oksit katmani veya bir
engelleme katmani ile ayrilacak sekilde, gümüs bazli
fonksiyonel en az bir metal katmanin veya gümüs bazli her bir
fonksyionel katmanin üzerinde ve/veya altinda
bulunabilmektedir. Tercihen, gümüs bazli fonksiyonel her bir
metal katman; üst katmani tercihen çinko oksit bazli olmak
üzere, sabitleyici islevli dielektrik bir katmanin üzerine ve
temas edecek sekilde yerlestirilen bulüsa göre nikel oksit bir
katman olan yansima engelleyici bir kaplamanin üzerindedir.
Sabitleyici islevli dielektrik katmanlar en az 3 nm, özellikle
3 ila 25 nm ve hatta 5 ila 10 nm bir kalinliga sahip
olabilmektedir.
Bariyer islevli dielektrik katmanlar ile, ortam atmosferinden
veya seffaf alt katmandan fonksiyonel katmana dogru gelen
yüksek sicaklikli oksijen ve suyun difüzyonuna bariyer
olabilen bir malzemeden bir katman kast edilmektedir. Bariyer
islevli dielektrik katmanlar, istege bagli olarak. alüminyum
nitridler AlN bazli veya çinko oksit ve kalay bazli alüminyum
gibi en az bir baska elemanla takviye edilen, SiOz, silikon
nitrürler Siýh ve oksinitrürler SiOQh, gibi oksitler arasindan
seçilen silikon bilesikleri bazli olabilmektedir.
Bir isil isleme maruz kalacak sekilde uyarlanan yigin ile
kaplanan saydam altkatman sunlari içerebilmektedir:
- kristalize nikel oksit bazli en az bir katman içeren bir
yansima engelleyici kaplama,
- gümüs bazli fonksiyonel metal bir katman,
- istege bagli olarak bir engelleme katmani,
- yansima engelleyici bir kaplama.
Avantajli bir yapilandirmaya göre, yigin, altkatmandan
baslayarak sunlari içerebilmektedir:
- çinko oksit bazli sabitleyici islevli en az bir dielektrik
katman ve çinko oksit bazli sabitleyici islevli dielektrik
katmana temas edecek sekilde yerlestirilen kristalize nikel
oksit bazli en az bir katman içeren gümüs bazli fonksiyonel
metal katmanin altina yerlestirilen yansima engelleyici bir
- kristalize nikel oksit bazli katmana temas halinde
yerlestirilen gümüs bazli fonksiyonel metal bir katman,
istege bagli olarak bir engelleme üst katmani,
- gümüs bazli fonksiyonel her bir metal katmanin üzerine
yerlestirilen yansima engelleyici bir kaplama,
- istege bagli olarak bir üst koruma katmani.
Avantajli baska bir yapilandirmaya göre, yigin, altkatmandan
baslayarak sunlari içerebilmektedir:
- bariyer islevli en az bir dielektrik katman, sabitleyici
islevli dielektrik en az bir katman ve kristalize nikel
oksit bazli en az bir katman,
- kristalize nikel oksit bazli katmana temas halinde
yerlestirilen gümüs bazli fonksiyonel metal bir katman,
- istege bagli olarak bir engelleme üst katmani,
- sabitleyici islevli en az bir dielektrik katman ve bariyer
islevli dielektrik bir katman içeren yansima engelleyici bir
Yigin, çizilmeye karsi koruma özellikleri saglanmasi amaciyla
yiginin son katmani olarak yerlestirilen bir koruma üst
katmani içerebilmektedir. Bu üst koruma katmanlari tercihen 2
ila 5 nm arasinda bir kalinliga sahiptir. Bu koruma katmanlari
titan oksit veya çinko ve kalay oksit katmanlari
olabilmektedir.
Bulusa uygun saydam altkatmanlar tercihen cam, özellikle
siliko-sodo-kalsik olmak üzere sert bir mineral malzemedendir.
Altkatmanin kalinligi genel olarak 0,5 mm ila 19 mm arasinda
degisiklik göstermektedir. Altkatmanin kalinligi tercihen 6
mm'den düsük veya ona esit, hatta 4 mm'dir.
Gümüs bazli fonksiyonel metal katmanin yerlestirilmesinden
önce nikel oksit bazli katmanin kristalizasyon isil islemi her
türden isitma yöntemiyle gerçeklestirilebilmektedir. Bu islem,
altkatmanin bir firin veya sobaya yerlestirilmesi veya
altkatmanin bir etkiye maruz birakilmasiya
gerçeklestirilebilmektedir.
Kristalizasyon isil islemi avantajli sekilde islenecek katman
ile kaplanan altkatmanin, tercihen en az bir lazer isini
seklinde söz konusu katman üzerine odakli bir lazer etkisi
olmak üzere bir etkiye maruz birakilmasi seklinde
gerçeklestirilmektedir.
Kristalizasyon isil islemi, nikel oksit bazli katmanin her bir
noktasini en az 300°C, özellikle 350°C, ve hatta 400°C'lik bir
sicakliga tasiyabilecek bir enerji verilmesiyle
gerçeklestirilebilmektedir. Kaplamanin her bir noktasi, 1
saniyeden düsük veya esit, ve hatta 0,5 saniye ve avantajli
ms arasinda bir süre boyunca isil isleme maruz
birakilmaktadir.
915 nm, 940 nm veya 980 nm arasindan seçilen dalga boyundaki
lazer diyotlari özellikle bunun için uygundur.
Kristalizasyon isil islemi ayrica altkatmanin kizilötesi
lambalar gibi konvansiyonel isitma cihazlarindan gelen bir
kizilötesi isinina maruz birakilmasiyla da
gerçeklestirilebilmektedir.
300 °C'lik bir sicakliga çikartilirken altkatmanin yigini
içeren karsi yüzündeki tüm noktalar 150 °C'den düsük veya ona
esit bir sicaklikta kalacak sekilde gerçeklestirilmektedir.
katmanin bir bölgesi kast edilmektedir. Bulusa göre, katmanin
tamami (yani her bir noktasi) en az 300°C'lik bir sicakliga
tasinmaktadir, ancak katmanin her bir noktasi zorunlu olarak
es zamanli sekilde islenmemektedir. Katmanin her bir noktasi
es zamanli olarak en az 300°C'lik bir sicakliga çikartilacak
sekilde tamami ayni anda islenebilmektedir. Alternatif olarak,
katmanin farkli noktalari veya noktalarin bütünü ardisik
olarak en az 300°C'lik bir sicakliga tasinacak sekilde de
islenebilmektedir, bu ikinci yöntem daha çok endüstriyel
ölçekte sürekli bir uygulama durumunda uygulanmaktadir.
Bu isil islemler, altkatmanin tamamini önemli ölçüde isitmadan
sadece katmani isitma, altkatmanin bir bölgesini kontrollü ve
hafifçe isitma ve böylece kirilma sorunlarinin önüne geçme
avantajina sahiptir. Bu nedenle mevcut bulusun uygulanmasi
için bir stres atlayisina sahip olan katmani tasiyan yüzün
karsisindaki altkatmanin yüzünün sicakliginin l50°C'den yüksek
olmamasi, tercihen lOO°C'nin altinda veya esit olmasi,
özellikle 50°C olmasi tercih edilmektedir. Bu özellik,
özellikle altkatmanin degil katmanin isitilmasi için özel
olarak uyarlanan bir isitma yönteminin seçilmesi ve kullanilan
isitma moduna bagli olarak isitma süresinin veya yogunlugunun
ve/Veya diger parametrelerin kontrol edilmesiyle elde
edilmektedir. Tercihen, ince katmanin her bir noktasi, genel
olarak 1 saniyeden az veya esit, ve hatta 0,5 saniyelik bir
süre boyunca bulusa uygun isleme (yani 300°C'den yüksek veya
esit bir sicakliga tasinarak) maruz birakilmaktadir.
En büyük altkatmanlardaki (örnegin 6 m uzunlugunda ve 3 m
genisliginde) kirilmalarin mümkün oldugunca sinirlanmasi
amaciyla, tercihen tüm islem boyunca altkatmanin yüzünde,
herhangi bir noktada, bir stres atlayicisina sahip katmanin
bulundugu yüzün tersinde lOO°C'den düsük veya esit, özellikle
50°C'lik bir sicaklik korunmaktadir.
parametreleri isitma isleminin yapisi, katmanin kalinligi,
islenecek altkatmanin boyutu ve kalinligi gibi parametreler
bakimindan teknikte uzman kisilerce duruma göre
uyarlanmaktadir.
Kristalizasyon isil islem adimi tercihen islenecek katman ile
kaplanan altkatmanin bir isina, tercihen en az bir lazer hatti
seklinde söz konusu katman üzerine odaklanan bir lazer isini
ile islenmesinden olusmaktadir. Lazerler sadece küçük bir
alana yayiyabildiginden (tipik olarak bir mm2 fraksiyonu ila
birkaç yüz mmz), tüm yüzeyin islenmesi için lazer isininin
altkatmanin düzleminde hareket ettirilmesi için bir sistem
veya ayni zamanda alt katmanin tüm genisligine yayilan ve
altinda kayan bir lazer isini olusturan bir sistem öngörülmesi
gerekmektedir.
Maksimum sicaklik normal olarak, incelenen kaplamanin noktasi
lazer hattinin altindan geçtiginde belirlenmektedir. Belirli
bir sürede, sadece lazer hattinin altinda ve hemen yakininda
bulunan kaplamanin yüzeyindeki noktalar (örnegin bir
milimetreden az) normal olarak en az 300°C'lik bir
sicakliktadir. Lazer hattinin asagisi da dahil olmak üzere, 2
nm'den yüksek, özellikle 5 mm mesafeleri için (kaydirma yönüne
göre ölçülen), kaplamanin sicakligi en fazla 50°C, ve hatta
40°C veya 30°C'dir. Lazer isini tercihen bir veya daha fazla
lazer kaynagi ve sekillendirme ve yönlendirme optikleri içeren
modüller tarafindan üretilmektedir.
Lazer kaynaklari tipik olarak lazer diyotlari veya fiber veya
disk lazerlerdir. Lazer diyotlari ekonomik bir sekilde, düsük
bir karbon ayak izi için elektrik güç kaynagina göre yüksek
güç yogunluklarina ulasilmasini saglamaktadir.
Lazer kaynaklarindan gelen isin tercihen süreklidir.
Sekillendirme ve yönlendirme optikleri tercihen lensler ve
aynalar içermektedir ve isin konumlandirma, homojenlestirme ve
odaklama araçlari olarak kullanilmaktadir.
Konumlandirma araçlari gerekli durumlarda lazer kaynaklarindan
gelen bir hatta göre yerlesmektedir. Tercihen aynalar
içermektedir. Homojenlestirme araçlari, hat boyunca homojen
çizgisel bir kuvvet elde edilmesi için kaynaklarin mekansal
profillerini üst üste getirmektedir. Homojenlestirme araçlari
tercihen gelen isinlari ikincil isinlara ayirmak ve söz konusu
ikincil isinlari homojen bir hatta yeniden birlestirmeyi
saglayan lensler içermektedir. Isin odaklama araçlari,
istenilen genislik ve uzunlukta, islenecek kaplama üzerinde
isini odaklamayi saglamaktadir. Odaklama araçlari tercihen bir
yakinsak mercek içermektedir.
Sadece tek bir lazer hatti kullanildiginda, hattin. uzunlugu
avantajli sekilde altkatmanin uzunluguna esittir.
Lazer hattinin çizgisel kuvveti tercihen en az 300 W/cm,
avantajli sekilde 350 veya 400 W/cm, özellikler 450 W/cm,
hatta 500 W/cm ve 550 W/cm'dir. Hatta avantajli sekilde en az
kuvvet, tek veya her bir lazer hattinin kaplama üzerinde
odaklandigi bölgede ölçülmektedir. Örnegin Coherent Inc.
sirketi tarafindan piyasaya sürülen. Beam Finder S/N 2000716
kuvvet Ölçer gibi bir kalorimetrik kuvvet ölçer ile hat
boyunca bir kuvvet detektörü ile ölçülebilmektedir. Kuvvet,
avantajli sekilde homojen olarak tek veya her bir hat boyunca
dagitilmaktadir. Tercihen, en yüksek ve en düsük kuvvet
arasindaki fark ortalama kuvvetin %lO altindadir.
Kaplamaya saglanan enerji yogunlugu tercihen en az 20 J/cmz, ve
hatta 30 J/cm2'dir.
Yüksek enerji kuvvetleri ve yogunluklari, altkatmani önemli
ölçüde isitmadan hizli sekilde kaplamayi isitmayi mümkün
kilmaktadir.
Tercihen, tek veya her bir lazer hatti sabitken, altkatman
hareket halindedir, böylece, nispi hareket hizlari,
altkatmanin kayma hizina karsilik gelecektir.
Kristalizasyon isil islemi, çökeltme sirasinda, çökeltme
odasinda, ya çökeltmenin sonunda, çökeltme odasinin disinda
gerçeklestirilebilmektedir. Kristalizasyon isil islemi vakum
altinda, hava altinda ve/veya atmosfer basincinda
yapilabilmektedir. Kirlenme problemi yaratabileceginden,
çökeltme odasinin disinda isil islem tercih edilmemektedir.
Kristalizasyon isil islemi katodik püskürtme çökelme odasi
içinde vakum altinda gerçeklestirilebilmektedir. Tercihen,
yiginin tüm katmanlari ve kristalizasyon isil islemi katodik
püskürtme yoluyla çökeltme odasinda gerçeklestirilmektedir.
yöntemi) yardimli katodik püskürtme yoluyla bir çökelme hatti
gibi bir katman çökeltme hattina entegre edilebilmektedir.
Genel olarak, hat; alt katman elleçleme cihazlari, bir
çökeltme tesisi, optik kontrol cihazlari, yigilma cihazlari
içermektedir. Alt katmanlar, örnegin her bir cihazin veya her
bir kurulumun önünde sirayla konveyör silindirleri üzerinde
ilerlemektedir.
edilebilmektedir. Örnegin, özellikle atmosferin seyreltildigi
bir odada, özellikle 10-6 mbar ila 10-2 mbar arasinda bir
basinçta, lazer; katodik püskürtme yoluyla bir çökeltme
kurulumu odalarindan birine sokulabilmektedir. Isil islem
cihazi ayrica, söz konusu kurulumun içinde bulunan bir
altkatmani isleyecek sekilde çökeltme kurulumunun disina da
yerlestirilebilmektedir. Bu amaçla, kullanilan isinin dalga
boyunda seffaf bir pencere saglamak yeterlidir, bu sayede
lazer radyasyonu katmani islemektedir. Bu sekilde, ayni
kurulumda bir baska katmanin daha sonra çökeltilmesinden önce
bir katmanin da islenmesi mümkündür. Isil islem tercihen
lazerin bir ngnetron cihazina entegre edildigi bir sistemde
Tercihen, isil islem, magnetron cihazinin çökeltme odasi
içinde vakum altinda gerçeklestirilmektedir.
kristalizasyon isil islemi kizilötesi isin, bir plazma
mesalesi veya bir alev ile isitilarak da
gerçeklestirilebilmektedir.
Birim alan basina yüksek kuvvet elde edilmesini saglayan
odaklama cihaziyla iliskili kizilötesi lamba sistemleri de
(örnegin silindirik bir lens) kullanilabilmektedir.
Kristalizasyon isil islemi tercihen katodik püskürtme yoluyla
bir çökeltme odasina entegre edilen bir lazer islemidir.
Bulusa uygun saydam altkatmanlar tercihen cam, özellikle
siliko-sodo-kalsik olmak üzere sert bir mineral malzemedendir.
Altkatmanin kalinligi genel olarak 0,5 mm ila 19 mm arasinda
degisiklik göstermektedir. Altkatmanin kalinligi tercihen 6
mm'den düsük veya ona esit, hatta 4 mm'dir.
Kaplanan saydam altkatman, örnegin, lazer veya alevle tavlama
gibi flasla tavlama yoluyla tavlama, temperleme ve/veya
kavisleme arasindan seçilen yüksek sicaklikli bir isil isleme
maruz kalabilmektedir. Isil islemin sicakligi 400 °C'den,
tercihen 450 °C'den, ve hatta 500 °C'den yüksektir. Tüm yigin
üzerinde gerçeklestirilen bu isil islem, kristalizasyon isil
isleminden farklidir. Yöntem ayrica, ince katmanlardan olusan
yigin ile kaplanan altkatmanin 400 °C'den, tercihen 500 °C'den
yüksek bir isil isleme maruz birakildigi bir (c) adimi da
içerebilmektedir.
Yigin ile kaplanan altkatman, temperli ve/veya bombeli bir
camdir.
Malzeme; monolitik cam, lamine cam veya Özellikle çift veya
üçlü cam olmak üzere çoklu cam olabilmektedir.
Bulusun malzemesi, düsük direncin kilit bir parametre oldugu
gümüs katmanlar içeren düsük yayilimli bir yiginin kullanimini
gerektiren tüm uygulamalara uygundur.
Örnekler
Asagida tanimlanan ince katmanli yiginlar, 2 mm kalinliginda
berrak sodo-kalsik camdan altkatmanlar üzerine
yerlestirilmektedir.
Bu örnekler için, püskürtme (magnetron katodik püskürtme)
yoluyla yerlestirilen katmanlarin çökelme sartlari asagida
Tablo 1'de gösterilmektedir.
Yansima engelleyici dielektrik katman veya engelleme katmani
olarak yerlestirilen titan oksit katmanlar tamamen veya kismen
oksitlenebilmektedir. Bu amaçla, alt stokiyometrik TiOx
seramik bir hedefi kullanilmaktadir ve çökeltmeye ya tamamen
oksitlenmis bir TiOz katmani elde edilmesi için oksitleyici
atmosferde, ya da alt stokiyometrik bir katman elde etmek için
inert atmosferde devam edilmektedir.
Bazi örnekler için, çökeltme kuvvetini degistirerek
katmanlarin kalinliklari çesitlendirilebilmektedir.
Tablo lKullanilan Hedefler Çökeltme Gaz Endeks*
Ag Ag 8*1O"3 mbar Ar %100 -
at. atomik ; * : 550 nm'de.
Asagidaki tablolar, yiginin
pozisyonlari bakimindan yiginlari
tasiyici
olusturan
altkatmanina göre
bir katman
veya kaplamanin nanometre cinsinden (diger göstergeler hariç)
fiziksel kalinliklarini ve malzemelerini listelemektedir.
Cam KarsilastirmaliBulusa Uygun
Yansima engelleyici kaplamaNiO - - 10 10 1 1 5 5
Kristalizasyon isil islemi - hayir evet hayirevet hayir evethayir evet
Cam Karsilastirmali Bulusa Uygun
C2a C2b C3a C3b C5 A4a A4b A6
Yansima engelleyici kaplama NiO - - 10 10 - 1 l 1
KrisunizaswMIisilislemi - hayihayihayihayihayihayihayihayi
Bir kristalizasyon isil islemi, lazer islemi yoluyla
fonksiyonel katmanin çökeltilmesinden önce
gerçeklestirilebilmektedir. Asagidaki örnekler için, tüm
yiginin isil islemi de lazer islemi yoluyla
gerçeklestirilmektedir.
Camlar Karsilastirmali Bulusa Uygun
Engelleme katmani NiCr - 0,5 1 3 - - - - - -
Genisleme katmani NiO - - - - - - - 0,5 l 3
Asagidaki örnekler* için, tüni yiginin isil islemi, 10 dakika
boyunca 620 °C ila 680 °C'de bir temperleme simüle eden bir
Naber firininda gerçeklestirilmektedir.
Uzunluk ve kalinliga esit bir genislik numunesinin direncine
karsilik gelen kare basina direnç (qu) Napson'da
ölçülmektedir. Ilk deneme dizisi genisleme katmaninin tipinin
etkisini ve kristalizasyon seklini karsilastirmaktadir.
Asagidaki tabloda bir kristalizasyon isil islemine maruz kalan
ve kalmayan kaplanan altkatmanlar için elde edilen kare basina
direnç sonuçlari gösterilmektedir.
Nikel oksit bazli bir genisleme katmani içermeyen önceki
teknigin malzemesi üzerinde gümüs katmanin çökeltilmesinden
Önce gerçeklestirilen› bir kristalizasyon isil isleminin, kare
basina direnç üzerinde pozitif bir etkisi bulunmamaktadir.
Ala örnegi, gümüs katmanin çökeltilmesinden önce kristalize
olan veya az kristalize olan nikel oksit bir katman içeren bir
malzemeyi göstermektedir. Aslinda, bu katman, epitaksi yoluyla
bir kristalizasyona sebep olabilen bir katman üzerine
çökeltilmemektedir ve hiçbir kristalizasyon islemi
gerçeklestirilmemektedir. Bu nedenle, bu malzemenin kare
basina direnci yüksektir. Karsilastirmali olarak, bulusa uygun
Alb örnegi, kristalizasyon isil isleminin gümüs katmanin
çökeltilmesinden, önce gerçeklestirilmesi bakimindan, farklilik
göstermektedir. Bu malzemenin kare basina direnci, Ala'dan
düsüktür. Kristalize nikel oksit katmani kare basina direnç
degerlerinin düsmesini saglayabilmektedir.
A2a ve A3a örnekleri, gümüs katmanin çökeltilmesinden önce
kristalize nikel oksit bir katman içeren bulusa uygun
malzemeleri göstermektedir. Aslinda, nikel oksit katman,
epitaksi yoluyla bir kristalizasyona sebep olabilen çinko
oksit bir katman üzerine çökeltilmektedir. Kristalizasyon isil
islemi olmadan bu sekilde hazirlanan iki malzeme, düsük ve en
az sadece çinko oksit bazli bir katman içeren Cla nalzemesi
kadar bir kare basina dirence sahiptir. Ek bir kristalizasyon
isil islemi olmadan, çinko oksit bazli katman ve düsük
kalinlikli nikel oksit bazli katman sekansi içeren A2a katmani
için en iyi sonuçlarin elde edilmesinin ilginç oldugu
kaydedilmektedir.
Son olarak, A2b ve A3b örnekleri, gümüs katmanin
çökeltilmesinden önce kristalize nikel oksit bir katman içeren
bulusa uygun iki Inalzemeyi göstermektedir. Kristalizasyon ya
epitaksi yoluyla elde edilmektedir, çünkü nikel oksit katman,
bir kristalizasyona sebep olabikecek çinko oksit. bir katman
üzerine çökeltilmektedir, ya da bir lazer yardimiyla ek bir
kristalizasyon isil islemi ile elde edilmektedir. Bu sekilde
hazirlanan iki malzeme, düsük bir kare basina dirence ve
özellikle ek bir kristalizasyon isil islemi içermeyen A2a ve
A3a malzemelerine göre düsük bir kare basina dirence sahiptir.
Bu durum, kristalizasyonun hem epitaksi hem de isil islem ile
sinerjik etkisini kare basina düsük direnç degeri elde
edilmesi seklinde yansimaktadir. Son olarak, en iyi sonuçlar,
çinko oksit bazli bir katman ve düsük kalinlikli nikel oksit
bazli bir katman sekansi içeren A2b malzemesi için elde
edilmektedir.
Ikinci deneme dizisi, gümüs katmanin çökeltilmesinden önce
nikel oksit. bazli katmanin kristalizasyonunun önemini ortaya
koymaktadir. Asagidaki tabloda asagidaki özelliklere sahip
altkatmanlar için elde edilen kare basina direnç sonuçlari
gösterilmektedir:
- kristalizasyon isil islemine maruz kalmamis,
- tüm. yigin 'üzerinde gerçeklestirilen. bir isil isleme maruz
kalmis ya da kalmamis. Bunun için, tüm yigin üzerinde lazer
islemi gerçeklestirilmektedir.
Tüm yigin üzerinde gerçeklestirilen bir isil islem tüm
sartlarda kare basina direnç degerlerinin düsmesine neden
olmaktadir. Ancak, en düsük. kare basina direnç degerlerinin
nikel oksit bazli bir genisleme katmani içermeyen, ancak
sadece bir çinko oksit katmani içeren önceki teknigin
malzemesi için elde edildigi gözlenmektedir. Gümüs bazli
fonksiyonel katmanin, bu katmanin varligina bagli olarak
pozitif bir etki elde edilmesi için kristalize nikel oksit
bazli bir genisleme katmani üzerine çökeltilmesi
gerekmektedir. Gümüs katmanin çökeltilmesinden sonra bir isil
islem, sadece çinko oksit katmani içeren önceki teknigin bir
yiginina göre kare basina direnç bakimindan bir yükselme
olmasini saglamamaktadir.
Mekanik direnç, yigin olusturan katmanlarin birbirine uyumu
hakkinda bilgi veren bir soyulma testi ile
degerlendirilmektedir. Bu soyulma testi, isi ve basinç
uygulayarak bir PVB yapraginin yigin ile kaplanan altkatman
üzerine uygulanmasindan olusmaktadir. Yigin ile temas halinde
olacak sekilde yerlestirilen PVB katmani böylece bir ucundan
ayrilmaktadir ve 180 derecelik bir uygulama kuvveti açisi
altinda altkatmandan katlanmaktadir ve çekilmektedir. PVB
yapragini koparmak için gerekli olan kuvvet, katmanlarin
yigilmasi ve bir araya getirilmesi için PVB yapraginin adezyon
Ölçüsüdür.
Kopma kuvveti (N) 3,2 12,5
Bu denemeler, yüksek sicaklikli isil isleme maruz kalmamis
malzemeler üzerinde gerçeklestirilmistir. Gümüs katmanin
çökelmesinden önce kristalize nikel oksit katmanin varligi ile
iliskili olarak yiginin tamaminin daha iyi adezyon sagladigi
açikça ortaya koyulmustur. Gümüsün nikel oksit üzerine
mükemmel adezyonü, bir gümüs katmanin altinda ve temas halinde
kristalize nikel oksit. bazli bir katman içeren yiginin isil
isleminde daha iyi bir dayaniklilik elde edilmesini
saglamaktadir.
Üzerine yiginin yerlestirildigi 2 mm'lik bir cam içeren basit
camlar için, optik özellikler ölçülmüstür.
Bu denemeler, isil islemden Önce ve sonra engelleme ara
katmanlarinin cinsinin ve kalinliginin optik özellikler
üzerindeki etkisini göstermektedir.
Asagidaki özellikler ölçülmüs ve tabloda gruplanmistir:
isil islemden önce ve sonra EN 12898 standardina göre
hesaplanan yüzdelik cinsinden emisyon degerleri,
isil islemden önce emilim degerler (Abs) ve
isil islemden sonra ölçerek degerlendirilen bulaniklik.
Bulaniklik, Perkin-Elmer L9OO spektrometresinde ortalama
görünür yansima dagilimi ölçümü ile degerlendirilmistir.
Ölçüm, ölçümden speküler yansimayi hariç tutarak ve bulanik
olmayan bir referans örneginden alinan taban çizgisini
çikararak görünür alandaki yansimanin daginik kisminin
ortalamasindan olusmaktadir. Bir referans aynada ölçülen
toplam yansima yüzdesi olarak ifade edilmektedir.
Cam Isil islemden
önce Isil islemden sonra
8 % @bs % s % Bulaniklik %
l ila 10 camlari, gümüs bazli fonksiyonel katmanin altinda
bulunan yansima engelleyici kaplamada kalay ve çinko oksit
SnZnO) bazli dielektrik bir katman içermektedir. Bulus
sahipleri, yiginin bu cins ve konumdan bir katmaninin isil
islemden sonra kubbe tipli kusur olusumuna sebep oldugunu
kesfetmistir. Fonksiyonel katmanin altina yerlestirilen
engelleme katmaninin seçimi bu egilimi azaltmakta veya
arttirmaktadir.
Bir engelleme ara katmaninin eklenmesi temperlemeden önce
görünür sekilde emilimin artmasina neden olmaktadir. Ancak,
artis, oksit bazli bir engelleme katmani kullaniminda daha
zayiftir. Nikel ve krom bazli engelleme katmanlari emilimi
Düsük kalinlikli ve kristalize nikel oksit bazli bulusa uygun
bir katmanin eklenmesi, nikel ve krom bazli bir ara katmanin
eklenmesinin aksine isil islemden önce ve sonra emisyon
degerlerinde önemli bir degisiklige neden olmamaktadir.
bir ara katman ile elde edilene göre daha düsük bir emisyona
sahiptir. Düsük emisyon elde edilmesi, radyasyonla enerji
kayiplarinda azalma ve bu nedenle çift camin isil
performansinda bir artisa neden olmaktadir.
Aslinda, nikel ve krom alasimi bazli bir ara katman içeren
camlar dogru bulaniklik degerleri sunarken, emisyon ve emilim
bakimindan bulusun avantajli özelliklerini sunmamaktadir.
lnm kalinliga sahip kristalize oksit ve nikel bazli bir
engelleme katmaninin kullanilmasi, engelleme katmani olmayan
bir malzemeye göre önemli ölçüde bulaniklik azalmasina sebep
olmaktadir. Ayrica, bulanikligi en azindan siklikla kullanilan
0,5 nm nikel ve krom bazli bir bloklayici alt katmanla elde
edilene esdeger ölçüde azaltmaktadir. Ama her seyden önce,
bulusa uygun genisleme katmani, diger engelleme ara
katmanlarina göre, isil islemden önce bile, en düsük emilim ve
emisyon degerlerinin elde edilmesini saglamaktadir.
Claims (1)
- ISTEMLER Gümüs bazli en az bir fonksiyonel metal katman ve en az iki yansima engelleyici kaplama içeren, manyetik alan yardimli katodik püskürtme ile çökeltilen ince katmanli bir yigin ile kaplanan saydam bir altkatman içeren bir malzemenin üretim yöntemi olup, özelligi; her bir yansima engelleyici kaplamanin, her bir fonksiyonel metal katman iki yansima engelleyici kaplamanin arasina yerlestirilecek sekilde en az bir dielektrik katman içermesi ile ve yöntemin: (a)kristalize nikel oksit bazli en az bir ince katman içeren yansima engelleyici bir katmanin yerlestirilmesi, daha sonra (b)kristalize nikel oksit bazli ince katmanin üzerine ve temas halinde gümüs bazli en az bir fonksiyonel metal katmanin yerlestirilmesi adimlarini içermesidir. Istem l'e göre bir malzemenin üretim yöntemi olup, Özelligi; - epitaksi yoluyla bir kristalizasyona sebep olan bir katmanin yerlestirilmesi daha sonra - üzerine ve temas halinde nikel oksit bazli bir katman yerlestirilmesidir. .Istem 1 veya Z'ye göre bir malzemenin üretim yöntemi olup, özelligi; (a) adiminda: - kristalize çinko oksit bazli bir katmanin yerlestirilmesi daha sonra - üzerine ve temas halinde nikel oksit bazli bir katman yerlestirilmesidir. .Önceki istemlerden birine göre üretim yöntemi olup, özelligi; (a) adiminda: - kristalize veya kristalize olmayan nikel oksit bazli bir katmanin yerlestirilmesi daha sonra - kristalize veya kristalize olmayan nikel oksit bazli ince katmanin gümüs bazli fonksiyonel metal katmanin çökeltilmesinden önce kristalizasyon isil islemine maruz birakilmasidir. .Istem 4'e göre üretim yöntemi olup, özelligi; kristalizasyon isil isleminin kristalize veya kristalize olmayan nikel oksit bazli ince katmanin her noktasini 300°C'den yüksek veya esit bir sicakliga çikaracak bir enerji ile gerçeklestirilmesidir. .Önceki istemlerden birine göre bir malzemenin üretim yöntemi olup, özelligi; yiginin tüm katmanlarinin ve kristalizasyon isil isleminin katodik püskürtme yoluyla çökeltme odasinda gerçeklestirilmesidir. .Önceki istemlerden birine göre bir malzemenin üretim yöntemi olup, özelligi; (c) adiminda ince katmanli yigin ile kaplanan altkatmanin 400 °C'den yüksek, tercihen 500 °C bir isil isleme maruz birakilmasidir. .Her bir yansima engelleyici kaplamanin her bir metal katman iki yansima engelleyici kaplama arasina yerlestirilecek sekilde en az bir dielektrik katman içerdigi, en az iki yansima engelleyici kaplama, gümüs bazli en az bir fonksiyonel metal katman içeren ince katmanli bir yigin ile kaplanan bir saydam altkatman içeren bir malzeme olup, özelligi; yiginin, altkatmanin yüzeyine paralel olarak {200} kimyasal sinifa sahip olacak sekilde yönlendirilen çok sayida monokristalin tanecikleri içeren gümüs bazli fonksiyonel bir metal katmanin altina ve temas halinde konumlanan kristalize nikel oksit bazli en az bir katman içermesi ile karakterize edilir. .Istem 8'e göre malzeme olup, özelligi; altkatmanin yüzeyine paralel olarak {200} kimyasal sinifina sahip olacak sekilde yönlendirilen çok sayida monokristalin tanecik içeren gümüs bazli fonksiyonel katmanin altinda bulunan yansima engelleyici kaplamanin çinko ve kalay oksit bazli katmanlar arasindan seçilen kubbe tipli kusurlara sebep olabilecek dielektrik bir katman içermesi ile karakterize edilir. Isteni 8 ila 9'dan birine göre malzeme olup, özelligi; altkatmanin yüzeyine paralel olarak {200} kimyasal sinifina sahip olacak sekilde yönlendirilen çok sayida monokristalin tanecik içeren gümüs bazli fonksiyonel katmanin altinda bulunan yansima engelleyici kaplamanin kristalize nikel oksit bazli katmanin altinda ve temas halinde konumlanan çinko oksit bazli sabitleyici islevli dielektrik bir katman içermesi ile karakterize edilir. Isteni 8 ila lO'dan. birine göre malzeme olup, özelligi; kristalize nikel oksit bazli katmanin en az 0,5 nm, tercihen 0,8 ila 5 nm bir kalinliga sahip olmasi ile karakterize Isteni 8 ila ll'den. birine göre malzeme olup, özelligi; kristalize nikel oksit bazli katmanin 4 nm'den düsük, tercihen 3 nm'den düsük ve hatta 2 nm'den düsük bir kalinliga sahip olmasi ile karakterize edilir. Isteni 8 ila 12'den, birine göre !malzeme olup, özelligi; - çinko oksit bazli sabitleyici isleVli en az bir dielektrik katman ve çinko oksit bazli sabitleyici islevli dielektrik katman ile temas halinde konumlanan kristalize nikel oksit bazli en az bir katman içeren gümüs bazli fonksiyonel metal katmanin altinda bulunan yansima engelleyici bir kaplama, - nikel oksit bazli katman ile temas halinde konumlanan gümüs bazli metal bir katman, - istege bagli olarak bir engelleme üst katmani, - gümüs bazli fonksiyonel metal katmanin üzerinde bulunan yansima engelleyici bir kaplama, - istege bagli olarak bir üst koruma katmani içermesi ile karakterize edilir. Isteni 8 ila l3'ten. birine göre malzeme olup, özelligi; yiginin en azindan kaplanan altkatmaninin temperlenen ve/Veya kavislenen bir cam olmasi ile karakterize edilir. Isteni 8 ila 14'ten, birine göre malzeme olup, özelligi; altkatmanin özellikle siliko-sodo-kalsik olmak üzere cam olmasidir.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1454860A FR3021649B1 (fr) | 2014-05-28 | 2014-05-28 | Materiau comprenant une couche fonctionnelle a base d'argent cristallisee sur une couche d'oxyde de nickel |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TR201815043T4 true TR201815043T4 (tr) | 2018-11-21 |
Family
ID=51483619
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TR2018/15043T TR201815043T4 (tr) | 2014-05-28 | 2015-05-27 | Bir nikel oksit katmanı üzerinde kristalize gümüş bazlı fonksiyonel bir katman içeren malzeme. |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10099958B2 (tr) |
EP (1) | EP3148949B1 (tr) |
JP (1) | JP6646590B2 (tr) |
KR (1) | KR20170010365A (tr) |
CN (1) | CN106414357B (tr) |
EA (1) | EA032821B1 (tr) |
ES (1) | ES2691396T3 (tr) |
FR (1) | FR3021649B1 (tr) |
PL (1) | PL3148949T3 (tr) |
PT (1) | PT3148949T (tr) |
TR (1) | TR201815043T4 (tr) |
WO (1) | WO2015181500A1 (tr) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20190043640A1 (en) * | 2017-08-04 | 2019-02-07 | Vitro Flat Glass, LLC | Protective Layer Over a Functional Coating |
FR3088633B1 (fr) * | 2018-11-16 | 2021-04-30 | Saint Gobain | Materiau traite thermiquement a proprietes mecaniques ameliorees |
JP7256583B2 (ja) | 2019-02-15 | 2023-04-12 | 日本化薬株式会社 | 熱線遮蔽構造体、透明基材用中間膜及び合わせガラス |
JP7476898B2 (ja) * | 2019-07-25 | 2024-05-01 | Agc株式会社 | 積層体および積層体の製造方法 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3073327B2 (ja) * | 1992-06-30 | 2000-08-07 | キヤノン株式会社 | 堆積膜形成方法 |
US6445503B1 (en) * | 2000-07-10 | 2002-09-03 | Guardian Industries Corp. | High durable, low-E, heat treatable layer coating system |
US6576349B2 (en) * | 2000-07-10 | 2003-06-10 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable low-E coated articles and methods of making same |
US6689476B2 (en) * | 2001-06-27 | 2004-02-10 | Guardian Industries Corp. | Hydrophobic coating including oxide of Ni and/or Cr |
FR2827855B1 (fr) * | 2001-07-25 | 2004-07-02 | Saint Gobain | Vitrage muni d'un empilement de couches minces reflechissant les infrarouges et/ou le rayonnement solaire |
US20030049464A1 (en) * | 2001-09-04 | 2003-03-13 | Afg Industries, Inc. | Double silver low-emissivity and solar control coatings |
US6942923B2 (en) * | 2001-12-21 | 2005-09-13 | Guardian Industries Corp. | Low-e coating with high visible transmission |
US6586102B1 (en) * | 2001-11-30 | 2003-07-01 | Guardian Industries Corp. | Coated article with anti-reflective layer(s) system |
US7597962B2 (en) * | 2005-06-07 | 2009-10-06 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with IR reflecting layer and method of making same |
JP2007058194A (ja) * | 2005-07-26 | 2007-03-08 | Tohoku Univ | 高反射率可視光反射部材及びそれを用いた液晶ディスプレイバックライトユニット並びに高反射率可視光反射部材の製造方法 |
DE102006014796B4 (de) * | 2006-03-29 | 2009-04-09 | Saint-Gobain Glass Deutschland Gmbh | Thermisch hoch belastbares Low-E-Schichtsystem für transparente Substrate |
FR2911130B1 (fr) | 2007-01-05 | 2009-11-27 | Saint Gobain | Procede de depot de couche mince et produit obtenu |
FR2946639B1 (fr) * | 2009-06-12 | 2011-07-15 | Saint Gobain | Procede de depot de couche mince et produit obtenu. |
RU2563527C2 (ru) * | 2009-11-19 | 2015-09-20 | Сантр Люксамбуржуа Де Решерш Пур Ле Верр Э Ля Серамик С.А. (С.Р.В.С.) | Изделие с энергосберегающим покрытием бронзового цвета |
US8445111B2 (en) * | 2010-10-14 | 2013-05-21 | Guardian Industries Corp. | Gadolinium oxide-doped zirconium oxide overcoat and/or method of making the same |
FR2969391B1 (fr) * | 2010-12-17 | 2013-07-05 | Saint Gobain | Procédé de fabrication d'un dispositif oled |
US20130108862A1 (en) * | 2011-10-26 | 2013-05-02 | Mohd Fadzli Anwar Hassan | Low-E Panel with Improved Layer Texturing and Method for Forming the Same |
US20130319847A1 (en) * | 2012-06-05 | 2013-12-05 | Intermolecular, Inc. | METHODS AND APPARATUSES FOR LOW RESISTIVITY Ag THIN FILM USING COLLIMATED SPUTTERING |
US9243321B2 (en) * | 2013-12-30 | 2016-01-26 | Intermolecular, Inc. | Ternary metal nitride formation by annealing constituent layers |
-
2014
- 2014-05-28 FR FR1454860A patent/FR3021649B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2015
- 2015-05-27 WO PCT/FR2015/051403 patent/WO2015181500A1/fr active Application Filing
- 2015-05-27 PL PL15732814T patent/PL3148949T3/pl unknown
- 2015-05-27 ES ES15732814.7T patent/ES2691396T3/es active Active
- 2015-05-27 EA EA201692354A patent/EA032821B1/ru not_active IP Right Cessation
- 2015-05-27 EP EP15732814.7A patent/EP3148949B1/fr active Active
- 2015-05-27 TR TR2018/15043T patent/TR201815043T4/tr unknown
- 2015-05-27 JP JP2016569408A patent/JP6646590B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2015-05-27 KR KR1020167032715A patent/KR20170010365A/ko not_active Application Discontinuation
- 2015-05-27 PT PT15732814T patent/PT3148949T/pt unknown
- 2015-05-27 CN CN201580027561.3A patent/CN106414357B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2015-05-27 US US15/313,773 patent/US10099958B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2018
- 2018-08-21 US US16/107,402 patent/US20180354847A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20170190611A1 (en) | 2017-07-06 |
PL3148949T3 (pl) | 2019-01-31 |
PT3148949T (pt) | 2018-11-14 |
JP2017516918A (ja) | 2017-06-22 |
US20180354847A1 (en) | 2018-12-13 |
ES2691396T3 (es) | 2018-11-27 |
CN106414357B (zh) | 2019-07-09 |
FR3021649A1 (fr) | 2015-12-04 |
EA201692354A1 (ru) | 2017-04-28 |
WO2015181500A1 (fr) | 2015-12-03 |
JP6646590B2 (ja) | 2020-02-14 |
FR3021649B1 (fr) | 2016-05-27 |
CN106414357A (zh) | 2017-02-15 |
EA032821B1 (ru) | 2019-07-31 |
KR20170010365A (ko) | 2017-01-31 |
EP3148949A1 (fr) | 2017-04-05 |
EP3148949B1 (fr) | 2018-07-25 |
US10099958B2 (en) | 2018-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101982357B1 (ko) | 코팅이 제공된 기판의 획득 방법 | |
CN103003214B (zh) | 获得包含带涂层的基底的材料的方法 | |
US9410359B2 (en) | Low-e panels and methods for forming the same | |
EP3661885B1 (en) | Protective layer over a functional coating | |
US10942302B2 (en) | Solar mirrors and methods of making solar mirrors having improved properties | |
TR201815043T4 (tr) | Bir nikel oksit katmanı üzerinde kristalize gümüş bazlı fonksiyonel bir katman içeren malzeme. | |
DK2969993T3 (en) | PROCEDURE FOR GENERATING LOW ENERGY ENERGY COATING WITH HIGH USE OF DAY LIGHT AND OF THE SAME COLOR AFTER HEAT TREATMENT | |
US20160122235A1 (en) | Low-E Panels and Methods of Forming the Same | |
KR20150141928A (ko) | 최적의 기저층 재료 및 층 스택을 갖는 개선된 저 방사율 코팅 | |
RU2721607C2 (ru) | Барьер из сплава ниобий-никель-титан для покрытий с низкой излучательной способностью | |
WO2014165202A1 (en) | New design for improving color shift of high lsg low emissivity coating after heat treatment | |
CN110128028A (zh) | 一种用于真空紫外波段的铝基高反射镜的制备方法 | |
US9416049B2 (en) | Low-e panels and methods for forming the same | |
EP3661884B1 (en) | Transparent conductive oxide having an embedded film | |
TR202101223A2 (tr) | Yüksek geçi̇rgen özelli̇kte, mekani̇k dayanimi arttirilmiş çi̇ft gümüş i̇çeren bi̇r low-e kaplama | |
US9296650B1 (en) | Low-E panels and methods for forming the same | |
US20170137320A1 (en) | Method for obtaining a material comprising a functional layer made from silver resistant to a high-temperature treatment | |
EP3137430B1 (en) | Temperature resistant coating system with tiox layer on a transparent substrate | |
JP2509925C (tr) |