TH99866B - Silver plated products and the same manufacturing methods - Google Patents

Silver plated products and the same manufacturing methods

Info

Publication number
TH99866B
TH99866B TH802001849F TH0802001849F TH99866B TH 99866 B TH99866 B TH 99866B TH 802001849 F TH802001849 F TH 802001849F TH 0802001849 F TH0802001849 F TH 0802001849F TH 99866 B TH99866 B TH 99866B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
silver
plating solution
plated products
manufacturing methods
same manufacturing
Prior art date
Application number
TH802001849F
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH99866S (en
TH174365A (en
TH36057S1 (en
Inventor
เชียร์สบี แอนโตเนีย เฮย์วาร์ด นิกกี้ ทริกก์ส วิลล์ พาร์ อีแวน ดักลิส เกรแฮม
ชุนกิ
ซาดาโมริ
มิยาซาวะ
ฮิโรชิ
Original Assignee
ชีวาส โฮลดิ้งส์ (ไอพี) ลิมิเต็ด
โดวะ เมตอลเทค โค
Filing date
Publication date
Publication of TH99866S publication Critical patent/TH99866S/en
Publication of TH36057S1 publication Critical patent/TH36057S1/en
Application filed by ชีวาส โฮลดิ้งส์ (ไอพี) ลิมิเต็ด, โดวะ เมตอลเทค โค filed Critical ชีวาส โฮลดิ้งส์ (ไอพี) ลิมิเต็ด
Publication of TH174365A publication Critical patent/TH174365A/en
Publication of TH99866B publication Critical patent/TH99866B/en

Links

Abstract

OCR ผลิตภัณฑ์ที่ชุบด้วยโลหะเงินจะถูกผลิตขึ้นโดยการสร้างชั้นผิวหน้าที่เป็น โลหะเงินขึ้นบน วัสดุฐานโดยการชุบด้วยกระบวนการเคมีไฟฟ้าที่อุณหภูมิของเหลว 10 ถึง 35องศาเซลเซียล และความหนาแน่น ของกระแส 3 ถึง 15 A/am2 ในสารละลายที่ใช้ชุบโลหะเงินเพื่อให้เป็นไปตาม (32.6x -300)น้อยกว่าหรือเท่ากับ y น้อยกว่าหรือเท่ากับ (32.6x + 200) โดยตั้งเงื่อนไขว่าเป็นผลิตภัณฑ์ที่มีความเข้มข้นของโปแตสเซียมไซยาไนด์ในสารละลาย ที่ใช้ชุบโลหะเงินและความหนาแน่นของกระแสจะเป็น y (g'A/L'dm2) และอุณหภูมิของเหลวของ สารละลายที่ใช้ชุบโลทะเงินจะเป็น x (องศาเซลเซียล) โดยที่สารละลายที่ใช้ชุบโลหะเงินนั้นจะมีโลหะเงิน 80 ถึง 110 กรัม/ลิตร, โปแตสเซียมไซยาไนด์ 70 ถึง 160 กรัม/ลิตร และซีลิเนียม 55 ถึง 70 มิลลิกรัม/ลิตรOCR Silver-plated products are produced by depositing a silver surface layer on the base material by electrochemical plating at a liquid temperature of 10 to 35°C and a current density of 3 to 15 A/am2 in the silver plating solution to be less than or equal to (32.6x -300) y less than or equal to (32.6x + 200) stipulated that the product has a potassium cyanide concentration in the silver plating solution and the current density is y (g'A/L'dm2) and the liquid temperature of the silver plating solution is x (degrees Celsius). The silver plating solution contains 80 to 110 g/L silver, 70 to 160 g/L potassium cyanide and 55 to 70 mg/L selenium.

TH802001849F 2016-01-15 Silver plated products and the same manufacturing methods TH99866B (en)

Publications (4)

Publication Number Publication Date
TH99866S TH99866S (en) 2010-01-27
TH36057S1 TH36057S1 (en) 2013-07-04
TH174365A TH174365A (en) 2018-03-15
TH99866B true TH99866B (en) 2024-03-28

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MX2017009746A (en) Silver-plated member and method for manufacturing same.
Kang et al. Bioelectronics with two-dimensional materials
PH12015502726A1 (en) Method for producing plated laminate, and plated laminate
EP2586893A3 (en) Copper plating bath and method
PH12016501675B1 (en) Foil-based metallization of solar cells
PH12015502834A1 (en) Method for producing plated material, and plated material
GB2508749A (en) Microstructure modification in copper interconnect structures
JP2014187002A5 (en)
RU2015112322A (en) ELASTIC CONDUCTIVE FILM BASED ON SILVER NANOPARTICLES
MX367729B (en) Button or fastener member of copper-plated aluminum or aluminum alloy and method of production thereof.
IN2014KN01179A (en)
EP2514856A3 (en) Plating of copper on semiconductors
PH12016502437A1 (en) Solar cell and method for producing solar cell
JP2016517183A5 (en)
MY174906A (en) Al-based alloy plated steel material having excellent post-coating corrosion resistance
MX2016001847A (en) Multi-layered coating film formation method.
TH99866B (en) Silver plated products and the same manufacturing methods
JP2012216765A5 (en)
TH174365A (en) Silver plated products and the same manufacturing methods
WO2013068853A3 (en) Aligned networks on substrates
EA201800032A1 (en) METHOD OF ELECTROCHEMICAL PREPARATION OF COMPOSITIONAL MATERIAL GRAPHEN-NANOPARTICLES CO / CoO
TW201612917A (en) Method for producing conductive coating film, and conductive coating film
FR2974450B1 (en) INTEGRATION OF A 2D METAL OXIDE LAYER ON A CONDUCTIVE PLASTIC SUBSTRATE
TWD180126S (en) sealing ring
BR112017023379A2 (en) multilayer friction bearing and manufacturing method