TH99866B - ผลิตภัณฑ์ที่ชุบด้วยโลหะเงินและวิธีการผลิตสิ่งเดียวกันนั้น - Google Patents

ผลิตภัณฑ์ที่ชุบด้วยโลหะเงินและวิธีการผลิตสิ่งเดียวกันนั้น

Info

Publication number
TH99866B
TH99866B TH802001849F TH0802001849F TH99866B TH 99866 B TH99866 B TH 99866B TH 802001849 F TH802001849 F TH 802001849F TH 0802001849 F TH0802001849 F TH 0802001849F TH 99866 B TH99866 B TH 99866B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
silver
plating solution
plated products
manufacturing methods
same manufacturing
Prior art date
Application number
TH802001849F
Other languages
English (en)
Other versions
TH99866S (th
TH36057S1 (th
TH174365A (th
Inventor
เชียร์สบี แอนโตเนีย เฮย์วาร์ด นิกกี้ ทริกก์ส วิลล์ พาร์ อีแวน ดักลิส เกรแฮม
ชุนกิ
ซาดาโมริ
มิยาซาวะ
ฮิโรชิ
Original Assignee
ชีวาส โฮลดิ้งส์ (ไอพี) ลิมิเต็ด
โดวะ เมตอลเทค โค
Filing date
Publication date
Publication of TH99866S publication Critical patent/TH99866S/th
Publication of TH36057S1 publication Critical patent/TH36057S1/th
Application filed by ชีวาส โฮลดิ้งส์ (ไอพี) ลิมิเต็ด, โดวะ เมตอลเทค โค filed Critical ชีวาส โฮลดิ้งส์ (ไอพี) ลิมิเต็ด
Publication of TH174365A publication Critical patent/TH174365A/th
Publication of TH99866B publication Critical patent/TH99866B/th

Links

Abstract

OCR ผลิตภัณฑ์ที่ชุบด้วยโลหะเงินจะถูกผลิตขึ้นโดยการสร้างชั้นผิวหน้าที่เป็น โลหะเงินขึ้นบน วัสดุฐานโดยการชุบด้วยกระบวนการเคมีไฟฟ้าที่อุณหภูมิของเหลว 10 ถึง 35องศาเซลเซียล และความหนาแน่น ของกระแส 3 ถึง 15 A/am2 ในสารละลายที่ใช้ชุบโลหะเงินเพื่อให้เป็นไปตาม (32.6x -300)น้อยกว่าหรือเท่ากับ y น้อยกว่าหรือเท่ากับ (32.6x + 200) โดยตั้งเงื่อนไขว่าเป็นผลิตภัณฑ์ที่มีความเข้มข้นของโปแตสเซียมไซยาไนด์ในสารละลาย ที่ใช้ชุบโลหะเงินและความหนาแน่นของกระแสจะเป็น y (g'A/L'dm2) และอุณหภูมิของเหลวของ สารละลายที่ใช้ชุบโลทะเงินจะเป็น x (องศาเซลเซียล) โดยที่สารละลายที่ใช้ชุบโลหะเงินนั้นจะมีโลหะเงิน 80 ถึง 110 กรัม/ลิตร, โปแตสเซียมไซยาไนด์ 70 ถึง 160 กรัม/ลิตร และซีลิเนียม 55 ถึง 70 มิลลิกรัม/ลิตร
TH802001849F 2016-01-15 ผลิตภัณฑ์ที่ชุบด้วยโลหะเงินและวิธีการผลิตสิ่งเดียวกันนั้น TH99866B (th)

Publications (4)

Publication Number Publication Date
TH99866S TH99866S (th) 2010-01-27
TH36057S1 TH36057S1 (th) 2013-07-04
TH174365A TH174365A (th) 2018-03-15
TH99866B true TH99866B (th) 2024-03-28

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MX2017009746A (es) Producto revestido con plata y metodo para producir el mismo.
Kang et al. Bioelectronics with two-dimensional materials
Jin et al. Development of CVD Ti-containing films
PH12016501675A1 (en) Foil-based metallization of solar cells
JP2012517690A5 (th)
PH12015502834A1 (en) Method for producing plated material, and plated material
GB2508749A (en) Microstructure modification in copper interconnect structures
RU2015112322A (ru) Эластичная проводящая пленка на основе наночастиц серебра
EP2514856A3 (en) Plating of copper on semiconductors
PH12016502437A1 (en) Solar cell and method for producing solar cell
IN2014DE02341A (th)
JP2016517183A5 (th)
MY174906A (en) Al-based alloy plated steel material having excellent post-coating corrosion resistance
JP2016013995A5 (th)
TW201614678A (en) Silver-coated copper powder and method for producing same
TH174365A (th) ผลิตภัณฑ์ที่ชุบด้วยโลหะเงินและวิธีการผลิตสิ่งเดียวกันนั้น
EP4636138A3 (en) Electrical contact material, method of producing an electrical contact material, and terminal
WO2013068853A3 (en) Aligned networks on substrates
BR112017023379A2 (pt) mancal de atrito de multicamadas e método de fabricação
FR2974450B1 (fr) Intégration d'une couche 2d d'oxyde métallique sur un substrat plastique conducteur
TWD180126S (zh) 密封環
TR202111171A2 (tr) Sivi bazli ürünleri̇ kurutma maki̇nasi ve yöntemi̇
Drew et al. Surface Force Measurements between Titanium Dioxide Surfaces Prepared by Atomic Layer Deposition in Electrolyte Solutions Reveal Non-DLVO Interactions: Influence of Water and Argon Plasma Cleaning
RU2014136250A (ru) Способ получения покрытия для электрического контакта
TW201613429A (en) Copper-clad laminate and circuit substrate