TH9846EX - A method for preparing a vapor reactor used in chemical vapor coatings. - Google Patents

A method for preparing a vapor reactor used in chemical vapor coatings.

Info

Publication number
TH9846EX
TH9846EX TH9001001521A TH9001001521A TH9846EX TH 9846E X TH9846E X TH 9846EX TH 9001001521 A TH9001001521 A TH 9001001521A TH 9001001521 A TH9001001521 A TH 9001001521A TH 9846E X TH9846E X TH 9846EX
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
liquid
source
coating
vapor
substance
Prior art date
Application number
TH9001001521A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH8527B (en
TH9846A (en
Inventor
นายริชาร์ด เจ. แม๊คคูร์ดี่ย์ นายไมเคิล เจ. เซ้าเบย์แรนด์
Original Assignee
ลิบเบย์โอเวนส์ฟอร์ด โค
Filing date
Publication date
Application filed by ลิบเบย์โอเวนส์ฟอร์ด โค filed Critical ลิบเบย์โอเวนส์ฟอร์ด โค
Publication of TH9846A publication Critical patent/TH9846A/en
Publication of TH9846EX publication Critical patent/TH9846EX/en
Publication of TH8527B publication Critical patent/TH8527B/en

Links

Abstract

ในการประดิษฐ์นี้มีการเตรียมสารเข้าทำปฏิกิริยาที่กลายเป็นไอซึ่งมีประโยชน์ในการเคลือบด้วยไอสารเคมีลงบนผิววัสดุรองรับที่กำลังร้อนโดยเริ่มต้นด้วยการให้ความร้อนแก่สารต้นกำเนิดของสารเคลือบที่เป็นของเหลว, การฉีดสารต้นกำเนิดของสารเคลือบที่เป็นของเหลวเข้าไปในช่องทำให้สาร กลายเป็นไอ,การปล่อยก๊าซผสมเข้าสู่ช่องทำให้สารกลายเป็นไอพร้อมกัน, การให้ความร้อนแก่ของเหลว และก๊าซผสมจนทำให้ของเหลวกลายเป็นไอ ที่อุณหภูมิต่ำกว่าอุณหภูมิกลายเป็นไอมาตรฐานของสารนั้น และการผสมไอสารต้นกำเนิดของสารเคลือบและก๊าซผสมให้ทั่วถึง เพื่อผลิตกระแสสารเข้าทำปฏิกิริยาที่กลายเป็นไอสำหรับทำให้เกิดการสลายด้วยความร้อนที่ผิวของวัสดุรองรับที่กำลังร้อนเครื่องระเหยแบบแผ่นบางในแนวนอน เป็นช่องทำให้สารกลายเป็นไอชนิดที่เหมาะสมเป็นพิเศษสำหรับกระบวนการของการประดิษฐ์นี้ In this invention, a vaporized reagent, which is useful in chemical vapor coatings, is applied to the hot substrate, beginning by heating the source of the coating as Liquid, injecting the source of the liquid coating into the cavity Vaporization, simultaneous release of mixed gases into the channels causing the substance to vaporize, liquid heating And the gas is mixed until the liquid is vaporized. At a temperature below the standard vaporization temperature of that substance And mixing the source of the coating and gas mixture thoroughly To produce a stream of reactive vapor for thermal decomposition on the surface of the hot substrate, horizontal thin-plate evaporators. It is a vaporizer compartment specially suitable for this invention process.

Claims (1)

1. กระบวนการสำหรับเตรียมสารเข้าทำปฏิกิริยาในรูปไอ ที่ประกอบด้วยขั้นตอนของ A) การจัดหาสารต้นกำเนิดของสารเคลือบที่อุณหภูมิสูงกว่าจุดหลอมเหลวของสารนั้นแต่ต่ำกว่าอุณหภูมิกลายเป็นไอมาตรฐานของสารนั้นอย่างแน่แท้ โดยวิธีนี้จะทำให้สารต้นกำเนิดของสารเคลือบอยู่ในรูปของเหลว B) การดำเนินขั้นตอนต่อไปนี้พร้อมกันไปและอย่างต่อเนื่อง &nbs1. The process for preparing a reaction in vapor form. The process of A) supplies the source of the coating at a temperature higher than the melting point of that substance, but significantly lower than the standard vaporization temperature of that substance. In this way, the source of the coating is liquided. B) Perform the following steps simultaneously and continuously & nbs.
TH9001001521A 1990-10-16 A method for preparing a vapor reactor used in chemical vapor coatings. TH8527B (en)

Publications (3)

Publication Number Publication Date
TH9846A TH9846A (en) 1991-11-01
TH9846EX true TH9846EX (en) 1991-11-01
TH8527B TH8527B (en) 1998-10-30

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ATE133147T1 (en) METHOD FOR PREPARING VAPOR REAGENTS FOR CHEMICAL DEPOSITION FROM THE VAPOR PHASE
CA2269862C (en) Apparatus and process for controlled atmosphere chemical vapor deposition
ATE342154T1 (en) CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND POWDER FORMATION USING A THERMAL SPRAY METHOD FROM NEAR SUPERKITIC AND SUPERCRITICAL LIQUID SOLUTIONS
US4705694A (en) Process for making bioactive coatings on osseous prostheses, and prostheses thus obtained
CN108059484A (en) The method of growing semiconductor crystal silica crucible plating boron nitride film
JPS57158370A (en) Formation of metallic thin film
US6089548A (en) Process and device for converting a liquid stream flow into a gas stream flow
ATE79418T1 (en) PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF COATINGS FROM AN OXIDE CERAMIC SUPERCONDUCTOR MATERIAL ON A SUBSTRATE USING CVD PROCESS.
TH9846EX (en) A method for preparing a vapor reactor used in chemical vapor coatings.
US5521001A (en) Carbide formed on a carbon substrate
GB1031519A (en) Method of producing vapours of controlled composition
JPH06115913A (en) Synthesis of boron carbonitride
JP2938461B2 (en) Liquefiable raw material introduction method to CVD equipment
Domrachev et al. The Formation of Inorganic Coatings in the Decomposition of Organometallic Compounds
JPS5676240A (en) Quartz reaction tube for treatment of semiconductor
Sokolowska Plasma Assistant CVD Processes for Hard Layers.(Retroactive Coverage)
López et al. Incorporation of potassium into graphitic films by chemical vapour deposition
TH9846A (en) A method for preparing a vapor reactor used in chemical vapor coatings.
TH8527B (en) A method for preparing a vapor reactor used in chemical vapor coatings.
JPS5554562A (en) Vapor deposition method
JPS6362881A (en) Plasma chemical vapor deposition using metal alcoholate
JPS64733A (en) Film formation method and device thereof