DC60 (13/07/54) การปฏิบัติซับสเตรตของเวเฟอร์ซิลิกอนชนิดผลึกเดี่ยวหรือชนิดหลายผลึกหรือชนิดอสัณฐาน แบบฟิล์มบางสำหรับการใช้ในโฟโตวอลเทอิกเซลล์, ซึ่งซับสเตรตของเวเฟอร์มีอย่างน้อยที่สุดหนึ่ง อย่างของ จุดต่อ pn หรือ np และชั้นแก้วฟอสโฟซิลิเกตหรือบอโรซิลิเกตบางส่วนบนพื้นผิวบนสุดของ ซับสเตรตของเวเฟอร์, เพื่้อเพิ่มอย่างน้อยที่สุดหนึ่งข้อของ (a) ความต้านทานของแผ่นของเวเฟอร์ และ (b) ระดับความหนาแน่นกำลังของโฟโตวอลเทอิกเซลล์ที่ทำจากเวเฟอร์ดังกล่าว สารละลายสำหรับ การปฏิบัติซึ่งเป็นสารละลายสำหรับการปฏิบัติชนิดกรดของสารละลายสำหรับการกัดขึ้นรอยชนิด ออกไซด์ที่ผ่านการทำให้เป็นบัฟเฟอร์ (BOE) ซึ่งมีเตตระแอลคิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์อย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิด, กรดแอซีติก, สารลดแรงตึงผิวชนิดนอน-ไอออนิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด, ตัวคีเลต ชนิดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด, แหล่งที่ปราศจากโลหะของแอมโมเนีย, แหล่งที่ปราศจากโลหะ ของฟลูออไรด์ไอออน และน้ำ ซึ่งผสมกับสารละลายของตัวออกซิไดส์ และอาจเลือกให้ น้ำDC60 (13/07/54) Treatment of a thin film monocrystalline, polycrystalline or amorphous silicon wafer substrate for use in a photovoltaic cell, wherein the wafer substrate has at least one pn or np junction and a partial phosphosilicate or borosilicate glass layer on the top surface of the wafer substrate, to increase at least one of (a) the sheet resistance of the wafer and (b) the power density level of the photovoltaic cell made from such wafer. The solution for the treatment, which is an acidic solution of a buffered oxide etching (BOE) solution containing at least one tetraalkyl ammonium hydroxide, acetic acid, at least one non-ionic surfactant, at least one metal chelating agent, a metal-free source of ammonia, a metal-free source. of fluoride ions and water, which are mixed with a solution of an oxidizing agent and may be selected to be water.
Claims (1)
1. วิธีการดำเนินการกับชุดติดตั้งลิฟต์ (10) - ซึ่งมีตู้ลิฟต์ตู้บน (A1) อย่างน้อยหนึ่งตู้ และตู้ลิฟต์ตู้ล่าง (A2) อย่างน้อยหนึ่งตู้ ซึ่งทั้งสองตู้ เคลื่อนที่ได้ ซึ่งโดยส่วนสำคัญแล้ว อย่างเป็นอิสระในแนวดิ่ง ในปล่องลิฟต์ร่วม (11) ของชุดติดตั้ง ลิฟต์ (10) - ซึ่งมีกลไกสับเปลี่ยนเชิงกลไฟฟ้าชุดที่หนึ่ง (21) ที่จัดไว้ในบริเวณด้านล่างของตู้ลิฟต์ตู้บน (A1) ที่ซึ่งกลไกสับเปลี่ยนเชิงกลไฟฟ้าชุดที่หนึ่ง (21) ประกอบรวมด้วย น้ำหนักถ่วง (23) ที่ผูกยึดไว้ กับวัสดุเส้นยาว (24) ซึ่งแรงจากน้1.How to proceed with the elevator installation kit (10) - which has at least one upper elevator cabinet (A1). And at least one lower elevator cabinet (A2) In which both cabinets Movable Which is mainly Independently In the common elevator shaft (11) of the elevator installation unit (10) - which has the first electromechanical interchange mechanism (21) arranged in the area below the upper elevator cabinet (A1) where the electromechanical interchange mechanism The first (21) consists of a weights (23) that are bound to a long material (24), which forces from the water.
TH701004480A2010-01-11
Solution for increasing the resistance of wafers and/or the power density of photovoltaic cells.
TH93447B
(en)