TH91500B - ซับสเตรตแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล, วิธีการผลิตซับสเตรท, ตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็กซึ่งใช้ซับสเตรตนี้ และวิธีการผลิตตัวกลาง - Google Patents

ซับสเตรตแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล, วิธีการผลิตซับสเตรท, ตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็กซึ่งใช้ซับสเตรตนี้ และวิธีการผลิตตัวกลาง

Info

Publication number
TH91500B
TH91500B TH801001624A TH0801001624A TH91500B TH 91500 B TH91500 B TH 91500B TH 801001624 A TH801001624 A TH 801001624A TH 0801001624 A TH0801001624 A TH 0801001624A TH 91500 B TH91500 B TH 91500B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
substrate
rmax
recording medium
surface roughness
producing
Prior art date
Application number
TH801001624A
Other languages
English (en)
Other versions
TH91500A (th
Inventor
ทสึโยชิวาทานาเบ นาย โคจิทาคาฮาชิ นาย มาซาโอทาคาโน นาย
Original Assignee
โฮยา คอร์ปอเรชั่น โฮยา คอร์ปอเรชั่น
Filing date
Publication date
Publication of TH91500A publication Critical patent/TH91500A/th
Publication of TH91500B publication Critical patent/TH91500B/th
Application filed by โฮยา คอร์ปอเรชั่น โฮยา คอร์ปอเรชั่น filed Critical โฮยา คอร์ปอเรชั่น โฮยา คอร์ปอเรชั่น

Links

Abstract

ในตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก, ความหยาบผิวหน้าของซับสเตรตแก้ว และการแปรเปลี่ยนของ ความหยาบผิวหน้าที่ได้รับการยับยั้ง โดยกล่าวคือ ความหยาบผิวหน้า (Rmax, Ra, Rq) และความสัมพันธ์ (Rmax/Ra) ระหว่าง Rmax และ Ra ที่ถูกจำกัด โดย Ra แสดงให้เห็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวตรงกลาง Rmaxที่ ได้รับการกำหนดตามความสูงสูงสุด ที่แสดงให้เห็นความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุด และจุดต่ำสุดและ Rq แสดง ให้เห็นความหยาบรากกำลังสองเฉลี่ย ด้วยเหตุนี้ เม็ดขนาดเล็กของผลึกของชิ้นวางที่อยู่ด้านล่าง และชั้นแม่เหล็ก ที่ถูกสร้างให้เท่ากันไว้บนนั้น ความหยาบผิวหน้าถูกกำหนดเฉพาะโดย Rmax (สูตร)15 nm, Ra(สูตร)1 nm และ Rq(สูตร)1.5 nm และอัตราส่วนระหว่างความหยาบผิวหน้า Rmax และความหยาบผิวหน้า Ra อยู่ในช่วง 10-30

Claims (1)

1. วิธีการของการผลิตซับสเตรตแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล ประกอบด้วยขั้นตอน ของ การขัดมันตามขั้นตอนการขัดมันที่หนึ่ง ซับสเตรตแก้วดังกล่าวโดยการใช้ของเหลว การขัดมันที่หนึ่งประกอบด้วย เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่หนึ่ง เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่ หนึ่งที่มีขนาดเต็มขนาดเล็กที่หนึ่งอยู่ระหว่าง 1 และ 3 (สูตร)m การขัดมันตามขั้นตอนการขัดมันที่สอง ซับสเตรตแก้วดังกล่าวโดยการใช้ของเหลว การขัดมันที่หนึ่งประกอบด้วย เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่สอง เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่สอง
TH801001624A 2017-04-14 ซับสเตรตแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล, วิธีการผลิตซับสเตรท, ตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็กซึ่งใช้ซับสเตรตนี้ และวิธีการผลิตตัวกลาง TH91500B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH91500A TH91500A (th) 2008-09-19
TH91500B true TH91500B (th) 2008-09-19

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MY166770A (en) Manufacturing method of magnetic disk substrate
WO2008120578A1 (ja) 金属膜研磨用パッドおよびそれを用いる金属膜の研磨方法
CN102177546A (zh) 磁盘用玻璃基板的制造方法
WO2010120669A3 (en) Polishing a thin metallic substrate for a solar cell
JP2014179160A5 (th)
PH12012000200A1 (en) Process for producing glass substrate for magnetic recording medium, and glass substrate for magnetic recording medium
JP2012169029A (ja) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法
JP7547449B2 (ja) 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法
CN104493685A (zh) 一种蓝宝石晶片加工方法
JP2008254166A (ja) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク製造方法および磁気ディスク用ガラス基板
WO2010120778A3 (en) Chemical mechanical fabrication (cmf) for forming tilted surface features
CN102554763A (zh) 磁记录介质用玻璃基板的制造方法
MY161109A (en) Process for manufacturing glass hard disc substrates
MY151435A (en) Polishing slurry, production method of glass substrate for information recording medium and production method of information recording medium
JP2009211782A (ja) ガラス基板の製造方法
JP2009259309A5 (th)
JP2020128539A5 (th)
JP6148345B2 (ja) 非磁性基板の製造方法
MY142224A (en) Process for manufacturing glass substrate for magnetic recording medium, glass substrate for magnetic recording medium obtained by the process, and magnetic recording medium obtained using the substrate
SG151160A1 (en) Manufacturing method of glass substrate for magnetic recording medium and magnetic recording medium
CN202174508U (zh) 合成铜盘研磨盘
WO2011034037A3 (ja) ガラスブランク、ガラスブランク製造方法、情報記録媒体用基板製造方法および情報記録媒体製造方法
CN113211337B (zh) 超硬衬底片抛光用抛光盘的制备方法及精密抛光方法
CN204295485U (zh) 化学机械研磨垫
CN104070466A (zh) 一种树脂抛光盘