TH91500A - How to produce a glass substrate And magnetic recording medium - Google Patents

How to produce a glass substrate And magnetic recording medium

Info

Publication number
TH91500A
TH91500A TH801001624A TH0801001624A TH91500A TH 91500 A TH91500 A TH 91500A TH 801001624 A TH801001624 A TH 801001624A TH 0801001624 A TH0801001624 A TH 0801001624A TH 91500 A TH91500 A TH 91500A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
rmax
surface roughness
roughness
equal
formula
Prior art date
Application number
TH801001624A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH91500B (en
Inventor
วาทานาเบ นายทสึโยชิ
ทาคาฮาชิ นายโคจิ
ทาคาโน นายมาซาโอ
Original Assignee
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
นายธเนศ เปเรร่า
นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์
นางสาวสนธยา สังขพงศ์
Filing date
Publication date
Application filed by นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า, นายธเนศ เปเรร่า, นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์, นางสาวสนธยา สังขพงศ์ filed Critical นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
Publication of TH91500B publication Critical patent/TH91500B/en
Publication of TH91500A publication Critical patent/TH91500A/en

Links

Abstract

DC60 ในตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก, ความหยาบผิวหน้าของซับสเตรตแก้ว และการแปรเปลี่ยนของ ความหยาบผิวหน้าที่ได้รับการยับยั้ง โดยกล่าวคือ ความหยาบผิวหน้า (Rmax, Ra, Rq) และความสัมพันธ์ (Rmax/Ra) ระหว่าง Rmax และ Ra ที่ถูกจำกัดโดย Ra แสดงให้เห็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวตรงกลาง Rmax ที่ ได้รับการกำหนดตามความสูงสูงสุด ที่แสดงให้เห็นความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุด และจุดต่ำสุดและ Rq แสดง ให้เห็นความหยาบรากกำลังสองเฉลี่ย ด้วยเหตุนี้ เม็ดขนาดเล็กของผลึกของชิ้นวางที่อยู่ด้านล่าง และชั้นแม่เหล็ก ที่ถูกสร้างให้เท่ากันไว้บนนั้น ความหยาบผิวหน้าถูกกำหนดเฉพาะโดย Rmax น้อยกว่าหรือเท่ากับ 15 nm, Ra น้อยกว่าหรือเท่ากับ 1 nm และ Rq น้อยกว่าหรือเท่ากับ 1.5 nm และอัตราส่วนระหว่างความหยาบผิวหน้า Rmax และความหยาบผิวหน้า Ra อยู่ในช่วง 10 -30 ในตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก, ความหยาบผิวหน้าของซับสเตรตแก้ว และการแปรเปลี่ยนของ ความหยาบผิวหน้าที่ได้รับการยับยั้ง โดยกล่าวคือ ความหยาบผิวหน้า (Rmax, Ra, Rq) และความสัมพันธ์ (Rmax/Ra) ระหว่าง Rmax และ Ra ที่ถูกจำกัด โดย Ra แสดงให้เห็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวตรงกลาง Rmaxที่ ได้รับการกำหนดตามความสูงสูงสุด ที่แสดงให้เห็นความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุด และจุดต่ำสุดและ Rq แสดง ให้เห็นความหยาบรากกำลังสองเฉลี่ย ด้วยเหตุนี้ เม็ดขนาดเล็กของผลึกของชิ้นวางที่อยู่ด้านล่าง และชั้นแม่เหล็ก ที่ถูกสร้างให้เท่ากันไว้บนนั้น ความหยาบผิวหน้าถูกกำหนดเฉพาะโดย Rmax (สูตร)15 nm, Ra(สูตร)1 nm และ Rq(สูตร)1.5 nm และอัตราส่วนระหว่างความหยาบผิวหน้า Rmax และความหยาบผิวหน้า Ra อยู่ในช่วง 10-30 DC60 in magnetic recording medium, surface roughness of glass substrate. And the transformation of The surface roughness that was inhibited, ie, the surface roughness (Rmax, Ra, Rq) and the relationship (Rmax / Ra) between Rmax and Ra limited by Ra, showed the mean median roughness Rmax. That has been set according to the maximum height That shows the difference between the highest And the lowest point and Rq show the mean square root roughness. Thus, the granularity of the crystal of the underside And magnetic layer That were created equal on it The surface roughness is specifically defined with Rmax less than or equal to 15 nm, Ra less than or equal to 1 nm and Rq less than or equal to 1.5 nm, and the ratio between Rmax face roughness and Ra face roughness ranges from 10 -. 30 In the magnetic log medium, the surface roughness of the glass substrate. And the transformation of The surface roughness that was inhibited, ie, the surface roughness (Rmax, Ra, Rq) and the relationship (Rmax / Ra) between Rmax and Ra limited by Ra, showed the mean median roughness Rmax. That has been set according to the maximum height That shows the difference between the highest And the lowest point and Rq show the mean square root roughness. Thus, the granularity of the crystal of the underside And magnetic layer That were created equal on it The surface roughness is specifically determined by Rmax (formula) 15 nm, Ra (formula) 1 nm and Rq (formula) 1.5 nm, and the ratio between Rmax surface roughness and Ra surface roughness ranges from 10-30.

Claims (1)

: DC60 ในตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก, ความหยาบผิวหน้าของซับสเตรตแก้ว และการแปรเปลี่ยนของ ความหยาบผิวหน้าที่ได้รับการยับยั้ง โดยกล่าวคือ ความหยาบผิวหน้า (Rmax, Ra, Rq) และความสัมพันธ์ (Rmax/Ra) ระหว่าง Rmax และ Ra ที่ถูกจำกัดโดย Ra แสดงให้เห็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวตรงกลาง Rmax ที่ ได้รับการกำหนดตามความสูงสูงสุด ที่แสดงให้เห็นความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุด และจุดต่ำสุดและ Rq แสดง ให้เห็นความหยาบรากกำลังสองเฉลี่ย ด้วยเหตุนี้ เม็ดขนาดเล็กของผลึกของชิ้นวางที่อยู่ด้านล่าง และชั้นแม่เหล็ก ที่ถูกสร้างให้เท่ากันไว้บนนั้น ความหยาบผิวหน้าถูกกำหนดเฉพาะโดย Rmax น้อยกว่าหรือเท่ากับ 15 nm, Ra น้อยกว่าหรือเท่ากับ 1 nm และ Rq น้อยกว่าหรือเท่ากับ 1.5 nm และอัตราส่วนระหว่างความหยาบผิวหน้า Rmax และความหยาบผิวหน้า Ra อยู่ในช่วง 10 -30 ในตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก, ความหยาบผิวหน้าของซับสเตรตแก้ว และการแปรเปลี่ยนของ ความหยาบผิวหน้าที่ได้รับการยับยั้ง โดยกล่าวคือ ความหยาบผิวหน้า (Rmax, Ra, Rq) และความสัมพันธ์ (Rmax/Ra) ระหว่าง Rmax และ Ra ที่ถูกจำกัด โดย Ra แสดงให้เห็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวตรงกลาง Rmaxที่ ได้รับการกำหนดตามความสูงสูงสุด ที่แสดงให้เห็นความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุด และจุดต่ำสุดและ Rq แสดง ให้เห็นความหยาบรากกำลังสองเฉลี่ย ด้วยเหตุนี้ เม็ดขนาดเล็กของผลึกของชิ้นวางที่อยู่ด้านล่าง และชั้นแม่เหล็ก ที่ถูกสร้างให้เท่ากันไว้บนนั้น ความหยาบผิวหน้าถูกกำหนดเฉพาะโดย Rmax (สูตร)15 nm, Ra(สูตร)1 nm และ Rq(สูตร)1.5 nm และอัตราส่วนระหว่างความหยาบผิวหน้า Rmax และความหยาบผิวหน้า Ra อยู่ในช่วง 10-30ข้อถือสิทธิ์ (ข้อที่หนึ่ง) ซึ่งจะปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา : แก้ไข 13/03/2560: DC60 in magnetic recording medium, surface roughness of glass substrate. And the transformation of The surface roughness that was inhibited, ie, the surface roughness (Rmax, Ra, Rq) and the relationship (Rmax / Ra) between Rmax and Ra limited by Ra, showed the mean median roughness Rmax. That has been set according to the maximum height That shows the difference between the highest And the lowest point and Rq show the mean square root roughness. Thus, the granularity of the crystal of the underside And magnetic layer That were created equal on it The surface roughness is specifically defined with Rmax less than or equal to 15 nm, Ra less than or equal to 1 nm and Rq less than or equal to 1.5 nm, and the ratio between Rmax face roughness and Ra face roughness ranges from 10 -. 30 In the magnetic log medium, the surface roughness of the glass substrate. And the transformation of The surface roughness that was inhibited, ie, the surface roughness (Rmax, Ra, Rq) and the relationship (Rmax / Ra) between Rmax and Ra limited by Ra, showed the mean median roughness Rmax. That has been set according to the maximum height That shows the difference between the highest And the lowest point and Rq show the mean square root roughness. Thus, the granularity of the crystal of the underside And magnetic layer That were created equal on it The surface roughness was specifically defined by Rmax (formula) 15 nm, Ra (formula) 1 nm and Rq (formula) 1.5 nm, and the ratio between Rmax surface roughness and Ra surface roughness ranged from 10-30. (Item one) which will appear on the advertisement page: edit 13/03/2017 1. วิธีการของการผลิตซับสเตรตแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล ประกอบด้วยขั้นตอน ของ การขัดมันตามขั้นตอนการขัดมันที่หนึ่ง ซับสเตรตแก้วดังกล่าวโดยการใช้ของเหลว การขัดมันที่หนึ่งประกอบด้วย เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่หนึ่ง เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่ หนึ่งที่มีขนาดเม็ดขนาดเล็กที่หนึ่งอยู่ระหว่าง 1 และ 3 (สูตร)m &แท็ก :1.Methods of manufacturing a glass substrate for recording media It consists of a process of polishing in one of the polishing steps. Substrate the glass by using a liquid. The first polish consists of 1 micro grit Micro grains of polishing that One with a smaller grain size that one is between 1 and 3 (formula) m & tag:
TH801001624A 1997-12-25 How to produce a glass substrate And magnetic recording medium TH91500A (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH91500B TH91500B (en) 2008-09-19
TH91500A true TH91500A (en) 2008-09-19

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MY121649A (en) Glass substrate for information recording medium
MY128611A (en) Substrate for information recording media and manufacturing method thereof, and information recording medium
MY124000A (en) Method of manufacturing a glass substrate for an information recording medium, and method of manufacturing an information recording medium
EP0384574A3 (en) Magnetic memory storage devices
MY139682A (en) Substrate for magnetic disk
MY127591A (en) Substrate for an information recording medium, information recording medium using the substrate, and method of producing the substrate
JP2003338019A5 (en)
TW346503B (en) Method of polishing a surface of copper or an alloy comprising mainly copper, magnetic head obtainable by means of the method
US8251777B2 (en) Polishing slurry for aluminum and aluminum alloys
MY129763A (en) Magnetic recording medium and a method for manufacturing the same
WO2003020839A8 (en) Polishing composition
MY139129A (en) Polishing composition
TH91500A (en) How to produce a glass substrate And magnetic recording medium
JP4548140B2 (en) Glass substrate for magnetic recording media
MY137347A (en) Method for machining a glass substrate or a glass-ceramic substrate for an information storage medium
WO2005036217A3 (en) Stiff flat mirror on a silicon substrate for wide angle scanning
JP2005262413A5 (en)
EP0817174A4 (en)
TW363183B (en) Manufacturing method and structure of magnetic recording media with light texture
EP1249833A3 (en) Optical disk with area for recognising individual disks
JPS57144654A (en) Polishing method for high density magnetic disk substrate
JPH10249737A (en) Polishing pad of substrate for magnetic recording medium and polishing method
TH24237B (en) Glass substrate for recording media
TH32290A (en) Glass substrate for recording media
TH91500B (en) Glass substrate for the recording medium, the method of producing the substrate, the magnetic recording medium using this substrate. And methods for producing intermediates