TH24237B - Glass substrate for recording media - Google Patents

Glass substrate for recording media

Info

Publication number
TH24237B
TH24237B TH9701005368A TH9701005368A TH24237B TH 24237 B TH24237 B TH 24237B TH 9701005368 A TH9701005368 A TH 9701005368A TH 9701005368 A TH9701005368 A TH 9701005368A TH 24237 B TH24237 B TH 24237B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
rmax
surface roughness
roughness
equal
less
Prior art date
Application number
TH9701005368A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH32290A (en
Inventor
ทาคาฮาชิ นายโคจิ
วาทานาเบ นายทสึโยชิ
ทาคาโน นายมาซาโอ
Original Assignee
นายปรารถนา อุบลสุวรรณ
นายวินยาธกร ใจเอก
นายวินยาธกร ใจเอก นายปรารถนา อุบลสุวรรณ
โฮยา คอร์ปอเรชั่น
Filing date
Publication date
Application filed by นายปรารถนา อุบลสุวรรณ, นายวินยาธกร ใจเอก, นายวินยาธกร ใจเอก นายปรารถนา อุบลสุวรรณ, โฮยา คอร์ปอเรชั่น filed Critical นายปรารถนา อุบลสุวรรณ
Publication of TH32290A publication Critical patent/TH32290A/en
Publication of TH24237B publication Critical patent/TH24237B/en

Links

Abstract

DC60 ในตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก, ความหยาบผิวหน้าของซับสเตรตแก้ว และการแปรเปลี่ยนของ ความหยาบผิวหน้าที่ได้รับการยับยั้ง โดยกล่าวคือ ความหยาบผิวหน้า (Rmax, Ra, Rq) และความสัมพันธ์ (Rmax/Ra) ระหว่าง Rmax และ Ra ที่ถูกจำกัดโดย Ra แสดงให้เห็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวตรงกลาง Rmax ที่ ได้รับการกำหนดตามความสูงสูงสุด ที่แสดงให้เห็นความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุด และจุดต่ำสุดและ Rq แสดง ให้เห็นความหยาบรากกำลังสองเฉลี่ย ด้วยเหตุนี้ เม็ดขนาดเล็กของผลึกของชั้นวางที่อยู่ด้านล่าง และชั้นแม่เหล็ก ที่ถูกสร้างให้เท่ากันไว้บนนั้น ความหยาบผิวหน้าถูกกำหนดเฉพาะโดย Rmax น้อยกว่าหรือเท่ากับ 15 nm, Ra น้อยกว่าหรือเท่ากับ 1 nm และ Rq น้อยกว่าหรือเท่ากับ 1.5 nm และอัตราส่วนระหว่างความหยาบผิวหน้า Rmax และความหยาบผิวหน้า Ra อยู่ในช่วง 10 -30 ในตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก, ความหยาบผิวหน้าของซับสเตรตแก้ว และการแปรเปลี่ยนของ ความหยาบผิวหน้าที่ได้รับการยับยั้ง โดยกล่าวคือ ความหยาบผิวหน้า (Rmax Ra, Rq) และความสัมพันธ์ (Rmax/Ra) ระหว่าง Rmax และ Ra ที่ถูกจำกัดโดย Ra แสดงให้เห็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวตรงกลาง Rmax ที่ ได้รับการกำหนดตามความสูงสูงสุด ที่แสดงให้เห็นความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุด และจุดต่ำสุดและ Rq แสดง ให้เห็นความหยาบรากกำลังสองเฉลี่ย ด้วยเหตุนี้ เม็ดขนาดเล็กของผลึกของชั้นวางที่อยู่ด้านล่าง และชั้นแม่เหล็ก ที่ถูกสร้างให้เท่ากันไว้บนนั้น ความหยาบผิวหน้าถูกกำหนดเฉพาะโดย Rmax น้อยกว่าหรือเท่ากับ 15 nm, Ra น้อยกว่าหรือเท่ากับ 1 nm และ Rq น้อยกว่าหรือเท่ากับ 1.5 nm และ อัตราส่วนระหว่างความหยาบผิวหน้า Rmax และความหยาบผิวหน้า Ra อยู่ในช่วง 10-30In the DC60 magnetic recording medium, the surface roughness of the glass substrate and the variation of the inhibited surface roughness, i.e., surface roughness (Rmax, Ra, Rq) and the relationship (Rmax/Ra) between Rmax and Ra, restricted by Ra, show the centerline average roughness. Rmax is defined by the maximum height, showing the difference between the peak and the trough, and Rq shows the root mean square roughness. Therefore, the fine grain of the crystalline layer below and the magnetic layer built on it are equal. The surface roughness is defined specifically by Rmax ≤ 15 nm, Ra ≤ 1 nm, and Rq ≤ 1.5 nm, and the ratio between the surface roughness Rmax and the surface roughness Ra is in the range of 10⁻³⁰. In the magnetic recording medium, the surface roughness of the glass substrate and the variation of... Inhibited surface roughness, i.e., surface roughness (Rmax Ra, Rq) and the relationship (Rmax/Ra) between Rmax and Ra, restricted by Ra, shows the centerline average roughness. Rmax is defined by the maximum height, showing the difference between the peak and the trough, and Rq shows the root mean square roughness. Therefore, the fine grain of the crystalline layer below and the magnetic layer built on it are equal. Surface roughness is defined specifically by Rmax ≤ 15 nm, Ra ≤ 1 nm, and Rq ≤ 1.5 nm, and the ratio between surface roughness Rmax and surface roughness Ra is in the range of 10⁻³⁰.

Claims (3)

1. ซับสเตรทแก้วที่ซึ่งสำหรับใช้ในตัวกลางบันทึกข้อมูลและที่ซึ่งมีความหยาบของ ผิวหน้า Ra, Rmax และ Rq โดยที่ซึ่ง Ra แสดงให้เห็นได้เป็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวเส้นตรง กลาง, Rmax ถูกกำหนดให้เป็นความสูงมากสุดที่แสดงให้เห็นได้ถึงความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุด และจุดต่ำสุด และ Rq แสดงให้เห็นได้เป็นความหยาบแบบรากของกำลังสองเฉลี่ย ที่ซึ่ง ความหยาบของผิวหน้าถูกกำหนดโดย Rmax น้อยกว่าหรือเท่ากับ 15 nm, Ra น้อยกว่าหรือเท่ากับ 1 มม. และ Rq น้อยกว่าหรือเท่ากับ 1.5 nm. Rmax/Ra ตกอยู่ภายในช่วงระหว่าง 10 และ 30 และความหยาบของผิวหน้าจะถูกวัด โดยไมโครสโคปชนิดแรงระหว่างอะตอม1. A glass substrate for use as a data recording medium has surface roughness values Ra, Rmax, and Rq, where Ra is represented as linear mean roughness, Rmax is defined as the maximum height representing the difference between the highest and lowest points, and Rq is represented as the root mean square roughness. Surface roughness is defined as Rmax ≤ 15 nm, Ra ≤ 1 mm, and Rq ≤ 1.5 nm. The Rmax/Ra ratio falls within the range of 10⁻⁶ and 30, and surface roughness is measured using an interatomic force microscope. 2. ซับสเตรทแก้ว ดังที่ขอถือสิทธิไว้ในข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ความหยาบของผิวหน้าถูก กำหนดไว้โดย Rmax น้อยกว่าหรือเท่ากับ 10nm, Ra น้อยกว่าหรือเท่ากับ 0.5 nm. และ Rq น้อยกว่าหรือเท่ากับ 0.7 nm.2. Glass substrates as claimed in Reputation 1, where the surface roughness is defined by Rmax less than or equal to 10 nm, Ra less than or equal to 0.5 nm, and Rq less than or equal to 0.7 nm. 3. ซับสเตรทแก้ว ดังที่ขอถือสิทธิไว้ในข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ความหยาบของผิวหน้า ถูก กำหนดไว้โดย Rmax น้อยกว่าหรือเท่ากับ 5nm, Ra น้อยกว่าหรือเท่ากับ 0.3 nm. และ Rq น้อยกว่าหรือเท่ากับ 0.4 nm.3. Glass substrates as claimed in Reputation 1, where the surface roughness is defined by Rmax less than or equal to 5 nm, Ra less than or equal to 0.3 nm, and Rq less than or equal to 0.4 nm.
TH9701005368A 1997-12-25 Glass substrate for recording media TH24237B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH32290A TH32290A (en) 1999-02-25
TH24237B true TH24237B (en) 2008-08-13

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MY121649A (en) Glass substrate for information recording medium
US5868604A (en) Abrasives composition, substrate and process for producing the same, and magnetic recording medium and process for producing the same
CN100395821C (en) Nanopores, magnetic recording media and their manufacture, and magnetic recording apparatus and methods
US5323282A (en) Thin-film magnetic head
MY124578A (en) Magnetic hard disc substrate and process for manufacturing the same
MY127591A (en) Substrate for an information recording medium, information recording medium using the substrate, and method of producing the substrate
EP1158499A3 (en) Information recording medium, and recording method and reproducing method thereof
US4925738A (en) Substrate for a magnetic disk and process for its production
EP1518837A4 (en) HYDROPHILIC THIN LAYER, ANTICONDENSATION, ANTITACHES AND PROCESS FOR PREPARING THE SAME
CN1068691C (en) Magnetic recording disk with metal nitride texturing layer, process for making the disk, and disk drive with improved head-disk interface
CN1674100A (en) Magnetic recording medium
CA2016341A1 (en) Low friction macromolecular materials for coating disk and head surfaces
US6028750A (en) Thin film magnetic head substrate with improved heat radiation
TH32290A (en) Glass substrate for recording media
KR930703385A (en) Polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate film
JP2000207733A (en) Magnetic disc, production thereof and magnetic recorder employing the same
WO2003028011A1 (en) Vertical magnetic recording medium, its manufacturing method and apparatus, and magnetic recording apparatus
EP1555657A4 (en) BIAXIALLY ORIENTED POLYESTER FILM AND FLEXIBLE DISC
US5939170A (en) Magnetic recording medium
JP3097663B2 (en) Magnetic disk drive
US20020054459A1 (en) Method of producing magnetic head
US5582897A (en) Magnetic recording medium
MY162311A (en) Glass substrate for information recording medium and information recording medium
TH91499A (en) Glass substrate for recording media
TH52898B (en) Glass substrate for recording media