TH90404B - Fluorination process methods and fluorination equipment, including how to use fluorination equipment. - Google Patents

Fluorination process methods and fluorination equipment, including how to use fluorination equipment.

Info

Publication number
TH90404B
TH90404B TH601006337A TH0601006337A TH90404B TH 90404 B TH90404 B TH 90404B TH 601006337 A TH601006337 A TH 601006337A TH 0601006337 A TH0601006337 A TH 0601006337A TH 90404 B TH90404 B TH 90404B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
fluorination
area
source gas
internal structure
treatment
Prior art date
Application number
TH601006337A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH117384A (en
TH90404A (en
Inventor
วาตานาเบะ นายทาคาโนริ
ไอเชนเนาเออร์ นายอูลริช แจนเซน ดร เฮอร์เบิร์ตไอเชนนอเออร์ ดร อูลริชแจนเซ่น นายเฮอร์เบิร์ต
Original Assignee
แลนเซสส์ ดอยซ์ลานด์ จีเอ็มบีเอช แลนเซสส์ ดูทส์ซแลนด์ จีเอ็มบีเอช
แอร์ วอเตอร์ เอ็นวี อิงค์
Filing date
Publication date
Publication of TH90404A publication Critical patent/TH90404A/en
Application filed by แลนเซสส์ ดอยซ์ลานด์ จีเอ็มบีเอช แลนเซสส์ ดูทส์ซแลนด์ จีเอ็มบีเอช, แอร์ วอเตอร์ เอ็นวี อิงค์ filed Critical แลนเซสส์ ดอยซ์ลานด์ จีเอ็มบีเอช แลนเซสส์ ดูทส์ซแลนด์ จีเอ็มบีเอช
Publication of TH117384A publication Critical patent/TH117384A/en
Publication of TH90404B publication Critical patent/TH90404B/en

Links

Abstract

DC60 (08/12/52) วิธีการทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันซึ่งสามารถรักษาคุณภาพของการทำกรรมวิธีได้อย่างมี เสถียรภาพ วิธีการทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันซึ่งทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันโดยการให้ความร้อนชิ้นงานทำ กรรมวิธี และคงไว้ภายในบริเวณที่ทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันที่มีบรรยากาศฟลูออริเนชันที่กำหนด โดย การทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันที่กล่าวในสภาพที่มีโครงสร้างภายในบริเวณที่มีปฏิกิริยากับฟลูออรีนโผล่ ออกสู่ภายในบริเวณทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันที่กล่าว และที่ผิวของโครงสร้างภายในบริเวณที่โผล่ออกสู่ ภายในบริเวณทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันที่กล่าวอยู่ในสภาพที่ได้ถูกสร้างชั้นของฟลูออริเนชันล่วงหน้า ทำ ให้ไม่มีการบริโภคก๊าซแหล่งที่มาของฟลูออริเนชันที่ถูกจ่ายเพื่อทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันของชิ้นงานทำ กรรมวิธี ในปริมาณมากสำหรับการทำฟลูออริเนชันของผิวของโครงสร้างภายในบริเวณระหว่างการทำ กรรมวิธีฟลูออริเนชัน นอกจากนี้แม้ศักย์ของการเกิดฟลูออริเนชันของก๊าซแหล่งที่มาของฟลูออริเนชันที่ จ่ายจะมีไม่เพียงพอ ชั้นฟลูออริเนชันของผิวโครงสร้างภายในบริเวณที่กล่าวก็จะปล่อยก๊าซแหล่งที่มา ฟลูออริเนชันออกมา ซึ่งจะทำให้สามารถรักษาบรรยากาศการเกิดฟลูออริเนชันภายในบริเวณของการ ทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันระหว่างการทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันให้อยู่ในสภาพที่เหมาะสมได้ วิธีการทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันซึ่งสามารถรักษาคุณภาพของการทำกรรมวิธีได้อย่างมี เสถียรภาพ วิธีการทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันซึ่งทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันโดยการให้ความร้อนชิ้นงานทำ กรรมวิธี และคงไว้ภายในบริเวณที่ทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันที่มีบรรยากาศฟลูออริเนชันที่กำหนด โดย การทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันที่กล่าวในสภาพที่มีโครงสร้างภายในบริเวณที่มีปฏฺิกิริยากับฟลูออรีนโผล่ ออกสู่ภายในบริเวณทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันที่กล่าว และที่ผิวของโครงสร้างภายในบริเวณที่โผล่ออกสู่ ภายในบริเวณทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันที่กล่าวอยู่ในสภาพที่ได้ถูกสร้างชั้นของฟลูออริเนชันล่วงหน้า ทำ ให้ไม่มีการบริโภคก๊าซแหล่งที่มาของฟลูออริเนชันที่ถูกจ่ายเพื่อทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันของชิ้นงานทำ กรรมวิธี ในปริมาณมากสำหรับการทำฟลูออริเนชันของผิวของโครงสร้างภายในบริเวณระหว่างการทำ กรรมวิธีฟลูออริเนชัน นอกจากนี้แม้คักย์ของการเกิดฟลูออริเนชันของก๊าซแหล่งที่มารของฟลูออริเนชันที่ จ่ายจะมีไม่เพียงพอ ชั้นฟลูออริเนชันของผิวโครงสร้างภายในบริเวณที่กล่าวก็จะปล่อยก๊าซแหล่งที่มา ฟลูออริเนชันออกมา ซึ่งจะทำให้สามารถรักษาบรรยากาศการเกิดฟลูออริเนชันภายในบริเวณของการ ทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันระหว่างการทำกรรมวิธีฟลูออริเนชันให้อยู่ในสภาพที่เหมาะสมได้DC60 (08/12/09) A fluorination method that can maintain the quality of the treatment stably. A fluorination method in which the fluorination is carried out by heating the treated workpiece and maintaining it within a fluorination treatment area with a specified fluorination atmosphere. The fluorination treatment is carried out in a state where the internal structure in the area that reacts with fluorine is exposed to the said fluorination treatment area, and the surface of the internal structure exposed to the said fluorination treatment area is in a state where a fluorination layer is formed in advance. Therefore, there is no consumption of the fluorination source gas supplied for the fluorination of the treated workpiece in large quantities for the fluorination of the surface of the internal structure during the fluorination treatment. In addition, even if the fluorination potential of the supplied fluorination source gas is insufficient, the fluorination layer of the surface structure in the said area will release the fluorination source gas. This will enable the fluorination atmosphere to be maintained within the fluorination treatment area during the fluorination process in an appropriate condition. The fluorination method that can maintain the quality of the process stably The fluorination method in which the fluorination process is carried out by heating the workpiece and maintaining it within the fluorination treatment area with a specified fluorination atmosphere. The fluorination process in question is carried out in a state where the internal structure in the area that reacts with fluorine protrudes into the fluorination treatment area and the surface of the internal structure in the area exposed into the fluorination treatment area is in a state where a fluorination layer is formed in advance. This eliminates the consumption of the fluorination source gas supplied for the fluorination of the workpiece in large quantities for the fluorination of the surface of the internal structure during the fluorination process. In addition, even though the fluorination potential of the supplied fluorination source gas is insufficient, The fluorination layer of the surface structure within the said area will release the fluorination source gas, which will enable the fluorination atmosphere within the fluorination process area to be maintained in an appropriate condition during the fluorination process.

Claims (1)

1. ยางกราฟท์ที่มีเสถียรภาพต่อการเสื่อมสภาพโดยการออกซิเดชันด้วยความร้อนถูกวิเคราะห์ คุณสมบัติว่ามี a) สารประกอบฟีโนลิก A) อย่างน้อยหนึ่งชนิดที่มีหน่วยโครงสร้างอย่างน้อยหนึ่งตัว ของสูตรผสม I (สูตรเคมี) (I) โดยที่ R1, R2, R3, R4, อาจเหมือนหรือแตกต่างกันและอาจเป็นอนุมูลไฮโดรคาร์บอนซึ่งถูก เลือกแทนที่ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 20 อะตอม R5 คือ อนุมูลไฮโดรคาร์บอนซึ่งถูกเลือกแทนที่ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 20 อะตอม หรือ1. Grafted tires that are stable against thermal oxidation aging were analyzed. Properties that there is a) at least one phenolic compound A) that has at least one structural unit of the compound formula I (chemical formula) (I), where R1, R2, R3, R4, may be the same or different. And possibly hydrocarbon radicals, which are Alternative 1 to 20 carbon atoms R5 is a selective hydrocarbon radical with 1 to 20 carbon atoms or
TH601006337A 2009-09-10 Fluorination process methods and fluorination equipment, including how to use fluorination equipment. TH90404B (en)

Publications (3)

Publication Number Publication Date
TH90404A TH90404A (en) 2008-07-10
TH117384A TH117384A (en) 2012-11-15
TH90404B true TH90404B (en) 2022-12-07

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MX2010011611A (en) Sherardizing method.
DE502008002286D1 (en) DEVICE AND METHOD FOR SEPARATING CRYSTALLINE LAYERS BY MEANS OF MOCVD OR HVPE
Nalajala et al. Sodium borohydride treatment: a simple and effective process for the removal of stabilizer and capping agents from shape-controlled palladium nanoparticles
WO2014093469A3 (en) Remediation by smoldering combustion of contaminated particulate materials
ATE542803T1 (en) METHOD FOR PRODUCING DIHYDROQUINAZOLINES
TW200943398A (en) Novel treatment and system for mask surface chemical reduction
ATE525334T1 (en) METHOD FOR PRODUCING HIGHLY EXPANDED VERMICULITE WITHOUT USING AN ORGANIC BINDER OR ADDITIVE TO FORM IT
DE502007005582D1 (en) COLD-FREE, SELF-NETWORKING PUR DISPERSIONS
SG142223A1 (en) Methods for characterizing defects on silicon surfaces, etching composition for silicon surfaces and process of treating silicon surfaces with the etching composition
WO2008151772A3 (en) Method for the pretreatment of polymer surfaces to be painted
WO2006057464A3 (en) Process for producing silicon nanofilamentous form
WO2006057464A1 (en) Process for producing silicon nanofilamentous form
SG165221A1 (en) Substrate treating apparatus and method
FI20065227A0 (en) Method and equipment for purifying air
DE502006004463D1 (en) DEVICE AND METHOD FOR CONTINUOUS GAS PHASE DEPOSITION UNDER ATMOSPHERIC PRESSURE AND ITS USE
TH90404B (en) Fluorination process methods and fluorination equipment, including how to use fluorination equipment.
MX2009003102A (en) Indolylalkylpyridin-2-amines for the inhibition of beta-secretase.
DE112006002434A5 (en) Process and device for the treatment of hydrocarbon-containing products
TW200801853A (en) Treating device and manufacturing method for substrate
MY146880A (en) Method for drying a substrate
ATE423834T1 (en) METHOD FOR PRODUCING A TEXTILE TREATMENT AID COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING A TEXTILE TREATMENT AND TEXTILE CLEANING AGENT
JP2011161345A5 (en)
ATE432295T1 (en) METHOD FOR PRODUCING AN AQUEOUS POLYMER DISPERSION
WO2007101173A3 (en) Methods for treatment of organic matter in liquid
ITMI20111755A1 (en) PROCEDURE FOR COATING A SUBSTRATE