ได้มีการนำเสนอวิธีการและอุปกรณ์ใหม่สำหรับอบเหนียวอุปกรณ์กึ่งตัวนำในสภาพแวดล้อมก๊าซ ที่มีแรงดันสูง ตามรูปลักษณะ ภาชนะสำหรับอบเหนียวจะมีโครงสร้างช่องที่เป็นแบบคู่ และก๊าซที่อาจ เป็นพิษ, ติดไฟได้ หรือไม่ก็ทำปฎิกิริยาได้จะถูกกักไว้ในช่องด้านในซึ่งถูกปกป้องด้วยแรงดันของก๊าซ เฉื่อยที่บรรจุอยู่ในช่องด้านนอก ระบบส่งต่อก๊าซที่ผ่านเข้ามาและระบบระบายก๊าซไอเสียจะได้รับการ ปกป้องในลักษณะเดียวกันด้วยวิธีการที่หลากหลาย รูปลักษณะของการประดิษฐ์นี้สามารถนำมาใช้ได้ ตัวอย่างเช่น สำหรับการอบเหนียวเกตไดอิเล็กตริกที่มี K สูง, การอบเหนียวสตุสำหรับการสร้างสภาพ โลหะในภายหลัง และการอบเหนียวด้วยก๊าซที่ใช้ในการขึ้นรูปในขั้นตอนการผลิตอุปกรณ์กึ่งตัวนำ New methods and devices for tackling semiconductors in gas environments are introduced. The high pressure in the form of a sticky baking vessel has a double channel structure. And potentially toxic, flammable or reactive gases are trapped in the inner cavity protected by gas pressure. Inertial contained in the outer compartment The incoming gas forwarding system and exhaust gas exhaust system are Protect in the same way in a variety of ways. The characteristics of this invention can be used, for example, for gate dielectric with high K, and for high K condition. Metal later And gaseous annealing used in the process of semiconductor manufacturing
Claims (2)
1. อุปกรณ์ที่จะใช้ในการอบเหนียวที่แรงดันสูง ซึ่งอุปกรณ์มีส่วนประกอบดังต่อไปนี้ ช่องด้านใน ซึ่งช่องด้านในดังกล่าวจะทำด้วยวัสดุที่ไม่ใช้โลหระ โดยที่ช่องด้านในดังกล่าวจะถูก ออกแบบให้รักษาระดับแรงดันก๊าซที่หนึ่งของก๊าซชนิดที่หนึ่ง และ ช่องด้านนอก ซึ่งช่องด้านนอกดังกล่าวจะทำด้วยวัสดุจำพวกโลหะ โดยที่ช่องด้านนอกดังกล่าวจะ บรรจุช่องด้านในดังกล่าวและถูกออกแบบให้รักษาระดับแรงดันก๊าซที่สองของก๊าซชนิดที่สองภายนอก ช่องด้านในดังกล่าว1. Equipment to be used in high pressure baking. The device has the following components: Inner cavity, which the inner cavity is made of non-metallic materials. In which the aforementioned inner box will be Designed to maintain the first gas pressure of the first gas and the outer cavity, the outer cavity of which is made of metallic material. Where the outside channel will It contains such an inner cavity and is designed to maintain the second gas pressure of the external second gas. Such inner compartment2. อุปกรณ์ดังระบุในข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งอุป2. The equipment as specified in claim 1, which
TH701000501A2007-02-05
Methods and equipment for high pressure gas curing
TH87546B
(en)
Organic electronic device, organic electronic device manufacturing method, organic electronic device manufacturing apparatus, substrate processing system, protection film structure and storage medium with control program stored therein