TH87461A - สารเคลือบที่อยู่บนพื้นฐานแบบเอเควียส และโปร่งใสสำหรับการทำเครื่องหมายซับสเตรท - Google Patents
สารเคลือบที่อยู่บนพื้นฐานแบบเอเควียส และโปร่งใสสำหรับการทำเครื่องหมายซับสเตรทInfo
- Publication number
- TH87461A TH87461A TH601003433A TH0601003433A TH87461A TH 87461 A TH87461 A TH 87461A TH 601003433 A TH601003433 A TH 601003433A TH 0601003433 A TH0601003433 A TH 0601003433A TH 87461 A TH87461 A TH 87461A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- mixtures
- akvey
- transparent
- oxygen
- preparation
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title abstract 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 4
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 claims 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 2
Abstract
DC60 (30/08/48) การประดิษฐ์นี้จะจัดให้มีสารผสม ซึ่งประกอบด้วยตัวทำละลายที่อยู่บนพื้นฐานแบบ เอเควียส และจะสร้างสารเคลือบไม่มีสีที่โปร่งใส ซึ่งจะให้เครื่องหมายที่มีความคมชัดสูง ภายหลังการเผยต่อพลังงาน มันยังจัดให้มีกระบวนการสำหรับการเตรียมของสารผสมเหล่านี้ , ซับสเตรทที่ถูกเคลือบด้วยสารผสมเหล่านี้ และกระบวนการสำหรับการเตรียมของพวกมัน, กระบวนการสำหรับการเตรียมซับสเตรทที่ถูกทำเครื่องหมาย โดยใช้สารผสมเหล่านี้ และ ซับสเตรทที่ถูกทำเครื่องหมายที่สามารถได้รับมาโดยกระบวนการหลังนี้ การประดิษฐ์นี้จะจัดให้มีสารผสม ซึ่งประกอบด้วยตัวทำละลายที่อยู่บนพื้นฐานแบบ เอเควียส และจะสร้างสารเคลือบไม่มีสีที่โปร่งใส ซึ่งจะให้เครื่องหมายที่มีความคมชัดสูง ภายหลังการเผยต่อพลังงาน มันยังจัดให้มีกระบวนการสำหรับการเตรียมของสารผสมเหล่านี้, ซับสเตรทที่ถูกเคลือบด้วยสารผสมเหล่านี้ และกระบวนการสำหรับการเตรียมของพวกมัน, กระบวนการสำหรับการเตรียมซับสเตรทที่ถูกทำเครื่องหมาย โดยใช้สารผสมเหล่านี้ และ ซับสเตรทที่ถูกทำเครื่องหมายที่สามารถได้รับมาโดยกระบวนการหลังนี้
Claims (3)
1. สารผสม ซึ่งประกอบด้วยสารประกอบของโลหะทรานซิชันที่มีออกซิเจน และ ตัวทำละลายที่อยู่บนพื้นฐานแบบเอเควียส และการสร้างสารเคลือบไม่มีสีที่โปร่งใส ซึ่งให้ เครื่องหมายที่มีความคมชัดสูงภายหลังการเผยต่อพลังงาน
2. สารผสมของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ซึ่งสารประกอบของโลหะทรานซิชันที่มีออกซิเจน จะเลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบด้วยสารประกอบของโครเมียม, โมลิบดีนัม และทังสเตนที่มี ออกซิเจน
3. สารผสมของข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ซึ่งสารประกอบของโลหะทรานซิชันที่มีออกซิเจน จะเลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบแท็ก :
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH87461A true TH87461A (th) | 2007-11-09 |
| TH87461B TH87461B (th) | 2007-11-09 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ATE441533T1 (de) | Wasserbasierte und transparente beschichtungen zur markierung von substraten | |
| BRPI0519408A2 (pt) | composiÇÕes de revestimento para a fabricaÇço de substratos | |
| TW200626685A (en) | Antireflective compositions for photoresists | |
| WO2008132045A3 (en) | Substrates with biocidal coating | |
| TW200731016A (en) | Composition for forming upper film and method for forming photoresist pattern | |
| EP2637062A3 (en) | Pattern forming method | |
| ATE446995T1 (de) | Beschichtungszusammensetzungen zur substratkennzeichnung | |
| TW200801815A (en) | Method for forming pattern and composition for forming organic thin film using therefor | |
| MX2009006843A (es) | Composicion sensible a radiacion electromagnetica o termica. | |
| DE602005022036D1 (de) | Verfahren zur Herstellung von einer Zusammensetzung zur korrosionbeständigen Konversionsabscheidung | |
| EP2329320A4 (en) | POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND STRUCTURAL FORMING PROCESS | |
| JP2011505589A5 (th) | ||
| TW200942972A (en) | Light absorbent and organic antireflection coating composition containing the same | |
| WO2008121137A3 (en) | Fabrication of microstructures and nanostructures using etching resist | |
| TH87461A (th) | สารเคลือบที่อยู่บนพื้นฐานแบบเอเควียส และโปร่งใสสำหรับการทำเครื่องหมายซับสเตรท | |
| WO2005083514A3 (en) | Method of extending the stability of a photoresist during direct writing of an image | |
| TH87461B (th) | สารเคลือบที่อยู่บนพื้นฐานแบบเอเควียส และโปร่งใสสำหรับการทำเครื่องหมายซับสเตรท | |
| ATE325368T1 (de) | Farbfilter und verfahren zu seiner herstellung | |
| TW200715062A (en) | Composition and use thereof | |
| JP2007332262A5 (th) | ||
| TW200739265A (en) | Positive photoresist composition and method of forming photoresist pattern using the same | |
| WO2007102878A3 (en) | Low-voc compositions containing a polymeric latex, coatings made therefrom, substrates containing same, and method for making same | |
| JP4723161B2 (ja) | 多芳香環化合物による紫外線耐性自己組織化単分子膜 | |
| RU2009125032A (ru) | Способ подавления окрашивания содержащей донепезил адгезивной композиции и способ сокращения количества образующихся родственных донепезилу соединений | |
| JP2016050259A (ja) | 硬化性組成物、硬化膜、半導体素子及び表示素子 |