TH74145A - อนุภาคของโพลีเมอร์ - Google Patents

Abstract

DC60 อนุภาคของโพลีเมอร์ที่ประกอบด้วยเมตริกซ์ที่เป็น โพลีเมอร์ที่ได้รับการทำขึ้นจาก สารผสมของโมโนเมอร์ที่ประกอบด้วยโมโนเมอร์ที่หนึ่งซึ่งเป็นโมโนเมอร์ที่ถือประจุที่ไม่อิ่มตัว แบบเอทธิลลีน และโมโนเมอร์ที่สองซึ่งเป็น โมโนเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำที่ไม่อิ่มตัวแบบเอทธิลลีน ซึ่งสามารถเกิดเป็น โฮโมโพลีเมอร์ที่อุณหภูมิกลาสทรานซิชันสูงกว่า 50 องศาเซลเซียส ซึ่งอนุภาคทุติยภูมิถูกทำให้กระจายทั่วทั้งเมตริกซ์โดยที่อนุภาคทุติยภูมิ ประกอบด้วย โพลีเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำที่ได้รับการทำขึ้นจากโมโนเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำที่ไม่อิ่มตัว แบบเอทธิลลีนซึ่งสามารถเกิดเป็น โฮโมโพลีเมอร์ที่มีอุณหภูมิกลาสทรานซิชันสูงกว่า 50 องศาเซลเซียส และอาจเลือกให้มีโมโนเมอร์อื่น ๆ ได้ด้วย ซึ่งโพลีเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำนั้นแตกต่าง จากเมตริกซ์ที่เป็น โพลีเมอร์ สิ่งที่ได้รับการถือสิทธิไว้ด้วยคือกระบวนการสำหรับเตรียมอนุภาค อนุภาคมีความต้านทานการแตกกระจายดีขึ้น เสนอให้อนุภาคโพลีเมอร์ประกอบด้วยสารออกฤทธิ์ โดยเฉพาะอย่างยิ่งสารแต่งสี อนุภาคเช่นนั้นรวมความต้านทานการแตกกระจายที่ดีขึ้นเข้ากับ ความสามารถในการกักเก็บสารออกฤทธิ์อาจนำอนุภาคของการประดิษฐ์นี้มาใช้ในการใช้งาน ทางอุตสาหกรรมต่าง ๆ ตัวอย่างเช่นในการผลิตหมึก, กระดาษและเครื่องสำอางเป็นอุตสาหกรรม อนุภาคของโพลีเมอร์ที่ประกอบด้วยเมตริกซ์ที่เป็น โพลีเมอร์ที่ได้รับการทำขึ้นจาก สารผสมของโมโนเมอร์ที่ประกอบด้วยโมโนเมอร์ที่หนึ่งซึ่งเป็นโมโนเมอร์ที่ถือประจุที่ไม่อิ่มตัว แบบเอทธิลลีน และโมโนเมอร์ที่สองซึ่งเป็น โมโนเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำที่ไม่อิ่มตัวแบบเอทธิลลีน ซึ่งสามารถเกิดเป็น โฮโมโพลีเมอร์ที่อุณหภูมิกลาสทรานซิชันสูงกว่า 50 องศาเซลเซียส ซึ่งอนุภาคทุติยภูมิถูกทำให้กระจายทั่วทั้งเมตริกซ์โดยที่อนุภาคทุติยภูมิ ประกอบด้วย โพลีเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำที่ได้รับการทำขึ้นจากโมโนเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำที่ไม่อิ่มตัว แบบเอทธิลลีนซึ่งสามารถเกิดเป็น โฮโมโพลีเมอร์ที่มีอุณหภูมิกลาสทรานซิชันสูงกว่า 50 องศาเซลเซียส และอาจเลือกให้มีโมโนเมอร์อื่น ๆ ได้ด้วย ซึ่งโพลีเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำนั้นแตกต่าง จากเมตริกซ์ที่เป็น โพลีเมอร์ สิ่งที่ได้รับการถือสิทธิไว้ด้วยคือกระบวนการสำหรับเตรียมอนุภาค อนุภาคมีความต้านทานการแตกกระจายดีขึ้น เสนอให้อนุภาคโพลีเมอร์ประกอบด้วยสารออกฤทธิ์ โดยเฉพาะอย่างยิ่งสารแต่งสี อนุภาคเช่นนั้นรวมความต้านทานการแตกกระจายที่ดีขึ้นเข้ากับ ความสามารถในการกักเก็บสารออกฤทธิ์อาจนำอนุภาคของการประดิษฐ์นี้มาใช้ในการใช้งาน ทางอุตสาหกรรมต่าง ๆ ตัวอย่างเช่นในการผลิตหมึก, กระดาษและเครื่องสำอางเป็นอุตสาหกรรม

Claims (40)

1. อนุภาคของโพลีเมอร์ที่ประกอบด้วยเมตริกซ์ที่เป็นโพลีเมอร์ที่ได้รับการทำขึ้น จากสารผสมของโมโนเมอร์ที่ประกอบด้วยโมโนเมอร์ที่หนึ่งซึ่งเป็น โมโนเมอร์ที่ถือประจุ ที่ไม่อิ่มตัวแบบเอทธิลลีน และโมโนเมอร์ที่สองซึ่งเป็นโมโนเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำที่ไม่อิ่มตัว แบบเอทธิลลีน ซึ่งสามารถเกิดเป็นโฮโมโพลีเมอร์ที่มีอุณหภูมิกลาสทรานซิชันสูงกว่า 50 องศาเซลเซียส ซึ่งอนุภาคทุติยภูมิถูกทำให้กระจายทั่วทั้งเมตริกซ์โดยที่อนุภาคทุติยภูมิ ประกอบด้วยโพลีเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำที่ได้รับการทำขึ้นจากโมโนเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำที่ไม่อิ่มตัว แบบเอธิลลีนซึ่งสามารถเกิดเป็นโฮโมโพลีเมอร์ที่มีอุณหภูมิกลาสทรานซิชันสูงกว่า 50 องศาเซลเซียส และอาจเลือกให้มีโมโนเมอร์อื่น ๆ ได้ด้วย ซึ่งโพลีเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำนั้นแตกต่าง จากเมตริกซ์ที่เป็นโพลีเมอร์

2. อนุภาคของโพลีเมอร์ตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งโมโนเมอร์ที่หนึ่ง คือเกลือของส่วนประกอบที่เป็น ไอออนเข้าคู่ที่ระเหยได้

3. อนุภาคของโพลีเมอร์ตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 หรือข้อถือสิทธิที่ 2 ซึ่งประกอบด้วยสารออกฤทธิ์

4. อนุภาคของโพลีเมอร์ตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งประกอบด้วย สารออกฤทธิ์ที่เลือกได้จากสารดูด UV, สารสะท้อน UV, สารหน่วงการเกิดเปลวไฟและ สารตามรอยสีย้อมที่ออกฤทธิ์

5. อนุภาคของโพลีเมอร์ตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งเมตริกซ์ที่เป็น โพลีเมอร์ประกอบด้วยโพลีเมอร์ที่อยู่ในรูปกรดอิสระหรือในรูปเบสอิสระ

6. อนุภาคของโพลีเมอร์ตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งเมตริกซ์ที่เป็น โพลีเมอร์ถูกทำให้เชื่อมข้ามเชน

7. อนุภาคของโพลีเมอร์ตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอนุภาคของ โพลีเมอร์มีอนุภาคโดยเฉลี่ยต่ำกว่า 100 ไมครอน

8. อนุภาคของโพลีเมอร์ตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งโมโนเมอร์ที่สอง เลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบด้วยสไตรีน, เมทธิลเมทธาคริลเลท, อาคริลโลไนตริล, เทอร์เซียรีบิวทิล เมทธาคริลเลท, เฟนนิลเมทธาคริลเลท, ไซโคลเฮกซิลเมทธาคริลเลท และไอโซบอร์เมทธาคริลเลท

9. อนุภาคของโพลีเมอร์ตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งโมโนเมอร์ที่หนึ่ง คือเกลือของกรดคาร์บอกซิลิคที่ไม่อิ่มตัวแบบเอทธิลลีนของส่วนประกอบที่เป็นไอออนเข้าคู่ที่ ระเหยได้ ซึ่งส่วนประกอบที่เป็นไอออนเข้าคู่ที่ระเหยได้หรืออามีนที่ระเหยได้

10. อนุภาคที่เป็นของโพลีเมอร์ตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งโพลีเมอร์ ของเมตริกซ์คือโคโพลีเมอร์ของสไตรีนกับแอมอาคริลเลท และใช้แอมโมเนียมเซอร์โคเนียม คาร์บอเนท หรือสังกะสีออกไซด์เป็นสารเชื่อมข้ามเชน

11. อนุภาคที่เป็นโพลีเมอร์ตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งโมโนเมอร์ที่หนึ่ง คือเกลืออามีนที่ไม่อิ่มตัวแบบเอทธิลลีนของส่วนประกอบที่เป็นไอออนเข้าคู่ที่ระเหยได้ ซึ่งส่วนประกอบที่เป็นไอออนเข้าคู่ที่ระเหยได้หรือกรดคาร์บอกซิลิคที่ระเหยได้

12. อนุภาคที่เป็นโพลีเมอร์ตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอนุภาคทุติยภูมิ ได้รับการทำขึ้นจากโมโนเมอร์หรือสารผสมของโมโนเมอร์ซึ่งประกอบด้วยโมโนเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำ ที่เหมือนกับโมโนเมอร์ที่สองที่ใช้ทำเมตริกซ์ที่เป็นโพลีเมอร์

13. อนุภาคที่เป็นโพลีเมอร์ตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอนุภาคทุติยภูมิ ได้รับการทำขึ้นจากสไตรีน และอาจเลือกให้มีโมโนเมอร์เมื่ออื่นได้อีกด้วย

14. อนุภาคของโพลีเมอร์ตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 13 ซึ่งอนุภาคทุติยภูมิ ได้รับการทำขึ้นจากสไตรีน และเมทธิลเมทธาคริลเลท

15. อนุภาคของโพลีเมอร์ตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอนุภาคทุติยภูมิ มีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยต่ำกว่า 750 นาโนเมตร

16. อนุภาคของโพลีเมอร์ตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 15 ซึ่งอนุภาคทุติยภูมิ มีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยอยู่ในช่วงระหว่าง 50 ถึง 500 นาโนเมตร

17. อนุภาคของโพลีเมอร์ตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอนุภาคทุติยภูมิ มีรูปแบบแกนและเปลือก ซึ่งแกนประกอบด้วยโพลีเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำ และเปลือกประกอบด้วย โพลีเมอร์ของเมตริกซ์

18. อนุภาคของโพลีเมอร์ตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 3 ซึ่งโพลีเมอร์ของ เมตริกซ์นั้นสารออกฤทธิ์ซึมผ่านไม่ได้

19. กระบวนการเตรียมอนุภาคของโพลีเมอร์ที่ประกอบด้วยเมตริกซ์ที่เป็น โพลีเมอร์ และอนุภาคทุติยภูมิที่กระจายอยู่ทั่วทั้งเมตริกซ์ ซึ่งเมตริกซ์ที่เป็นโพลีเมอร์ได้รับการทำขึ้นจากการผสมของโมโนเมอร์ที่ประกอบด้วยโมโนเมอร์ ที่หนึ่งซึ่งเป็นโมโนเมอร์ที่ถือประจุที่ไม่อิ่มตัวแบบเอทธิลลีน และโมโนเมอร์ที่สองซึ่งเป็น โมโนเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำที่ไม่อิ่มตัวแบบเอทธิลลีนที่สามารถเกิดเป็นโฮโมโพลีเมอร์ที่มีอุณหภูมิ กลาสทรานซิชันสูงกว่า 50 องศาเซลเซียส ซึ่งอนุภาคทุติยภูมิประกอบด้วยโพลีเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำที่ได้รับการทำขึ้นจากโมโนเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำ ที่ไม่อิ่มตัวแบบเอทธิลลีนที่สามารถเกิดเป็นโฮโมโพลีเมอร์ที่มีอุณหภูมิกลาสทรานซิชันสูงกว่า 50 องศาเซลเซียส และอาจเลือกให้มีโมโนเมอร์อื่น ๆ อีกด้วย ซึ่งโพลีเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำนี้แตกต่าง จากเมตริกซ์ที่เป็นโพลีเมอร์ ซึ่งกระบวนการประกอบด้วยขั้นตอนดังนี้ A) การทำให้มีเฟสที่มีน้ำเป็นตัวกลางของเกลือโพลีเมอร์ที่ทำขึ้นจากสารผสม ของโมโนเมอร์ซึ่งประกอบด้วยโมโนเมอร์ที่หนึ่งและที่สอง B) การทำอนุภาคทุติยภูมิในเฟสที่มีน้ำเป็นตัวกลาง หรือการผสมรวมอนุภาค ทุติยภูมิกับเฟสที่มีน้ำเป็นตัวกลาง C) การทำสารกระจายตัวที่จัดว่าประกอบด้วยเฟสที่มีน้ำเป็นตัวกลางในเฟส ที่เป็นของเหลวที่ไม่รวมตัวกับน้ำ ซึ่งเสนอให้ประกอบด้วยสารทำให้เสถียรที่เป็นโพลีเมอร์ที่มี ทั้งส่วนชอบน้ำและส่วนที่ชอบไขมันเพื่อทำให้เกิดอีมัลชัน และ D) การนำสารกระจายตัวเข้าสู่การเอาน้ำออก ซึ่งน้ำถูกระเหยออกจากอนุภาค ที่มีน้ำ โดยวิธีนี้จึงเกิดเป็นอนุภาคของแข็งที่ประกอบด้วยอนุภาคทุติยภูมิที่กระจายอยู่ทั่วทั้ง โพลีเมอร์ของเมตริกซ์

20. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งโมโนเมอร์ที่หนึ่ง คือเกลือของส่วนประกอบที่เป็นไอออนเข้าคู่ที่ระเหยได้

21. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 19 หรือข้อถือสิทธิที่ 20 ซึ่งอนุภาคประกอบด้วยสารออกฤทธิ์

22. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งอนุภาคประกอบด้วย สารออกฤทธิ์ที่เลือกได้จากสารแต่งสี

23. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งเมตริกซ์ที่เป็นโพลีเมอร์ ประกอบด้วยโพลีเมอร์ที่อยู่ในรูปกรดอิสระหรือในรูปเบสอิสระ

24. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งสารเชื่อมข้ามเชน ถูกรวมไว้ในเฟสที่มีน้ำเป็นตัวกลาง และโพลีเมอร์ของเมตริกซ์ถูกทำให้เชื่อมข้ามเชนในระหว่าง ขั้นตอนของการเอาน้ำออก

25. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งอนุภาคของโพลีเมอร์ มีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยต่ำกว่า 100 ไมครอน

26. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งโมโนเมอร์ที่สองเลือกได้ จากกลุ่มที่ประกอบด้วยสไตรีน, เมทธิลเมทธาคริลเลท, อาคริลโลไนตริล, เทอร์เซียรีบิวทิล เมทธาคริลเลท, เฟนนิลเมทธาคริลเลท, ไซโคลเฮกซิลเมทธาคริลเลท และไอโซบอร์เมทธาคริลเลท

27. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งโมโนเมอร์ที่สองคือ เกลือของกรดคาร์บอกซิลิคที่ไม่อิ่มตัวแบบเอทธิลลีนของส่วนประกอบที่เป็นไอออนเข้าคู่ ที่ระเหยได้ ซึ่งส่วนประกอบที่เป็น ไอออนเข้าคู่ที่ระเหยได้ คือแอมโมเนียม หรืออามีนที่ระเหยได้

28. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งเมตริกซ์ที่เป็นโพลีเมอร์ คือ โคโพลีเมอร์ของสไตรีนกับแอมโมเนียมอาคริลเลท และใช้แอมโมเนียมเซอร์โคเนียมคาร์บอเนท หรือสังกะสีออกไซด์เป็นสารเชื่อมข้ามเชน

29. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งโมโนเมอร์ที่หนึ่งคือ เกลืออามีนที่ไม่อิ่มตัวแบบเอทธิลลีน และส่วนประกอบที่เป็นไอออนเข้าคู่ที่ระเหยได้คือ กรดคาร์บอกซิลิคที่ระเหยได้

30. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งอนุภาคทุติยภูมิได้รับการ ทำขึ้นจากโมโนเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำ ที่เหมือนกับโมโนเมอร์ที่สองที่ใช้ในการทำเมตริกซ์ที่เป็น โพลีเมอร์

31. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งอนุภาคทุติยภูมิได้รับการ ทำขึ้นจากสไตรีน และอาจเลือกให้มีโมโนเมอร์อื่นด้วย

32. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 31 ซึ่งอนุภาคทุติยภูมิได้รับการ ทำขึ้นจากสไตรีน และเมทธิลเมทธาคริลเลท

33. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งอนุภาคทุติยภูมิมีขนาด อนุภาค โดยเฉลี่ยต่ำกว่า 750 นาโนเมตร

34. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 33 ซึ่งอนุภาคทุติยภูมิมีขนาด อนุภาคโดยเฉลี่ยอยู่ในช่วงระหว่าง 50 ถึง 500 นาโนเมตร

35. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งอนุภาคได้รับการทำขึ้น เป็นไมโครอีมัลชันภายในเฟสที่มีน้ำเป็นตัวกลางโดยการทำปฏิกิริยาการเกิดโพลีเมอร์ในสภาพ ไมโครอีมัลชัน

36. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งอนุภาคทุติยภูมิมีรูปแบบ แกนและเปลือก ซึ่งแกนประกอบด้วยโพลีเมอร์ที่ไม่ชอบน้ำ และเปลือกประกอบด้วยโพลีเมอร์ของ เมตริกซ์

37. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 21 ซึ่งโพลีเมอร์ของเมตริกซ์นั้น สารออกฤทธิ์ซึมผ่านไม่ได้

38. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 22 ซึ่งสารแต่งสีหรือสีย้อม, ผงสีหรือสีเลค

39. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 22 ซึ่งขั้นตอนของการเอา น้ำออกเกี่ยวกับการกลั่นในสภาพสูญญากาศ

40. กระบวนการตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งขั้นตอนของการเอา น้ำออกเกี่ยวข้องกับการกลั่นในสภาพสูญญากาศ