Claims (9)
ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :Disclaimers (all) that will not appear on the advertisement page:
1. กระบวนการเพื่อการผลิตอุปกรณ์ซึ่งต้องการการทำงานกับวัสดุตัวดูดกลืนสิ่งเจือปนแบบ ไม่สามารถระเหยได้ ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอนต่อไปนี้ - การตกสะสมของวัสดุตัวดูดกลืนสิ่งเจือปนแบบไม่สามารถระเหยได้บนส่วนรองรับ - การสัมผัสทั้งส่วนรองรับและส่วนตกสะสมของวัสดุตัวดูดกลืนสิ่งเจือปนแบบไม่สามารถ ระเหยได้เมื่อมีการขึ้นรูปขึ้น ด้วยสารละลายกรดหรือสารละลายเบสเป็นอย่างน้อย เพื่อที่จะทำให้มี ส่วนรองรับแบบผ่านการปฏิบัติ และ - การใช้ส่วนรองรับที่ผ่านการปฏิบัติ เพื่อที่จะก่อรูปอย่างน้อยที่สุดหนึ่งส่วนของพื้นผิวซึ่ง กำหนดขอบเขตระวางภายในของอุปกรณ์ดังกล่าวในลักษณะที่ว่าส่วนตกสะสมดังกล่าวมีการสัมผัส กับระวางภายในดังกล่าว1.Process for the manufacture of equipment which requires working with Can not evaporate This includes the following steps: - Deposition of non-volatile impurity absorbent material on the support - contact with both the support and the accumulation of the non-volatile impurity absorber material. Volatile when forming With at least acid or base solution In order to make Practice Support and - Use of Practical Support. In order to form at least one part of the surface which Determine the extent of the internal tonnage of such equipment in such a way that the accumulator is exposed. With the said interior
2. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งสารละลายเบสดังกล่าวมีแอมโมเนียอยู่2. Process according to claim 1, where the aqueous base solution contains ammonia.
3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งสารละลายกรดมีกรดที่ได้รับการเลือกจาก กรด ไฮโดรคลอริก, กรดไฮโดรฟลูออริก, กรดไนตริก และกรดซัลฟิวริก3.Process according to claim 1, where the acid solution contains the acid selected from hydrochloric acid, hydrofluoric acid, nitric acid and sulfuric acid.
4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งขั้นตอนของการสัมผัสทั้งส่วนรองรับและส่วนตก สะสมกับสารละลายกรดหรือสายละลายเบส ประกอบรวมด้วยการสัมผัสทั้งส่วนรองรับและส่วนตก สะสมด้วยสารละลายเบสของแอมโมเนีย เป็นลำดับแรก และลำดับที่สองเป็นการสัมผัสทั้งส่วนรอง รับและส่วนตกสะสมด้วยสารละลายกรดไฮโดรคลอริก4. Process according to claim 1, where the process of touching both the support and the fall Accumulated with acid solution or base dissolution line It is assembled by touching both the support and the part. Accumulated with ammonia bases first and second in contact with both secondary. Receive and accumulate with hydrochloric acid solution.
5. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อก่อนหน้านี้ ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งอุปกรณ์ดังกล่าว เป็น อุปกรณ์เชิงกล, อุปกรณ์เชิงทัศนศาสตร์หรือเชิงกลไฟฟ้าขนาดจิ๋ว5. Process according to the previous claim Any one Where they are miniature mechanical, optical or electromechanical devices
6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ที่ซึ่งส่วนรองรับดังกล่าวเป็นส่วนรองรับแบบปิดของ อุปกรณ์เชิงกลหรือเชิงกลไฟฟ้าขนาดจิ๋ว6.Process according to claim 5, where the said support is a closed support of A miniature mechanical or electromechanical device
7. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ที่ซึ่งส่วนรองรับดังกล่าวเป็นส่วนรองรับซึ่งส่วน ประกอบออกฤทธิ์ของอุปกรณ์เชิงกล, อุปกรณ์เชิงกลไฟฟ้าหรืออุปกรณ์เชิงทัศนศาสตร์ขนาดจิ๋ว ได้รับการสร้างขึ้นบนส่วนรองรับนี้7. Process according to claim 5, where the said support is Composition of miniature mechanical, electromechanical, or optical devices Has been built on this support.
8. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งวัสดุตัวดูดกลืนสิ่งเจือปน แบบไม่สามารถระเหยได้ดังกล่าว ได้รับการเลือกจาก เซอร์โคเนียม, ไทเทเนียม, แทนทาลัม, ไนโอเบียม, ฮาร์ฟเนียมและอิตเตรียม หรือโลหะเจือของโลหะเหล่านี้กับธาตุที่เลือกจากโลหะ แทรนซิชัน แร่หายากและอะลูมินัม หนึ่งชนิดหรือมากกว่านี้8. Process on one of the preceding claims. Where the impurity absorbent material Such as non-volatile. Has been chosen from Zirconium, titanium, tantalum, niobium, hafnium and itite preparation. Or alloys of these metals with selected elements of transition metals, rare earths and aluminum One or more of a kind
9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งส่วนตกสะสมของตัวดูดกลืน สิ่งเจือปนได้รับการก่อรูปขึ้นโดยการสปัตเตอร์ริง 19. Process for one of the preceding claims. Where the accumulation of the absorbent Impurities are formed by sputtering 1
0. อุปกรณ์ซึ่งต้องการวัสดุตัวดูดกลืนสิ่งเจือปนแบบไม่สามารถระเหยได้เพื่อการทำงาน เมื่อ ได้รับการก่อรูปขึ้นโดยกระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อ 9 ข้อใดข้อหนึ่ง0.Equipment which requires a non-volatile absorbent absorbent material to function when it is formed by a process in accordance with Clause 1 to Clause 9.