TH69670A - A new type of imidazole compound And its use - Google Patents

A new type of imidazole compound And its use

Info

Publication number
TH69670A
TH69670A TH401000937A TH0401000937A TH69670A TH 69670 A TH69670 A TH 69670A TH 401000937 A TH401000937 A TH 401000937A TH 0401000937 A TH0401000937 A TH 0401000937A TH 69670 A TH69670 A TH 69670A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
copper
hydrogen
substitute
chlorine
mixture
Prior art date
Application number
TH401000937A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH47183B (en
Inventor
มูราอิ นายทาคายูกิ
คิคูคาวะ นายโยชิมาสะ
ฮิราโอะ นายฮิโรฮิโกะ
Original Assignee
ชิโคกุ เคมิคอลส์ คอร์ปอเรชั่น
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายบุญมา เตชะวณิช
Filing date
Publication date
Application filed by ชิโคกุ เคมิคอลส์ คอร์ปอเรชั่น, นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายบุญมา เตชะวณิช filed Critical ชิโคกุ เคมิคอลส์ คอร์ปอเรชั่น
Publication of TH69670A publication Critical patent/TH69670A/en
Publication of TH47183B publication Critical patent/TH47183B/en

Links

Abstract

DC60 (19/09/56) องค์ประกอบที่มีส่วนประกอบหลักเป็นน้ำสำหรับกระทำกับพื้นผิวทองแดง หรือโลหะผสม ทองแดงสำหรับการเชื่อมบัดกรีปราศจากตะกั่ว, องค์ประกอบประกอบรวมด้วยสารประกอบที่แสดง โดยสูตรทั่วไป (1): (สูตรเคมี) (1) ที่ซึ่ง R1 คือไฮโดรเจน หรือเมธิล, และอย่างใดอย่างหนึ่ง R2 และ R3 ใช้แทนคลอรีน และ R4 และ R5 ใช้แทนไฮโดรเจน, หรือ R2 และ R3 ใช้แทนไฮโดรเจน และ R4 และ R5 ใช้แทนคลอรีน องค์ประกอบที่มีส่วนประกอบหลักเป็นน้ำสำหรับกระทำกับพื้นผิวทองแดง หรือโลหะผสม ทองแดงสำหรับการเชื่อมบัดกรีปราศจากตะกั่ว, องค์ประกอบประกอบรวมด้วยสารประกอบที่แสดง โดยสูตรทั่วไป (1): (สูตรเคมี) (1) ที่ซึ่ง R1 คือไฮโดรเจน หรือเมธิล, และอย่างใดอย่างหนึ่ง R2 และ R3 ใช้แทนคลอรีน และ R4 และ R5 ใช้แทนไฮโดรเจน, หรือ R2 และ R3 ใช้แทนไฮโดรเจน และ R4 และ R5 ใช้แทนคลอรีนDC60 (19/09/56) Water-based composition for use with copper or copper alloys for lead-free soldering. The composition includes a compound represented by the general formula (1): (chemical formula) (1) where R1 is hydrogen or methyl, and either R2 and R3 replace chlorine and R4 and R5 replace hydrogen, or R2 and R3 replace hydrogen and R4 and R5 replace chlorine. Water-based composition for use with copper or copper alloys for lead-free soldering. The composition includes a compound represented by the general formula (1): (chemical formula) (1) where R1 is hydrogen or methyl, and either R2 and R3 replace chlorine and R4 and R5 replace hydrogen, or R2 and R3 replace hydrogen and R4 and R5 replace chlorine.

Claims (11)

1. กรรมวิธีเชื่อมต่อบัดกรีที่ประกอบรวมด้วย การสัมผัสวัสดุที่มีทองแดง หรือโลหะผสมทองแดงด้วยองค์ประกอบที่มีส่วนประกอบหลัก เป็นน้ำ ซึ่งองค์ประกอบประกอบรวมด้วยสารประกอบอิมิดาโซลที่แสดงโดยสูตรทั่วไป (1) (สูตรเคมี) (1) ที่ซึ่ง R1 คือ ไฮโดรเจน หรือเมธิล,และอย่างใดอย่างหนึ่งของ R2 และ R3 แทน คลอรีน และ R4 และ R5 แทน ไฮโดรเจน,หรือ R2 และ R3 แทนไอโดรเจน และ R4 และ R5 แทน คลอรีน,และ การเชื่อมบัดกรีวัสดุที่มีทองแดง หรือโลหะผสมทองแดง โดยใช้โลหะบัดกรีปราศจากตะกั่ว1. A solder jointing procedure that involves contacting a material containing copper or copper alloys with an aqueous main component which contains an imidazole compound represented by the general formula (1) (chemical formula) (1), where R1 is hydrogen or methyl, and either R2 and R3 represent chlorine and R4 and R5 represent hydrogen, or R2 and R3 represent hydrogen and R4 and R5 represent chlorine, and soldering the material containing copper or copper alloys using lead-free solder. 2. สารผสมที่มีส่วนประกอบหลักเป็นน้ำสำหรับกระทำกับพื้นผิว ทองแดง หรือ โลหะผสม ทองแดงสำหรับการเชื่อมบัดกรีปราศจาก ตะกั่ว, สารผสมประกอบด้วยกรดและสารประกอบอิมิดา โซลที่แสดง โดยสูตรทั่วไป (1): (สูตรเคมี) (1) ที่ซึ่ง R1 คือไฮโดรเจน หรือเมธิล, และอย่างใดอย่างหนึ่ง R2 และ R3 ใช้แทนคลอรีน และ R4 และ R5 ใช้แทนไฮโดรเจน, หรือ R2 และ R3 ใช้แทนไฮโดรเจน และ R4 และ R5 ใช้แทนคลอรีน2. A water-based mixture for use on copper or copper alloy surfaces for lead-free soldering; the mixture contains an acid and an imidazole compound represented by the general formula (1): (chemical formula) (1), where R1 is hydrogen or methyl, and either R2 and R3 substitute for chlorine and R4 and R5 substitute for hydrogen, or R2 and R3 substitute for hydrogen and R4 and R5 substitute for chlorine. 3. สารผสมที่มีส่วนประกอบหลักเป็นน้ำตามข้อถือสิทธิ 2 ที่ ซึ่งสารประกอบอิมิดาโซลดัง แสดงโดยสูตรทั่วไป (1) มีอยู่ใน ปริมาณ 0.01 ถึง 10% โดยน้ำหนัก เทียบจากสารผสมทั้งหมด และ กรดมีอยู่ในปริมาณ 0.1 ถึง 50% โดยน้ำหนัก เทียบจากสารผสม ทั้งหมด, ที่ซึ่งกรดคืออย่างน้อยหนึ่งสมาชิกอันเลือกจากกลุ่มที่ ประกอบด้วย C1-C12 อะลิฟาติก โมโน คาร์บอกซิลิก แอซิดอิ่มตัวหรือไม่อิ่มตัว, C2-C6 อะลิฟาติก ไดคาร์บอกซิลิก แอซิดอิ่มตัวหรือไม่อิ่มตัว, C7 หรือ C8 อะโรมาติก คาร์บอกซิลิก แอซิด, C6-C8 อะโรมาติก ซัลโฟนิก แอซิด, ไฮโดรคลอริก แอซิด, ฟอสฟอริก แอซิด, ซัลฟูริก แอซิด และไนตริก แอซิด3. A mixture of water as the main component according to Reservience 2 in which the imidazole compounds, represented by general formula (1), are present in amounts of 0.01 to 10% by weight relative to the total mixture and acids are present in amounts of 0.1 to 50% by weight relative to the total mixture, where the acid is at least one member of a group consisting of C1-C12 saturated or unsaturated aliphatic monocarboxylic acids, C2-C6 saturated or unsaturated aliphatic dicarboxylic acids, C7 or C8 aromatic carboxylic acids, C6-C8 aromatic sulfonic acids, hydrochloric acid, phosphoric acid, sulfuric acid and nitric acid. 4. สารผสมที่มีส่วนประกอบหลักเป็นน้ำตามข้อถือสิทธิ 2 ซึ่งยังประกอบอีกด้วยสาร ประกอบคอปเปอร์4. A mixture with water as the main component according to claim 2, which also contains a copper compound. 5. สารผสมที่มีส่วนประกอบหลักเป็นน้ำตามข้อถือสิทธิ 4 ที่ ซึ่งสารประกอบคอปเปอร์คือ อย่างน้อยหนึ่งสมาชิกอันเลือกจาก กลุ่มที่ประกอบด้วยคอปเปอร์ เฮไลด์, เกลือคอปเปอร์ของแอซิด และคอปเปอร์ ไฮดรอกไซด์, และมีอยู่ในปริมาณ 0.01 ถึง 10% โดยน้ำหนัก เทียบจากสารผสมทั้งหมด5. A mixture with water as the primary component according to Reservience 4, where at least one copper compound is selected from the group consisting of copper halides, copper acid salts and copper hydroxides, and is present in an amount of 0.01 to 10% by weight of the total mixture. 6. กรรมวิธีสำหรับกระทำกับพื้นผิวทองแดง หรือโลหะผสมทอง แดง สำหรับการเชื่อมบัดกรี ปราศจากตะกั่ว, กรรมวิธีประกอบ ด้วยการสัมผัสวัสดุที่ประกอบด้วยทองแดง หรือโลหะผสม ทองแดง ด้วยสารผสมที่มีส่วนประกอบหลักเป็นน้ำของข้อถือสิทธิ 16. Procedures for working with copper or copper alloy surfaces for lead-free soldering; procedures involving contact with copper or copper alloy materials using a water-based mixture as per Patent 1. 7. กรรมวิธีสำหรับกระทำกับพื้นผิวทองแดง หรือโลหะผสมทองแดง สำหรับการเชื่อมบัดกรี ปราศจากตะกั่ว, กรรมวิธีประกอบด้วย การสัมผัสวัสดุที่ประกอบด้วยทองแดง หรือ โลหะผสม ทองแดง ด้วย สารผสมที่มีส่วนประกอบหลักเป็นน้ำของข้อถือสิทธิ 27. Procedure for working with copper or copper alloy surfaces for lead-free soldering; the procedure involves contacting the copper or copper alloy material with a water-based mixture as per Patent 2. 8. กรรมวิธีเชื่อมบัดกรีที่ประกอบด้วย การสัมผัสวัสดุที่ประกอบด้วยทองแดง หรือ โลหะผสมทองแดงด้วย สารผสมที่มีส่วน ประกอบหลักเป็นน้ำของข้อถือสิทธิ 1 และ การเชื่อมบัดกรีวัสดุที่ประกอบด้วยทองแดง หรือ โลหะผสมทอง แดง โดยใช้โลหะ บัดกรีปราศจากตะกั่ว8. A soldering procedure consisting of contact between a copper or copper alloy material and a water-based mixture of the provisions of Patent 1, and soldering the copper or copper alloy material using lead-free solder. 9. กรรมวิธีเชื่อมบัดกรีที่ประกอบด้วย การสัมผัสวัสดุที่ประกอบด้วยทองแดง หรือ โลหะผสมทองแดงด้วย สารผสมที่มีส่วน ประกอบหลักเป็นน้ำของข้อถือสิทธิ 2 และ การเชื่อมบัดกรีวัสดุที่ประกอบด้วยทองแดง หรือโลหะผสมทอง แดง โดยใช้โลหะ บัดกรีปราศจากตะกั่ว9. A soldering procedure consisting of contact between a copper or copper alloy material and a water-based mixture of Patent 2, and soldering the copper or copper alloy material using lead-free solder. 10. การใช้สารประกอบที่แสดงโดยสูตรทั่วไป (1): (สูตรเคมี) (1) ที่ซึ่ง R1 คือไฮโดรเจน หรือเมธิล, และอย่างใดอย่างหนึ่ง R2 และ R3 ใช้แทนคลอรีน และ R4 และ R5 ใช้แทนไฮโดรเจน, หรือ R2 หรือ R3 ใช้แทนไฮโดรเจน และ R4 และ R5 ใช้แทน คลอรีน, เป็นเสมือน สารสำหรับกระทำกับพื้นผิวทองแดง หรือโลหะ ผสมทองแดง เพื่อการเชื่อมบัดกรีปราศจากตะกั่ว10. Use of the compounds represented by the general formula (1): (chemical formula) (1) where R1 is hydrogen or methyl, and either R2 and R3 substitute for chlorine and R4 and R5 substitute for hydrogen, or R2 or R3 substitute for hydrogen and R4 and R5 substitute for chlorine, as agents for the surfaces of copper or copper alloys for lead-free soldering. 11. สารประกอบอิมิดาโซลที่แสดงโดยสูตรทั่วไป (1): (สูตรเคมี) (1) ที่ซึ่ง R1 คือไฮโดรเจน หรือเมธิล, และอย่างใดอย่างหนึ่ง R2 และ R3 ใช้แทนคลอรีน และ R4 และ R5 ใช้แทนไฮโดรเจน, หรือ R2 และ R3 ใช้แทนไฮโดรเจน และ R4 และ R5 ใช้แทน คลอรีน, ด้วยเงื่อนไขที่ 2-(2,4-ไดคลอโรฟีนิล)-4-ฟี นิล-5-เมธิลอิมิดาโซล ไม่ถูกรวมอยู่ด้วย11. Imidazole compounds represented by the general formula (1): (chemical formula) (1) where R1 is hydrogen or methyl, and either R2 and R3 substitute for chlorine and R4 and R5 substitute for hydrogen, or R2 and R3 substitute for hydrogen and R4 and R5 substitute for chlorine, with the condition that 2-(2,4-dichlorophenyl)-4-phenyl-5-methylimidazole is not included.
TH401000937A 2004-03-18 A new type of imidazole compound And its use TH47183B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH69670A true TH69670A (en) 2005-07-19
TH47183B TH47183B (en) 2015-11-30

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9649713B2 (en) Surface treating composition for copper and copper alloy and utilization thereof
US10398028B2 (en) Surface treating composition for copper and copper alloy and utilization thereof
JP5313044B2 (en) Surface treatment agent for copper or copper alloy and use thereof
JP5845501B2 (en) Etching solution for transparent conductive thin film laminate
TW201617443A (en) Method for manufacturing soldered circuit board, method for manufacturing circuit board having electronic component
EP0643154A2 (en) Composition for treating copper and copper alloy surfaces and method for the surface treatment
WO2011136594A3 (en) Copper and titanium composition for metal layer etching solution
WO2011136597A3 (en) Copper and titanium composition for metal layer etching solution
CN1761773B (en) Novel Imidazole Compounds and Their Utilization
CN109517677B (en) Detergent composition stock solution, and detergent composition containing the same
US3459606A (en) Fluxes for soft soldering
TH47183B (en) A new type of imidazole compound And its use
JP2005349439A (en) Surface treating agent for copper or copper alloy and soldering method
JP2009500842A (en) Preflux composition
JP5336142B2 (en) Solder alloy
JP5301218B2 (en) Surface treatment agent for copper or copper alloy and use thereof
JP5985368B2 (en) Surface treatment solution for copper or copper alloy and use thereof
JP7708701B2 (en) Surface treatment agent for copper or copper alloy
JP6332603B2 (en) Rust preventive composition
RU2008130099A (en) METHOD FOR PROCESSING METAL SURFACES BY CARBOXYLATION, APPLICATION OF THIS METHOD FOR TEMPORARY PROTECTION AGAINST CORROSION AND METHOD OF MANUFACTURE OF A DEFORMED AND CARBOXYLED SHEET
SU715264A1 (en) Flux for soldering and welding
JP7529977B2 (en) Flux composition containing maleic acid modified rosin ester or maleic acid modified rosin amide, flux containing same, and solder paste
RU2599063C1 (en) Chloride flux for soldering
JP2022053501A (en) Flux composition, flux and solder paste
HK40114046A (en) Surface treatment agent for copper or copper alloy