TH58797A - ระบบเลเซอร์แบบดิสชาร์จก๊าซ ชนิดอัตราการซ้ำสูง สองห้อง แถบแคบมาก - Google Patents

Abstract

DC60 (16/10/45) ระบบเลเซอร์แบบดิสชาร์จก๊าซชนิดมอดูลาร์ที่ถูกก่อตัวแบบฉีด ซึ่งสามารถในการผลิตลำ เลเซอร์แบบพัลส์ ที่อัตราพัลส์ประมาณ 4,000 Hz หรือมากกว่า และที่พลังงานพัลส์ประมาณ 5mJ หรือมากกว่า ห้องดิสชาร์จที่แยกกัน สองห้อง ถูกจัดเตรียม หนึ่งของสองห้อง เป็นส่วนหนึ่งของ ออสซิลเลเตอร์หลักใหญ่ ที่ผลิต ลำชนิดก่อตัวแบบแถบแคบมาก ซึ่งถูกขยายในห้องดิสชาร์จที่สอง ห้องสามารถถูกควบคุมอย่างแยกกัน ซึ่งอนุญาตให้มีการหาค่าที่เหมาะสมของพารามิเตอร์ ความยาวคลื่น ใน ออกซิลเลเตอร์หลักใหญ่ และการหาค่าที่เหมาะสมของ พารามิเตอร์พลังงานพัลส์ ในห้องการขยาย อย่างแยกกันได้ องค์รูปที่พึงประสงค์ ในระบบเอกซ์ไซเมอร์ เลเซอร์ ArF ซึ่งถูกจัด โครงแบบเป็น MOPA และถูกออกแบบอย่างเฉพาะพิเศษ สำหรับใช้เป็นแหล่งกำเนิดแสงสำหรับ ลิโธกราฟีวงจรรวม ในองครูป MOPA ที่พึงประสงค์ ห้องแต่ละห้อง ประกอบด้วยพัดลมแบบ แทนเจนต์เชียลเดี่ยว ซึ่งจัดเตรียม การไหลของก๊าซที่เพียงพอ เพื่ออนุญาตให้มีการทำงาน ที่อัตราพัลส์ 4000 Hz หรือมากกว่า โดยการขจัด เศษกระจายจากบริเวณดิสชาร์จในเวลาที่ต่ำกว่าประมาณ 0.25 มิลลิวินาที ระหว่างพัลส์ ออสซิลเลเตอร์หลักใหญ่ถูกจัดให้มีอุปกรณ์ แพกเกจการทำให้เส้นแคบ ซึ่งมีกระจกเงาการจูนที่เร็วมาก มีความสามารถในการควบคุมความยาวคลื่น เส้นกลาง บนมูลฐาน แบบพัลส์ต่อพัลส์ ที่อัตราการซ้ำ 4000 Hz หรือมากกว่า ถึงความเที่ยงที่ต่ำกว่า 0.2 pm ระบบเลเซอร์แบบดิสชาร์จก๊าซชนิดมอดูลาร์ที่ถูกก่อตัวแบบฉีด ซึ่งสามารถในการผลิตลำ เลเซอร์แบบพัลส์ ที่อัตราพัลส์ประมาณ 4,000 Hz หรือมากกว่า และที่พลังงานพัลส์ประมาณ 5mJ หรือมากกว่า ห้องดิสชาร์ที่แยกกัน สองห้อง ถูกจัดเตรียม หนึ่งของสองห้อง เป็นส่วนหนึ่งของ ออสซิลเลเตอร์หลักใหญ่ ที่ผลิต ลำชนิดก่อตัวแบบแถบแคบมาก ซึ่งถูกขยายในห้องดิสชาร์จที่สอง ห้องสามารถถูกควบคุมอย่างแยกกัน ซึ่งอนุญาตให้มีการหาค่าที่เหมาะสมของพารามิเตอร์ ความยาวคลื่น ใน ออกซิลเลเตอร์หลักใหญ่ และการหาค่าที่เหมาะสมของ พารามิเตอร์พลังงานพัลส์ ในห้องการขยาย อย่างแยกกันได้ องค์รูปที่พึงกระสงค์ ในระบบเอกซ์ไซเมอร์ เลเซอร์ ArF ซึ่งถูกจัด โครงแบบเป็น MOPA และถูกออกแบบอย่างเฉพาะพิเศษ สำหรับใช้เป็นแหล่งกำเนินแสงสำหรับ ลิ โธกราฟีวงจรรวม ในองครูป MOPA ที่พึงประสงค์ ห้องแต่ละห้อง ประกอบด้วยพัดลมแบบ แทนเจนต์เชียลเดี่ยว ซึ่งจัดเตรียม การไหลของก๊าซที่เพียงพอ เพื่ออนุญาตให้มีการทำงาน ที่อัตราพัลส์ 4000 Hz หรือมากกว่า โดยการขจัด เศษกระจายจากบริเวณดิสชาร์จในเวลาที่ต่ำกว่าประมาณ 0.25 มิลลิวินาที ระหว่างพัลส์ ออสซิลเลเตอร์หลักใหญ่ถูกจัดให้มีอุปกรณ์ แพกเกจการทำให้เส้นแคบ ซึ่งมีกระจกเงาการจูนที่เร็วมาก มีความสามารถในการควบคุมความยาวคลื่น เส้นกลาง บนมูลฐาน แบบพัลส์ต่อพัลส์ ที่อัตราการซ้ำ 4000 Hz หรือมากกว่า ถึงความเที่ยงที่ต่ำกว่า 0.2 pm

Claims (77)

1. ระบบเลเซอร์แบบดิสชาร์จก๊าซ ชนิดอัตราการซ้ำสูง สองห้อง แถบแคบมาก ประกอบด้วย A) หน่วยเลเซอร์ที่หนึ่ง ประกอบด้วย 1) ห้องดิสชาร์จที่หนึ่ง ซึ่งบรรจุ a) ก๊าซเลเซอร์ที่หนึ่ง b) คู่ที่หนึ่งของ อิเล็กโทรดที่ถูกเว้นระยะห่างและถูกยืดตัว ซึ่งนิยาม บริเวณดิสชาร์จที่หนึ่ง 2) พัดลมที่หนึ่ง สำหรับ การผลิตความเร็วก๊าซที่เพียงพอของ ก๊าซเลเซอร์ที่หนึ่งดังกล่าว ในบริเวณดิสชาร์จที่หนึ่งดังกล่าว ให้ปราศจาก บริเวณดิสชาร์จที่หนึ่งดังกล่าว ตามหลังพัลส์แต่ละ พัลส์ การดิสชาร์จทั้งหมด ผลิต ไอออน ก่อนพัลส์ถัดไปอย่างมาก เมื่อทำงานที่อัตราการซ้ำในพิสัย ของ 4,000 พัลส์ต่อวินาที หรือมากกว่า 3) ระบบตัวแลกเปลี่ยนความร้อน ที่สามารถเอาอย่างน้อย 16 kw ของพลังงานความร้อน ออกจากก๊าซเลเซอร์ที่หนึ่ง 4) หน่วยการทำให้เส้นแคบ สำหรับการทำให้ แถบความถี่สเปกตรัม ของ พัลส์แสงที่ถูกผลิตใน ห้องดิสชาร์จที่หนึ่งดังกล่าว แคบลง B) หน่วยเลเซอร์สอง ประกอบด้วย 1) ห้องดิสชาร์จที่สอง ซึ่งบรรจุ a) ก๊าซเลเซอร์ที่สอง b) คู่ที่สองของ อิเล็กโทรดที่ถูกเว้นระยะห่างและถูกยืดตัว ซึ่งนิยาม บริเวณดิสชาร์จที่สอง 2) พัดลมที่สอง สำหรับ การผลิตความเร็วก๊าซที่เพียงพอของ ก๊าซเลเซอร์ที่หนึ่งดังกล่าว ในบริเวณดิสชาร์จที่สองดังกล่าว ให้ปราศจาก บริเวณดิสชาร์จที่สองดังกล่าว ตามหลังพัลส์แต่ละพัลส์ การดิสชาร์จทั้งหมด ผลิต ไอออน ก่อนพัลส์ถัด ไปอย่างมาก เมื่อทำงานที่อัตราการซ้ำในพิสัยของ 4,000 พัลส์ต่อวินาที หรือมากกว่า 3) ระบบตัวแลกเปลี่ยนความร้อน ที่สามารถเอาอย่างน้อย 16 kw ของพลังงานความร้อน ออกจากก๊าซเลเซอร์ที่สอง C) ระบบพัลส์กำลังที่ถูกจัดโครงแบบ เพื่อจัดเตรียมพัลส์เชิงไฟฟ้า ให้กับ คู่หนึ่งของอิเล็กโทรด ดังกล่าวและให้กับคู่ที่สองของอิเล็กโทรดดังกล่าว เพื่อผลิตพัลส์เลเซอร์ ที่อัตราประมาณ 4,000 พัลส์ ต่อวินาทีร่วมกับ พลังงานพัลส์ที่ถูกควบคุมอย่างเที่ยง ค่าเกินประมาณ 5 mJ และ D) ระบบควบคุมและการวัดลำเลเซอร์ ของ การวัดพลังงานพัลส์ ความยาวคลื่น และแถบความถี่ ของพัลส์เอาท์พุทของเลเซอร์ ที่ผลิตโดย ระบบเลเซอร์แบบสองห้อง ดังกล่าว และการควบคุม พัลส์ เอาท์พุทของเลเซอร์ดังกล่าว ในการจัดการควบคุมป้อนกลับ

2. ระบบเลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ในที่ซึ่ง หน่วยเลเซอร์ที่หนึ่งดังกล่าว ถูกจัดโครงแบบ เป็นออสซิลเลเตอร์หลักใหญ่ และหน่วยเลเซอร์ที่หนึ่งดังกล่าว ถูกจัดโครงแบบเป็นวงจรขยายกำลัง

3. ระบบเลเซอร์ ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ในที่ซึ่ง ก๊าซเลเซอร์ประกอบด้วย อาร์กอน ฟลูออไรด์ และนีออน

4. ระบบเลเซอร์ ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ในที่ซึ่ง ก๊าซเลเซอร์ประกอบด้วย คริปตอน ฟลูออรีน และนีออน

5. ระบบเลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ในที่ซึ่ง ฟลูออรีน และก๊าซบัฟเฟอร์ซึ่งถูกเลือกจาก กลุ่มที่ประกอบด้วย นีออน ฮีเลียม หรือสารผสมของนิออน และฮีเลียม

6. ระบบเลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ในที่ซึ่ง วงจรขยายกำลังดังกล่าว ถูกจัดโครงแบบ สำหรับ การผ่านลำสองลำ สู่บริเวณดิสชาร์จที่สอง

7. ระบบเลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ในที่ซึ่ง วงจรขยายกำลังดังกล่าว ถูกจัดโครงแบบ การผ่านลำสี่ลำ สู่บริเวณดิสชาร์จที่สอง

8. ระบบเลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ในที่ซึ่ง ออสซิลเลเตอร์หลักใหญ่ดังกล่าว ถูกจัด โครงแบบเพื่อจัดเตรียม วิถีเรโซแนนซ์ ที่ทำให้มีการผ่านลำสองลำ สู่บริเวณดิสชาร์จที่หนึ่งดังกล่าว

9. ระบบเลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ในที่ซึ่ง ออกซิสเลเตอร์หลักใหญ่ดังกล่าว ถูกจัด โครงแบบเพื่อจัดเตรียม วิถีเรโซแนนซ์ ที่ทำให้มีการผ่านลำสองลำ สู่บริเวณดิสชาร์จที่หนึ่งดังกล่าว และในที่ซึ่งวงจรขยายกำลังดังกล่าว ถูกจัดโครงแบบสำหรับการผ่านลำสี่ลำ สู่บริเวณดิสชาร์จที่สอง

10. ระบบเลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 และประกอบต่อไปด้วยถึง โต๊ะทางแสงสำหรับการค้ำ เลนส์ทางแสงของโพรงเร โซแนนซ์ ของหน่วยเลเซอร์ที่หนึ่งดังกล่าว อย่างเป็นอิสระกับ ห้องดิสชาร์จ ที่หนึ่ง

11. ระบบเลเซอร์ ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 7 ในที่ซึ่ง โต๊ะทางแสงดังกล่าว โดยทั่วไป เป็นรูปตัว U และนิยาม โพรงรูปตัว U และในที่ซึ่ง ห้องดิสชาร์จที่หนึ่งดังกล่าว ถูกติดตั้งภายใน โพรงรูปตัว U

12. ระบบเลเซอร์ ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 และประกอบต่อไปด้วยถึง โต๊ะทางแสงที่ถูกติดตั้ง อย่างแนวตั้ง ที่มีห้องดิสชาร์จที่หนึ่งและที่สอง ดังกล่าว ถูกติดตั้งบนโต๊ะทางแสงแนวตั้ง

13. ระบบเลเซอร์ ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ในที่ซึ่ง แต่ละห้องเลเซอร์ที่หนึ่ง และที่สอง นิยาม วิถีการไหลของก๊าซ ที่มี การเพิ่มภาคตัดขวางอย่างค่อยเป็นค่อยไป ในขาลงของอิเล็ก โทรดดัง กล่าว เพื่ออนุญาตให้มีการฟื้นตัว ในเปอร์เซ็นต์ที่ใหญ่ของ การตกลงของความดัน ที่เกิดขึ้น ในบริเวณ ดิสชาร์จ

14. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 2 และในที่ซึ่ง ห้องดังกล่าวก็ประกอบด้วย โครงสร้างใบจักร ในขาขึ้นของบริเวณดิสชาร์จดังกล่าว สำหรับการนอร์แมลไลซ์ ความเร็วก๊าซ ขาขึ้นของบริเวณ ดิสชาร์จดังกล่าว

15. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ในที่ซึ่ง พัดลมที่หนึ่งดังกล่าว และพัดลมที่สองดังกล่าว แต่ละ ตัวเป็น พัดลมแบบแทนเจนต์เชียลและแต่ละอันประกอบด้วย เพลาหมุนซึ่งถูกขับโดย มอเตอร์ DC แบบไร้แปลง สองตัว

16. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 15 ในที่ซึ่ง มอเตอร์ดังกล่าว คือ มอเตอร์ที่ถูกหล่อเย็นด้วยน้ำ

17. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 15 ในที่ซึ่ง แต่ละตัวของมอเตอร์ดังกล่าว ประกอบด้วยตัวอยู่ กับที่ และแต่ละตัวของมอเตอร์ดังกล่าว ประกอบด้วย ตัวหมุนแบบแม่เหล็ก ที่ถูกบรรจุอยู่ในถ้วย ความดัน ซึ่งจะแยก ตัวอยู่กับที่ดังกล่าว ออกจาก ก๊าซเลเซอร์ดังกล่าว

18. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ในที่ซึ่ง พัดลมที่หนึ่ง และที่สอง ดังกล่าว แต่ละตัวเป็นพัดลม แบบแทนเจนต์เชียล แต่ละตัวประกอบด้วย โครงสร้างใบมีด ซึ่งใช้เครื่องทำจาก โลหะอลูมิเนียมดัง กล่าว

19. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 15 ในที่ซึ่ง โครงสร้างใบมีดดังกล่าว มีเส้นผ่าศูนย์กลาง ด้านนอก ประมาณห้านิ้ว

20. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 19 ในที่ซึ่ง โครงสร้างใบมีดดังกล่าวประกอบด้วย องค์ประกอบ แบบมีดที่มีขอบหน้าที่คม

21. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 15 ในที่ซึ่ง มอเตอร์ดังกล่าวเป็น มอเตอร์แบบไร้ตัวตรวจรู และ ประกอบต่อ ไปด้วยถึง ตัวควบคุมมอเตอร์แม่ สำหรับการควบคุม ตัวหนึ่งของมอเตอร์ดังกล่าว และตัว ควบคุมมอเตอร์ลูก สำหรับการควบคุมมอเตอร์ตัวอื่น

22. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 15 ในที่ซึ่ง แต่ละตัวของพัดลมแบบแทนเจนท์เชียลดังกล่าว ประกอบด้วย ใบมีด ซึ่งถูกวางทำมุม เมื่อเทียบกับ แกนดังกล่าว

23. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 15 ในที่ซึ่ง ระบบตัวแลกเปลี่ยนความร้อนแบบครีบ แต่ละ ระบบถูกหล่อเย็นด้วยน้ำ

24. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 23 ในที่ซึ่ง ระบบตัวแลกเปลี่ยนความร้อนแต่ละระบบ ประกอบ ด้วยอย่างน้อย ตัวแลกเปลี่ยนความร้อนแบบหล่อเย็นด้วยน้ำ ที่แยกกัน สี่ตัว

25. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 23 ในที่ซึ่ง ระบบตัวแลกเปลี่ยนความร้อนแต่ละระบบ ประกอบ ด้วยอย่างน้อย ตัวแลกเปลี่ยนความร้อนหนึ่งตัว ที่มีทางผ่านกาไหลของน้ำแบบท่อ ในที่ซึ่ง เทอร์บิวเลเตอร์อย่างหนึ่งตัว ถูกตั้งอยู่ในวิถีดังกล่าว

26. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 25 ในที่ซึ่ง แต่ละตัวของตัวแลกเปลี่ยนความร้อนสี่ตัว ดังกล่าว ประกอบด้วย ทางผ่านการไหลของน้ำแบบท่อที่บรรจุเทอร์บิวเลเตอร์

27. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ในที่ซึ่ง ระบบกำลังพัลส์ดังกล่าว ประกอบด้วย ส่วนประกอบ เชิงไฟฟ้าแบบหล่อเย็นด้วยน้ำ

28. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 27 ในที่ซึ่ง อย่างน้อย หนึ่งส่วนประกอบ แบบหล่อเย็นด้วยน้ำดังกล่าว คือ ส่วนประกอบที่ทำงานที่ แรงดันเกิน 12,000 โวลต์

29. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 28 ในที่ซึ่ง แรงดันสูงดังกล่าว ถูกแยกโดด จากกราว์ดโดยใช้ ตัวเหนี่ยวนำ โดยที่ซึ่ง น้ำการหล่อเย็น ไหลผ่าน

30. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ในที่ซึ่ง ระบบกำลังพัลส์ดังกล่าว ประกอบด้วย ระบบการ ชาร์จแบบเรโซแนนซ์ ในการชาร์จ ตัวเก็บประจุการชาร์จ ให้ถึงแรงดันที่ถูกควบคุมอย่างเที่ยง

31. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 30 ในที่ซึ่ง ระบบการชาร์จแบบเรโซแนนซ์ดังกล่าว ประกอบ ด้วยวงจร De-Qing

32. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 30 ในที่ซึ่ง ระบบการชาร์จแบบเรโซแนนซ์ดังกล่าว ประกอบ ด้วยวงจรระบาย

33. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 30 ในที่ซึ่ง ระบบการชาร์จแบบเรโซแนนซ์ดังกล่าว ประกอบ ด้วยวงจร De-Qing และวงจรระบาย

34. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ในที่ซึ่ง ระบบกำลังพัลส์ดังกล่าว ประกอบด้วยระบบการ ชาร์จที่ประกอบด้วย แหล่งจ่ายกำลังอย่างน้อยสามแหล่ง ที่ถูกจัดแบบขนาน

35. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ในที่ซึ่ง การวัดลำเลเซอร์ และระบบควบคุมประกอบด้วย หน่วยอีทาลอน แถวลำดับได โอดพลังแสง อุปกรณ์ลอจิกแบบโปรแกรมได้และเลนส์ทางแสง เพื่อ โฟกัส แสงเลเซอร์ จาก หน่วยอีทาลอนดังกล่าว ลงบน แถวลำดับไตโอดพลังแสงดังกล่าว ในที่ซึ่ง อุปกรณ์ลอจิกแบบโปรแกรมได้ดังกล่าว ถูกโปรแกรมเพื่อวิเคราะห์ ข้อมูลจากแถวลำดับไดโอด พลังแสง ดังกล่าว เพื่อพิจารณากำหนดที่ตั้งบนแถวลำดับไดโอดพลังแสง ดังกล่าว ของลายเส้น อีทาลอน

36. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 35 ในที่ซึ่ง ระบบการควบคุม และการวัด ประกอบด้วย ไมโครโปรเซสเซอร์ ที่ถูกโปรแกรมให้คำนวณ ความยาวคลื่น และแถบความถี่จาก ข้อมูลลายเส้น ซึ่งถูกวางตำแหน่งโดย อุปกรณ์ลอจิกแบบโปรแกรมได้ดังกล่าว

37. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 35 ในที่ซึ่ง อุปกรณ์ลอจิกแบบโปรแกรมได้ดังกล่าว ถูกโปรแกรมด้วยขั้นตอนวิธีสำหรับ การคำนวณ ความยาวคลื่น และแถบความถี่ ที่มีฐานบนการวัด ของลายเส้นดังกล่าว

38. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 37 ในที่ซึ่ง อุปกรณ์ลอจิกแบบโปรแกรมได้ดังกล่าว ถูกจัด โครงแบบให้ทำการคำนวณ ความยาวคลื่น และแถบความถี่ ที่เร็วกว่า 1/4,000 ของวินาที

39. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 35 ในที่ซึ่ง หน่วยอีทาลอนประกอบด้วย องค์ประกอบการแพร่ แบบหักเห

40. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 และประกอบต่อไปด้วยถึง หน่วยการทำให้เส้นแคบ ที่ประกอบด้วยกระจกเงาการจูนซึ่งถูกขับอย่างน้อยในบางส่วน โดยตัว PZT

41. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 40 ในที่ซึ่ง กระจกเงาการจูนดังกล่าว ก็ถูกขับในบางส่วน โดยสเตปเปอร์มอเตอร์ ด้วย

42. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 40 และประกอบต่อไปด้วยถึง วิธีทางการจูนไว้ล่วงหน้า

43. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 40 และประกอบต่อไปด้วยถึง วิธีทางการจูนแบบไวงาน ซึ่ง ประกอบด้วย ขั้นตอนวิธีการเรียนรู้

44. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 40 และประกอบต่อไปด้วยถึง ขั้นตอนวิธีการป้อนไปหน้าแบบ ปรับตัว

45. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 40 ในที่ซึ่ง หน่วยการทำให้เส้นแคบดังกล่าว ประกอบด้วย เกรตติง ที่นิยาม หน้าเกรตติง และวิธีทางการถ่ายเท สำหรับการบังคับ ก๊าซถ่ายเทที่ประชิดกับหน้า เกรตติงดังกล่าว

46. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ในที่ซึ่ง หน่วยการทำให้เส้นแคบดังกล่าว ประกอบด้วย ตัวแผ่ ขยายลำแบบสี่ปริซึม ซึ่งถูกจัดโครงแบบเพื่อแผ่ขยายลำในทิศเดี่ยว ด้วยแฟคเตอร์ประมาณ 45

47. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 40 ในที่ซึ่ง ก๊าซถ่ายเทดังกล่าว คือฮีเลียม

48. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ในที่ซึ่ง และประกอบต่อไปด้วยถึง ระบบถ่ายเทไนโตรเจน ที่ประกอบด้วยระบบถ่ายเทไนโตรเจน ซึ่งประกอบด้วย เครื่องกรองไนโตรเจน

49. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 และประกอบต่อไปด้วยถึง ระบบถ่ายเทไนโตรเจนที่ประกอบ ด้วย โมดูลถ่ายเท ซึ่งประกอบด้วย ตัวเฝ้าตรวจการไหลดังกล่าว เลเซอร์ก็ประกอบด้วย หลอดปล่อย การถ่ายเทออก สำหรับการขนย้าย ก๊าซถ่ายเทที่ปล่อยออก จากเลเซอร์ดังกล่าว

50. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 และประกอบต่อไปด้วยถึงหน่วยชัตเตอร์ ซึ่งประกอบด้วย ชัดเตอร์แบบทำงานเชิงไฟฟ้า และมาตรวัดกำลัง ซึ่งสามารถถูกวางตำแหน่งใน วิถีลำเอาท์พุทเลเซอร์ ด้วยสัญญาณคำสั่ง

51. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 และประกอบต่อไปด้วยถึงระบบที่ล้อมลำ ซึ่งจัดเตรียมการชีล ลำที่หนึ่ง ระหว่างหน้าต่างที่หนึ่งของห้องที่หนึ่ง และหน่วยการทำให้เส้นแคบ และการซีลลำที่สอง ระหว่างหน้าต่างที่สองของห้องที่หนึ่ง และหน่วยตัวเชื่อมต่อเอาท์พุทการซีลลำดังกล่าว แต่ละอัน ประกอบด้วย ส่วนพับยืดแบบโลหะ

52. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 51 ในที่ซึ่ง แต่ละของ การซีลลำ ที่หนึ่ง และที่สอง ดังกล่าวถูกจัดโครงแบบ เพื่ออนุญาตให้มีการเปลี่ยนแทนที่ง่าย ของห้องเลเซอร์ดังกล่าว

53. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 51 ในที่ซึ่ง แต่ละของ การซีลลำ ดังกล่าว ปราศจากการบรรจุ สารยืดหยุ่น จัดเตรียมการแยกโดยการสั่น จากห้องดังกล่าว จัดเตรียมการแยกโดดขบวนลำจากก๊าซ บรรยากาศ และอนุญาตให้มีการเปลี่ยนแทนอย่างไม่จำกัดของ ห้องเลเซอร์ดังกล่าว โดยปราศจากการ รบกวนของ LNP ดังกล่าว หรือหน่วยตัวเชื่อมต่อเอาท์พุทดังกล่าว

54. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 51 ในที่ซึ่ง ระบบที่ล้อมลำดังกล่าว ประกอบด้วยการซีลแบบเข้า กันได้กับสูญญากาศ

55. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 54 ในที่ซึ่ง จำนวนมาก ของ การซีลดังกล่าว คือการซีลชนิด ส่วนพับยืดที่ซีล ได้อย่างง่าย ซึ่งถูกจัดโครงแบบสำหรับการเอาออกได้อย่างง่ายโดยมือ

56. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ในที่ซึ่ง ระบบการควบคุมและการวัด ประกอบด้วย ตัวแยกลำ ปฐมภูมิ สำหรับการแยก เปอร์เซ็นต์ที่เล็กน้อยของ พัลส์เอาท์พุท จากเลเซอร์ดังกล่าวตัวแยกลำที่สอง สำหรับการนำทาง ส่วนหนึ่งของ เปอร์เซ็นต์ที่เล็กน้อยดังกล่าว ไปยังตัวตรวจจับพลังงานพัลส์ ดังกล่าว และวิธีทาง ที่แยกโดด แบบมีขอบเขตเชิงปริมาตร ตัวแยกลำปฐมภูมิดังกล่าวตัวแยกลำ ทุติยภูมิดังกล่าว และหน้าต่างของตัวตรวจจับพลังานดังกล่าว จาก ส่วนอื่น ๆ ของ ระบบการควบคุม และการวัด เพื่อนิยาม บริเวณที่ถูกแยกโดด

57. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 56 และประกอบต่อไปด้วยถึง วิธีทางการถ่ายเท สำหรับการ ถ่ายเท บริเวณที่ถูกแยก โดดดังกล่าว ด้วยก๊าซถ่ายเท

58. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 57 ในที่ซึ่ง เลเซอร์ดังกล่าว ประกอบต่อไปด้วยถึง หน่วยตัว เชื่อมต่อเอาท์พุทและหน่วยหน้าต่างเอาท์พุท วิธีทางการถ่ายเทดังกล่าว ถูกจัดโครงแบบ เพื่อว่าการ ปล่อยออก จากบริเวณที่ถูกแยกโดดดังกล่าว จะถ่ายเท หน่วยตัวเชื่อมต่อเอาท์พุทดังกล่าว และหน่วย หน้าต่างเอาท์พุทดังกล่าวด้วย

59. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ในที่ซึ่ง ระบบดังกล่าวถูกจัดโครงแบบ เพื่อทำงาน โดยระบบ เลเซอร์ KrF ระบบเลเซอร์ ArF หรือระบบเลเซอร์ F2 ที่มีการดัดแปลงเล็กน้อย ระบบใดระบบหนึ่ง

60. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ในที่ซึ่ง ส่วนประกอบทั้งหมดถูกบรรจุในที่ล้อมเลเซอร์ อย่างมาก แต่ระบบดังกล่าว ประกอบด้วย โมดูล AC/DC ที่แยกอย่างเชิงภายภาพ จากที่ล้อม

61. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ในที่ซึ่ง ระบบกำลังพัลส์ดังกล่าว ประกอบด้วย กลุ่มตัวเก็บ ประจุการชาร์จของออสซิลเลเตอร์ หลักใหญ่ และกลุ่มตัวเก็บประจุการชาร์จของวงจรขยายกำลัง และ ตัวชาร์จแบบเรโซแนนซ์ที่ถูกจัดโครงแบบให้ชาร์จ กลุ่มตัวเก็บประจุการชาร์จ ทั้งสอง อย่างขนาน

62. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 61 ในที่ซึ่ง ระบบกำลังพัลส์ดังกล่าว ประกอบด้วยแหล่งจ่าย กำลัง ที่ถูกจัด โครงแบบ เพื่อจัดให้มีอย่างน้อย 2000 V จ่ายให้กับการชาร์จแบบเรโซแนนซ์ ดังกล่าว

63. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 และประกอบต่อไปด้วยถึง ระบบควบคุมก๊าซ สำหรับการ ควบคุมความเข้มข้น F2 ในก๊าซเลเซอร์ที่หนึ่งดังกล่าว เพื่อควบคุมพารามิเตอร์ลำของออสซิลเลเตอร์ หลักใหญ่

64. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 และประกอบต่อไปด้วยถึง ระบบควบคุมก๊าซ สำหรับการ ความดันก๊าซเลเซอร์ ในก๊าซเลเซอร์ที่หนึ่งดังกล่าว เพื่อควบคุมพารามิเตอร์ลำของออกซิลเลเตอร์ หลักใหญ่

65. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 2 และประกอบต่อไปด้วยถึง ตัวควบคุมการตั้งเวลาการดิสชาร์จ สำหรับการจุดชนวน การดิสชาร์จ ใน วงจรขยายกำลัง ให้เกิดขึ้นระหว่าง 20 และ 60 ns หลังการ ดิสชาร์จ ในออสซิลเลเตอร์หลักใหญ่ดังกล่าว

66. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 2 และประกอบต่อไปด้วยถึง ตัวควบคุมการดิสชาร์จที่ถูก โปรแกรม เพื่อทำให้ ในบางสถานการณ์ การดิสชาร์จ ถูกจับเวลา เพื่อหลักเลี่ยงพลังงานพัลส์เอาท์พุท ที่มีนัยสำคัญใด ๆ

67. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 66 ในที่ซึ่ง ตัวควบคุมดังกล่าว ในบางสถานการณ์ดังกล่าว ถูก โปรแกรม เพื่อทำให้เกิด การดิสชาร์จใน วงจรขยายกำลังดังกล่าว อย่างน้อย 20 ns ก่อน การดิสชาร์จ ในออสซิลเลเตอร์หลักใหญ่ดังกล่าว

68. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 และประกอบต่อไปด้วยถึง หน่วยตัวคูณพัลส์ สำหรับการเพิ่ม ช่วงเวลา ของพัลส์เอาท์พุท จากเลเซอร์ดังกล่าว

69. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 68 ในที่ซึ่ง หน่วยตัวคูณพัลส์ ถูกจัดเพื่อรับ ลำเลเซอร์พัลส์ เอาท์พุทดังกล่าวและเพื่อคูณ จำนวนของพัลส์ต่อวินาที อย่างน้อยด้วย แฟกเตอร์สอง เพื่อเป็นการผลิต ลำพัลส์เอาท์พุทของตัวคูณเดี่ยว ที่ประกอบด้วย จำนวนที่ใหญ่กว่า ของพัลส์กับค่าความเข้มที่ถูกลดลง อย่างมาก เมื่อเทียบกับ พัลส์เอาท์พุทเลเซอร์ และหน่วยตัวคูณพัลส์ ประกอบด้วย (1) ตัวแยกลำที่หนึ่ง ถูกจัดเพื่อให้แยก ส่วนหนึ่งของลำเอาท์พุทดังกล่าว ส่วนที่ถูกแยก นิยามถึง ส่วนที่ถูกหน่วงเวลา และลำเอาท์พุท นิยามถึงขนาดลำ และการแผ่เชิงมุม ที่ตัวแยกลำที่หนึ่ง (2) วิถีแบบหน่วงเวลาที่หนึ่ง มีต้นกำเนิด และสิ้นสุด ที่ ตัวแยกลำที่หนึ่งดังกล่าว วิถีแบบหน่วง เวลาที่หนึ่งดังกล่าวประกอบด้วย อย่างน้อย กระจกเงาโฟกัส สองอัน กระจกเงาดังกล่าวถูกจัดเพื่อให้ โฟกัส ส่วนที่ถูกหน่วงเวลาดังกล่าว ที่จุดโฟกัส ภายใน วิถีแบบหน่วงเวลาที่หนึ่งดังกล่าวและเพื่อย้อน ส่วนที่ถูกหน่วงเวลาดังกล่าว กลับไปยัง ตัวแยกลำที่หนึ่งดังกล่าว ด้วยขนาดลำ และการแผ่เชิงมุมที่ เท่ากับหรืออย่างประมาณเท่ากับขนาดลำ และการแผ่เชิงมุมของลำเอาท์พุท ที่ ตัวแยกลำที่หนึ่ง ดังกล่าว

70. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 69 ในที่ซึ่ง กระจกเงาโฟกัสดังกล่าวอย่างน้อยสองอันเป็น กระจกเงาทรงกลม

71. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 69 และประกอบต่อไปอีกด้วยถึง วิถีแบบหน่วงเวลาที่สอง ซึ่ง ประกอบด้วย กระจกเงาทรงกลม อย่างน้อยสองอัน

72. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 69 ในที่ซึ่ง วิถีหน่วงเวลาที่หนึ่งดังกล่าวประกอบด้วยกระจกเงา โฟกัส สี่อัน

73. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 72 และประกอบต่อไปด้วยถึงวิถีหน่วงเวลาที่สองดังกล่าวซึ่งถูก สร้างขึ้นโดย ตัวแยกลำที่สอง ที่ตั้งอยู่ใน วิถีแบบหน่วงเวลาที่หนึ่งดังกล่าว

74. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 69 ในที่ซึ่ง วิถีแบบหน่วงเวลาที่หนึ่งดังกล่าว ประกอบด้วย ตัว แยกลำที่สอง และประกอบต่อไปด้วยถึง วิถีแบบหน่วงเวลาที่สอง ประกอบด้วย กระจกเงาโฟกัสอย่าง น้อยสองอัน กระจกเงาดังกล่าว ถูกจัดเพื่อให้โฟกัส ส่วนที่ถูกหน่วงเวลาดังกล่าว ที่จุดโฟกัส ภายใน วิถีแบบหน่วงเวลาที่หนึ่งดังกล่าว และเพื่อย้อน ส่วนที่ถูกหน่วงเวลา กลับไปยังตัวแยกลำที่หนึ่ง ดังกล่าว ด้วย ขนาดลำ และการแผ่เชิงมุมที่เท่ากันกับ หรืออย่างประมาณเท่ากันกับ ขนาดลำและการ แผ่เชิงมุม ของลำเอาท์พุท ที่ตัวแยกลำที่หนึ่งดังกล่าว

75. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 69 ในที่ซึ่ง ตัวแยกลำที่หนึ่งดังกล่าว ถูกจัดโครงแบบเพื่อนำทาง ลำเลเซอร์ในอย่างน้อย สองทิศทาง โดยใช้ประโยชน์ คุณสมบัติทางแสงของการสะท้อนภายในแบบ ขัดขวาง

76. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 69 ในที่ซึ่ง ตัวแยกลำที่หนึ่งดังกล่าว ประกอบด้วยองค์ประกอบ ทางแสงแบบโปร่งใส แต่ละองค์ประกอบมี พื้นผิวแบน องค์ประกอบทางแสงดังกล่าว ถูกวางตำแหน่ง กับพื้นผิวดังกล่าว ให้ขนานกัน และถูกแยกห่างกันต่ำกว่า 200 nm

77. เลเซอร์ดังในข้อถือสิทธิข้อที่ 69 ในที่ซึ่ง ตัวแยกลำที่หนึ่งดังกล่าวคือ องค์ประกอบทางแสง แบบไม่เคลือบ ซึ่งถูกจัดวางทิศทาง ที่ทำมุมกับ ลำเลเซอร์เอาท์พุทเพื่อเป็นการให้ได้มาซึ่ง อัตราการ สะท้อน-การส่ง ที่ปรารถนา