TH55084A3 - Epoxy resin and semiconductor devices sealed with this element. - Google Patents

Epoxy resin and semiconductor devices sealed with this element.

Info

Publication number
TH55084A3
TH55084A3 TH9901001404A TH9901001404A TH55084A3 TH 55084 A3 TH55084 A3 TH 55084A3 TH 9901001404 A TH9901001404 A TH 9901001404A TH 9901001404 A TH9901001404 A TH 9901001404A TH 55084 A3 TH55084 A3 TH 55084A3
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
weight
epoxy resin
less
curing
nuclei
Prior art date
Application number
TH9901001404A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH32566C3 (en
Inventor
ไฮกุชิ โนริอากิ
ฟูทัตสึโมริ โคจิ
ฮูอี เคียว เชียต
เต็ง เตียว ฮุย
ชิโอบาระ โตชิโอะ
Original Assignee
นายธีรพล สุวรรณประทีป
นายมนูญ ช่างชำนิ
Filing date
Publication date
Application filed by นายธีรพล สุวรรณประทีป, นายมนูญ ช่างชำนิ filed Critical นายธีรพล สุวรรณประทีป
Publication of TH55084A3 publication Critical patent/TH55084A3/en
Publication of TH32566C3 publication Critical patent/TH32566C3/en

Links

Abstract

DC60 (15/12/42) ในองค์ประกอบอิพอกซีเรซินที่ประกอบด้วยอิพอกซีเรซิน สารบ่มอยู่ตัว และ 70% โดยน้ำหนัก ของสารเติมเต็มอนินทรีย์ อย่างน้อยหนึ่งอย่างของอิพอกซีเรซินและสารบ่มอยู่ตัวมีการกระจายน้ำหนัก โมเลกุลในลักษณะที่จัดเตรียมการแพร่กระจายเฉลี่ย Mw/Mn อย่างน้อย 1.6 ปริมาณของสารประกอบที่ มีสองนิวเคลียสน้อยกว่า 8% โดยน้ำหนักและปริมาณของสารประกอบที่มีเจ็ดนิวเคลียสหรือมากกว่า น้อยกว่า 32% โดยน้ำหนัก เมื่อองค์ประกอบดังกล่าวได้รับการบ่มอยู่ตัวที่ 180 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 90 วินาทีเป็นผลิตภัณฑ์ปฐมภูมิที่มีค่า Tg1 และผลิตภัณฑ์ปฐมภูมิดังกล่าวได้รับการบ่มอยู่ตัวในภาย หลังที่ 180 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 5 ชั่วโมงเป็นผลิตภัณฑ์ทุติยภูมิที่มีค่า Tg2 โดยเป็นไปตามความ สัมพันธ์ (Tg2-Tg1)/Tg2 < 0.1 องค์ประกอบดังกล่าวมีการบ่มอยู่ตัวเร็วและสามารถใช้แบบหล่อได้ อย่างมีประสิทธิผลและบ่มอยู่ตัวเป็นผลิตภัณฑ์ที่เชื่อถือได้โดยไม่จำเป็นต้องมีการบ่มอยู่ตัวในภายหลัง ในองค์ประกอบอิพอกซีเรซินที่ประกอบด้วยอิพอกซีเรซิน สารบ่มอยู่ตัว และ 70% โดยน้ำหนัก ของสารเติมเต็มอนินทรีย์ อย่างน้อยหนึ่งอย่างของอิพอกซีเรซินและสารบ่มอยู่ตัวมีการกระจายน้ำหนัก โมเลกุลในลักษณะที่จัดเตรียมการแพร่กระจายเฉลี่ย Mw/Mn อย่างน้อย 1.6 ปริมาณของสารประกอบที่ มีสองนิวเคลียสน้อยกว่า 8% โดยน้ำหนักและปริมาณของสารประกอบที่มีเจ็ดนิวเคลียสหรือมากกว่า น้อยกว่า 32% โดยน้ำหนัก เมื่อองค์ประกอบดังกล่าวได้รับการบ่มอยู่ตัวที่ 180 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 90 วินาทีเป็นผลิตภัณฑ์ปฐมภูมิที่มีค่า Tg1 และผลิตภัณฑ์ปฐมภูมิดังกล่าวได้รับการบ่มอยู่ตัวในภาย หลังที่ 180 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 5 ชั่วโมงเป็นผลิตภัณฑ์ทุติยภูมิที่มีค่า Tg2 โดยเป็นไปตามความ สัมพันธ์: (Tg2-Tg1)/Tg2 น้อยกว่า 0.1 องค์ประกอบดังกล่าวมีการบ่มอยู่ตัวเร็วและสามารถใช้แบบหล่อได้ อย่างมีประสิทธิผลและป่มอยู่ตัวเป็นผลิตภัณฑ์ที่เชื่อถือได้โดยไม่จำเป็นต้องมีการบ่มอยู่ตัวในภายหลัง: DC60 (15/12/42) in epoxy resin-containing composition epoxy resin. Curing agent and 70% by weight of inorganic fillers. At least one of the epoxy resins and the curing agents has a weight distribution. Molecules in a manner that provide a mean diffusion Mw / Mn of at least 1.6. There are less than 8% of two nuclei by weight and the amount of compounds with seven or more nuclei is less than 32% by weight. When the elements were incubated at 180 ° C for 90 s, it was a valuable primary product. The Tg1 and the aforementioned primary products were subsequently cured at 180 ° C for 5 h as a secondary Tg2, in accordance with the (Tg2-Tg1) / Tg2 < 0.1 relationship. It has a fast curing and can be used as formwork. This product is a reliable product without the need for subsequent curing. In the composition epoxy resin containing epoxy resin. Curing compound and 70% by weight of inorganic fillers. At least one of the epoxy resins and the curing agents has a weight distribution. Molecules in a manner that provide a mean diffusion Mw / Mn of at least 1.6. There are less than 8% of two nuclei by weight and the amount of compounds with seven or more nuclei is less than 32% by weight. When the elements were incubated at 180 ° C for 90 s, it was a valuable primary product. Tg1 and the aforementioned primary product were subsequently incubated at 180 ° C for 5 h as a secondary product with Tg2, according to the relationship: (Tg2-Tg1) / Tg2 is less than 0.1 element They have a fast curing and can be used as formwork. Effectively and persistently, it is a reliable product without the need for subsequent curing:

Claims (4)

1. องค์ประกอบอิพอกซีเรซินที่ประกอบด้วยอิพอกซีเรซิน สารทำให้บ่มอยู่ตัว สารเติมเต็ม อนิ นทรีย์เป็นส่วนผสมสำคัญ (ก)สารอย่างน้อยหนี่งอย่างของอิพอกซีเรซินและสารทำให้บ่มอยู่ตัวมีการกระจายน้ำหนัก โมเลกุลซึ่งการแพร่กระจายเฉลี่ย Mw/Mn ที่ได้รับการกำหนดโดยน้ำหนักโมเลกุลเฉลี่ยน้ำหนัก Mw หาร ด้วยน้ำหนักโมเลกุลเฉลี่ยจำนวน Mn น้อยกว่า 1.6 และปริมาณของสารประกอบที่มีสองนิวเคลียสน้อย กว่า 8% โดยน้ำหนักและปริมาณรวมของสารประกอบที่มีเจ็ดนิวเคลียสหรือมากกว่าน้อยกว่า 32% โดย น้ำหนัก (ข) สารเติมเต็มอนินทรีย์มีอยู่ในปริมาณอย่างน้อย 70% โดยน้ำหนักขององค์ประกอบทั้งหมด (ค) เมื่อองค์ประกอบได้รับการบ่มอยู่ตัวที่ 180 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 90 วินาทีเป็นผลิต ภัณฑ์ปฐมภูมิที่มีอุณหภูมิแปรผ่านสภาพแก้วค่าแรก Tg1 และผลิตภัณฑ์ปฐมภูมิได้รับการบ่มอยู่ตัวใน ภายหลังที่ 180 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 5 ชั่วโมงเป็นผลิตภัณฑ์ทุติยภูมิที่มีอุณหภูมิแปรผ่านสภาพแก้ว ค่าที่สอง Tg2 อุณหภูมิแปรผ่านสภาพแก้วค่าแรกและค่าที่สองTg1 และ Tg2 เป็นไปตามความสัมพันธ์ (Tg2-Tg1) / Tg2 น้อยกว่า 0.11. Epoxy resin composition containing epoxy resin. The curing agent inorganic fillers is an important ingredient. (A) At least one of the epoxy resins and curing agents has a weight distribution. Molecules in which the mean diffusion Mw / Mn was determined by mean molecular weight, Mw weight divided by mean molecular weight, number of Mn less than 1.6, and volume of compound with two nuclei less than 8% by weight and total volume of compound. There are seven or more nuclei, less than 32% by weight (b). Inorganic fillers are present at least 70% by weight of all elements (c) when the elements are cured at 180 ° C. For 90 seconds is produced. The primary product with the first glass transition temperature Tg1 and the primary product were subsequently cured at 180 ° C for 5 h as the secondary product with the secondary transition temperature Tg2. Through glass condition, the first and second values Tg1 and Tg2 satisfy the (Tg2-Tg1) / Tg2 relationship less than 0.1. 2. องค์ประกอบอิพอกซีเรซินของข้อถือสิทธิข้อ 1 โดยที่อิพอกซีเรซินเป็นอิพอกซีครีซอลโนโว แล็คเรซินและสารทำให้บ่มอยู่ตัวเป็นฟีโนลิคโนโวแล็คเรซิน2. The epoxy resin composition of claim 1, where epoxy resin is an epoxy cresolovo. Lac resins and curing agents are phenolic novolac resins. 3. องค์ประกอบอิพอกซีเรซินของข้อถือสิทธิข้อ 1 โดยที่การเปลี่ยนแปลงเอนธัลบี เดลตาH0 ได้มา เมื่อองค์ประกอบดังกล่าวได้รับการวิเคราะห์โดยวิธีคัลเลอริเมตรีสแกนเชิงผลต่างและการเปลี่ยนแปลง เอนธัลบี เดลตาH1 ที่ได้มาเมื่อผลิตภัณฑ์ปฐมภูมิที่ได้มาโดยการบ่มอยู่ตัวแก่องค์ประกอบที่ 180 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 90 วินาทีได้รับการวิเคราะห์โดยวิธีคัลเลอริเมตรีสแกนเชิงผลต่างเป็นไปตามความ สัมพันธ์ เดลตาH1 / เดลตาH0 น้อยกว่า 0.053. The epoxy resin composition of claim 1, where enthalby delta H0 change is obtained when the composition is analyzed by colorimetric, differential scanning and leaning changes. Thalby Delta H1, obtained when the primary product obtained by incubation was at 180 ° C for 90 s, was analyzed by a heterogeneous colorimetric scan. Relationship Delta H1 / Delta H0 is less than 0.05. 4. อุปกรณ์สารกึ่งตัวนำที่ได้รับการหุ้มผนึกด้วยองค์ประกอบอิพอกซีเรซินของข้อถือสิทธิข้อ 1 ในสถานะที่ได้รับการบ่มอยู่ตัวแล้ว4. A semiconductor device sealed with epoxy resin composition of claim 1 in the cured state.
TH9901001404A 1999-04-27 Epoxy resin and semiconductor devices sealed with this element. TH32566C3 (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH55084A3 true TH55084A3 (en) 2003-02-12
TH32566C3 TH32566C3 (en) 2012-04-30

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0955675A3 (en) Epoxy resin compositions and semiconductor devices encapsulated therewith
EP0846710A4 (en) One-pack epoxy resin composition, one-pack corrosion-resistant paint composition, and coating method using said compositions
WO2000020483A3 (en) Impact-resistant epoxide resin compositions
ATE423181T1 (en) SOLVENT-BASED COATING MATERIAL AND ITS USE
KR900702422A (en) Positive-acting polyamic acid / imide photoresist compositions and their use as dielectrics.
TW200718750A (en) Liquid epoxy resin composition
MY124259A (en) Epoxy resin composition for encapsulating photosemiconductor element photosemiconductor device
EP1333075A4 (en) Coating composition and method of can inside coating
TW200728909A (en) Positive type photosensitive resin composition
HK8787A (en) Positive-type photoresist compositions
ATE441693T1 (en) AQUEOUS RESIN PREPARATION CONTAINING PIGMENT WITH PIGMENT DISTRIBUTOR
WO2003025043A1 (en) Resin composition for optical-semiconductor encapsulation
TH32566C3 (en) Epoxy resin and semiconductor devices sealed with this element.
TH55084A3 (en) Epoxy resin and semiconductor devices sealed with this element.
WO2002024772A3 (en) Metal amine complex containing fluoropolymer compositions
EP1219657A4 (en) Polyarylene and method for production thereof
ATE417892T1 (en) REINFORCED THERMOPLASTIC MOLDING COMPOUNDS
EP1176178A4 (en) Coating composition
CA2514994A1 (en) Epoxy resin composition
EP1139420A3 (en) Semiconductor device and process for producing the same, and tablet comprising epoxy resin composition
JPS6450044A (en) Resin composition having sensibility for radiant rays
JPS578221A (en) Curable epoxy resin composition
KR950012147A (en) Positive photoresist composition
JPS5278293A (en) Phenolic pesin compositions for injection molding
JPS53130793A (en) Preparation of high impact polystyrene composition