TH55084A3 - Epoxy resin and semiconductor devices sealed with this element. - Google Patents
Epoxy resin and semiconductor devices sealed with this element.Info
- Publication number
- TH55084A3 TH55084A3 TH9901001404A TH9901001404A TH55084A3 TH 55084 A3 TH55084 A3 TH 55084A3 TH 9901001404 A TH9901001404 A TH 9901001404A TH 9901001404 A TH9901001404 A TH 9901001404A TH 55084 A3 TH55084 A3 TH 55084A3
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- weight
- epoxy resin
- less
- curing
- nuclei
- Prior art date
Links
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims abstract 14
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims abstract 14
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract 5
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims abstract 4
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims abstract 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims 1
- 238000011534 incubation Methods 0.000 claims 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims 1
- 238000009415 formwork Methods 0.000 abstract 2
Abstract
DC60 (15/12/42) ในองค์ประกอบอิพอกซีเรซินที่ประกอบด้วยอิพอกซีเรซิน สารบ่มอยู่ตัว และ 70% โดยน้ำหนัก ของสารเติมเต็มอนินทรีย์ อย่างน้อยหนึ่งอย่างของอิพอกซีเรซินและสารบ่มอยู่ตัวมีการกระจายน้ำหนัก โมเลกุลในลักษณะที่จัดเตรียมการแพร่กระจายเฉลี่ย Mw/Mn อย่างน้อย 1.6 ปริมาณของสารประกอบที่ มีสองนิวเคลียสน้อยกว่า 8% โดยน้ำหนักและปริมาณของสารประกอบที่มีเจ็ดนิวเคลียสหรือมากกว่า น้อยกว่า 32% โดยน้ำหนัก เมื่อองค์ประกอบดังกล่าวได้รับการบ่มอยู่ตัวที่ 180 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 90 วินาทีเป็นผลิตภัณฑ์ปฐมภูมิที่มีค่า Tg1 และผลิตภัณฑ์ปฐมภูมิดังกล่าวได้รับการบ่มอยู่ตัวในภาย หลังที่ 180 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 5 ชั่วโมงเป็นผลิตภัณฑ์ทุติยภูมิที่มีค่า Tg2 โดยเป็นไปตามความ สัมพันธ์ (Tg2-Tg1)/Tg2 < 0.1 องค์ประกอบดังกล่าวมีการบ่มอยู่ตัวเร็วและสามารถใช้แบบหล่อได้ อย่างมีประสิทธิผลและบ่มอยู่ตัวเป็นผลิตภัณฑ์ที่เชื่อถือได้โดยไม่จำเป็นต้องมีการบ่มอยู่ตัวในภายหลัง ในองค์ประกอบอิพอกซีเรซินที่ประกอบด้วยอิพอกซีเรซิน สารบ่มอยู่ตัว และ 70% โดยน้ำหนัก ของสารเติมเต็มอนินทรีย์ อย่างน้อยหนึ่งอย่างของอิพอกซีเรซินและสารบ่มอยู่ตัวมีการกระจายน้ำหนัก โมเลกุลในลักษณะที่จัดเตรียมการแพร่กระจายเฉลี่ย Mw/Mn อย่างน้อย 1.6 ปริมาณของสารประกอบที่ มีสองนิวเคลียสน้อยกว่า 8% โดยน้ำหนักและปริมาณของสารประกอบที่มีเจ็ดนิวเคลียสหรือมากกว่า น้อยกว่า 32% โดยน้ำหนัก เมื่อองค์ประกอบดังกล่าวได้รับการบ่มอยู่ตัวที่ 180 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 90 วินาทีเป็นผลิตภัณฑ์ปฐมภูมิที่มีค่า Tg1 และผลิตภัณฑ์ปฐมภูมิดังกล่าวได้รับการบ่มอยู่ตัวในภาย หลังที่ 180 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 5 ชั่วโมงเป็นผลิตภัณฑ์ทุติยภูมิที่มีค่า Tg2 โดยเป็นไปตามความ สัมพันธ์: (Tg2-Tg1)/Tg2 น้อยกว่า 0.1 องค์ประกอบดังกล่าวมีการบ่มอยู่ตัวเร็วและสามารถใช้แบบหล่อได้ อย่างมีประสิทธิผลและป่มอยู่ตัวเป็นผลิตภัณฑ์ที่เชื่อถือได้โดยไม่จำเป็นต้องมีการบ่มอยู่ตัวในภายหลัง: DC60 (15/12/42) in epoxy resin-containing composition epoxy resin. Curing agent and 70% by weight of inorganic fillers. At least one of the epoxy resins and the curing agents has a weight distribution. Molecules in a manner that provide a mean diffusion Mw / Mn of at least 1.6. There are less than 8% of two nuclei by weight and the amount of compounds with seven or more nuclei is less than 32% by weight. When the elements were incubated at 180 ° C for 90 s, it was a valuable primary product. The Tg1 and the aforementioned primary products were subsequently cured at 180 ° C for 5 h as a secondary Tg2, in accordance with the (Tg2-Tg1) / Tg2 < 0.1 relationship. It has a fast curing and can be used as formwork. This product is a reliable product without the need for subsequent curing. In the composition epoxy resin containing epoxy resin. Curing compound and 70% by weight of inorganic fillers. At least one of the epoxy resins and the curing agents has a weight distribution. Molecules in a manner that provide a mean diffusion Mw / Mn of at least 1.6. There are less than 8% of two nuclei by weight and the amount of compounds with seven or more nuclei is less than 32% by weight. When the elements were incubated at 180 ° C for 90 s, it was a valuable primary product. Tg1 and the aforementioned primary product were subsequently incubated at 180 ° C for 5 h as a secondary product with Tg2, according to the relationship: (Tg2-Tg1) / Tg2 is less than 0.1 element They have a fast curing and can be used as formwork. Effectively and persistently, it is a reliable product without the need for subsequent curing:
Claims (4)
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH55084A3 true TH55084A3 (en) | 2003-02-12 |
| TH32566C3 TH32566C3 (en) | 2012-04-30 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0955675A3 (en) | Epoxy resin compositions and semiconductor devices encapsulated therewith | |
| EP0846710A4 (en) | One-pack epoxy resin composition, one-pack corrosion-resistant paint composition, and coating method using said compositions | |
| WO2000020483A3 (en) | Impact-resistant epoxide resin compositions | |
| ATE423181T1 (en) | SOLVENT-BASED COATING MATERIAL AND ITS USE | |
| KR900702422A (en) | Positive-acting polyamic acid / imide photoresist compositions and their use as dielectrics. | |
| TW200718750A (en) | Liquid epoxy resin composition | |
| MY124259A (en) | Epoxy resin composition for encapsulating photosemiconductor element photosemiconductor device | |
| EP1333075A4 (en) | Coating composition and method of can inside coating | |
| TW200728909A (en) | Positive type photosensitive resin composition | |
| HK8787A (en) | Positive-type photoresist compositions | |
| ATE441693T1 (en) | AQUEOUS RESIN PREPARATION CONTAINING PIGMENT WITH PIGMENT DISTRIBUTOR | |
| WO2003025043A1 (en) | Resin composition for optical-semiconductor encapsulation | |
| TH32566C3 (en) | Epoxy resin and semiconductor devices sealed with this element. | |
| TH55084A3 (en) | Epoxy resin and semiconductor devices sealed with this element. | |
| WO2002024772A3 (en) | Metal amine complex containing fluoropolymer compositions | |
| EP1219657A4 (en) | Polyarylene and method for production thereof | |
| ATE417892T1 (en) | REINFORCED THERMOPLASTIC MOLDING COMPOUNDS | |
| EP1176178A4 (en) | Coating composition | |
| CA2514994A1 (en) | Epoxy resin composition | |
| EP1139420A3 (en) | Semiconductor device and process for producing the same, and tablet comprising epoxy resin composition | |
| JPS6450044A (en) | Resin composition having sensibility for radiant rays | |
| JPS578221A (en) | Curable epoxy resin composition | |
| KR950012147A (en) | Positive photoresist composition | |
| JPS5278293A (en) | Phenolic pesin compositions for injection molding | |
| JPS53130793A (en) | Preparation of high impact polystyrene composition |