TH53380B - แก้วออปติคอล, การกดหล่ออย่างเที่ยงตรงและกระบวนการผลิตแก้วดังกล่าวและ องค์ประกอบออปติคอลและกระบวนการสำหรับผลิตองค์ประกอบดังกล่าว - Google Patents

Abstract

DC60 แก้วออปติคอลที่มีสภาพหักเหสูงโดยมีทั้งคุณสมบัติในการอ่อนตัวลงที่อุณหภูมิต่ำซึ่งเหมาะ สำหรับการกดหล่ออย่างเที่ยงตรงและความเสถียรของแก้วซึ่งเหมาะสำหรับการขึ้นรูปในสภาพที่ร้อน ให้กับพรีฟอร์มซึ่งประกอบด้วยสารประกอบต่อไปในหน่วย เปอร์เซ็นต์ โดยมวล: B2O3 ตั้งแต่ 13 ถึง 30เปอร์เซ็นต์, Li2O ตั้งแต่ 0.1 ถึง 4เปอร์เซ็นต์, ZnO ตั้งแต่ 17 ถึง 35เปอร์เซ็นต์, La2O3 ตั้งแต่ 15 ถึง 45เปอร์เซ็นต์, Ta2O5 ตั้งแต่ 4 ถึง 15เปอร์เซ็นต์ แต่ไม่รวมปริมาณ 15เปอร์เซ็นต์, ZrO2 ตั้งแต่ 0 ถึง 10เปอร์เซ็นต์, Nb2O5 ตั้งแต่ 0 ถึง 10เปอร์เซ็นต์ ซึ่งมีข้อแม้ว่า Ta2O5/(Ta2O5+ZrO2+Nb2O5)>0.3, WO3 ตั้งแต่ 0 ถึง 20เปอร์เซ็นต์ และ Sb2O3 ตั้งแต่ 0 ถึง 1 เปอร์เซ็นต์ และมีดัชนีหักเห (nd) ตั้งแต่ 1.80 ถึง 1.84 และตัวเลข Abbe (vd) ตั้งแต่ 40.0 ถึง 45.0 1. แก้วออปติคอลซึ่งประกอบด้วย ในหน่วย%โดยมวลของ B2O3 13 ถึง 30%, LiO 0.1 ถึง 4%,ZnO 17 ถึง 35%, La2O3 15 ถึง 45%,Ta2O5 ถึง 15% แต่ไม่รวม 15%,ZrO2 0 ถึง 10%,Nb2O5 0 ถึง 10% ด้วยเงื่อนไขที่ว่า Ta2O5(Ta2O5+Zro2+ Nb2O5)(สูตรเคมี)0.57, WO3 ถึง 20%,Sb2O3 0 ถึง 1%, GeO2 0 ถึง 1% และ Gd2O3 0 ถึง 1% และมีดัชนีหักเห (nd)จาก 1.80 ถึง 1.84 และตัวเลข Abbe (Vd) จาก 40.0 ถึง 45.0 B2O3 ตั้งแต่ 13 ถึง 30%, Li2O ตั้งแต่ 0.1 ถึง 4%, ZnO ตั้งแต่ 17 ถึง 35%, La2O3 ตั้งแต่ 15 ถึง 45%, Ta2O5 ตั้งแต่ 4 ถึง 15% แต่ไม่รวมปริมาณ 15%, ZrO2 ตั้งแต่ 0 ถึง 10%, Nb2O5 ตั้งแต่ 0 ถึง 10% ซึ่งมีข้อแม้ว่า Ta2O5/(Ta2O5+ZrO2+Nb2O5)>0.3, WO3 ตั้งแต่ 0 ถึง 20% และ Sb2O3 ตั้งแต่ 0 ถึง 1 % และมีดัชนีหักเห (nd) ตั้งแต่ 1.80 ถึง 1.84 และตัวเลข Abbe (vd) ตั้งแต่ 40.0 ถึง 45.0

Claims (10)

แก้ไข 26/8/59 1. แก้วออปติคอลซึ่งประกอบด้วย ในหน่วย%โดยมวลของ B2O3 13 ถึง 30%, Li2O 0.1 ถึง 4%, ZnO 17 ถึง 35%, La2O3 15 ถึง 45%,Ta2O5 4 ถึง 15% แต่ไม่รวม 15%, ZrO2 0 ถึง 10%, Nb2O5 0 ถึง 10% ด้วยเงื่อนไขที่ว่า Ta2O5/(Ta2O5+Zro2+ Nb2O5)(สูตรเคมี) 0.57, WO3 0 ถึง 20%, Sb2O3 0 ถึง 1%, GeO2 0 ถึง 1% และ Gd2O3 0 ถึง 1% และมีดัชนีหักเห (nd) จาก 1.80 ถึง 1.84 และตัวเลข Abbe (Vd) จาก 40.0 ถึง 45.0 2. แก้วออปติคอลของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งมีปริมาณรวมทั้งหมดของ Li2O และ ZnO จาก 20 ถึง 35% โดยมวล 3. แก้วออปติคอลของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งมีต่อไปด้วย ในหน่วย %โดยมวลของ SiO2 0 ถึง 10%, Y2O3 0 ถึง 10% และ Yb2O3 ตั้งแต่ 0 ถึง 10% 4. แก้วออปติคอลตามข้อถือสิทธิที่ 3 ซึ่งมีปริมาณทั้งหมดของ B2O3, Li2O, ZnO, La2O3, Ta2O5, ZrO2, Nb2O5, WO3, SiO2, Gd2O3, Y2O3, Yb2O3 และ Sb2O3 จาก 99% โดยมวล หรือ มากกว่า 5. พรีฟอร์มสำหรับการกดหล่ออย่างเที่ยงตรงซึ่งทำจากแก้วของข้อถือสิทธิที่ 1 6. กระบวนการสำหรับผลิตพรีฟอร์มสำหรับการกดหล่ออย่างเที่ยงตรง, ซึ่งประกอบด้วย การทำให้แก้วหลอมละลายไหลออกไป, การแยกก้อนแก้วหลอมละลาย และการทำเป็นรูปร่างให้ก้อน แก้วกลายเป็นพรีฟอร์มที่ถูกสร้างขึ้นจากแก้วออปติคอลของข้อถือสิทธิที่ 1 ในระหว่างกระบวนการ ทำให้ก้อนแก้วหลอมละลายดังกล่าวเย็นตัวลง 7. ส่วนประกอบออปติคอลที่ถูกสร้างขึ้นจากแก้วออปติคอลตามที่อ้างถึงในข้อถือสิทธิที่ 1 8. กระบวนการสำหรับการผลิตส่วนประกอบออปติคอล, ซึ่งประกอบด้วยการให้ความร้อน แก่พรีฟอร์มสำหรับการกดหล่ออย่างเที่ยงตรงของข้อถือสิทธิที่ 5 และการกดหล่ออย่างเที่ยงตรงแก่ พรีฟอร์มสำหรับการกดหล่ออย่างเที่ยงตรงด้วยแม่พิมพ์กด 9. กระบวนการสำหรับการผลิตส่วนประกอบออปติคอลตามที่อ้างถึงในข้อถือสิทธิที่ 8 ที่ซึ่ง การใส่พรีฟอร์มสำหรับการกดหล่ออย่างเที่ยงตรงเข้าไปในแม่พิมพ์กดและการกดหล่ออย่างเที่ยงตรง และมีการให้ความร้อนแก่แม่พิมพ์กดไปด้วยกันเพื่อทำการกดหล่ออย่างเที่ยงตรง 10. กระบวนการสำหรับการผลิตส่วนประกอบออปติคอลตามที่อ้างถึงในข้อถือสิทธิที่ 8 ที่ซึ่ง ประกอบด้วยการให้ความร้อนแก่พรีฟอร์มสำหรับการกดหล่ออย่างเที่ยงตรง และการนำเข้าพรีฟอร์ม สำหรับการกดหล่ออย่างเที่ยงตรงที่ได้รับความร้อนเข้าไปในแม่พิมพ์กดที่ถูกให้ความร้อนเตรียมไว้ แล้วเพื่อดำเนินการกดหล่ออย่างเที่ยงตรง 11. กระบวนการสำหรับการผลิตส่วนประกอบออปติคอล ซึ่งประกอบด้วยการให้ความร้อน แก่พรีฟอร์มสำหรับการกดหล่ออย่างเที่ยงตรงที่ถูกผลิตโดยกระบวนการของข้อถือสิทธิที่ 6 และการ กดหล่ออย่างเที่ยงตรงแก่ พรีฟอร์มสำหรับการกดหล่ออย่างเที่ยงตรงด้วยแม่พิมพ์กด 12. แก้วออปติคอลของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งมีปริมาณของ Ta2O5 จาก 10.24 ถึง 15% แต่ไม่รวม 15% ----------------------------------------------------------------

1. แก้วออปติคอลซึ่งประกอบด้วย ในหน่วย%โดยมวลของ B2O3 13 ถึง 30%, LiO 0.1 ถึง 4%,ZnO 17 ถึง 35%, La2O3 15 ถึง 45%,Ta2O5 ถึง 15% แต่ไม่รวม 15%,ZrO2 0 ถึง 10%,Nb2O5 0 ถึง 10% ด้วยเงื่อนไขที่ว่า Ta2O5(Ta2O5+Zro2+ Nb2O5)(สูตรเคมี)0.57, WO3 ถึง 20%,Sb2O3 0 ถึง 1%, GeO2 0 ถึง 1% และ Gd2O3 0 ถึง 1% และมีดัชนีหักเห (nd)จาก 1.80 ถึง 1.84 และตัวเลข Abbe (Vd) จาก 40.0 ถึง 45.0

2. แก้วออปติคอลตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งมีปริมาณรวมทั้งหมดของ Li2O และ ZnO ตั้งแต่ 20 ถึง 35% โดยมวล

3. แก้วออปติคอลตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2 ซึ่งนอกจากที่กล่าวไปแล้วยังมีส่วนประกอบของ สารประกอบต่อไปนี้ในหน่วย % โดยมวล : แก้วออปติคอลที่มีสภาพหักเหสูง โดยมีทั้งคุณสมบัติในการอ่อนตัวลงที่อุณหภูมิต่ำซึ่งเหมาะ สำหรับการกดหล่ออย่างเที่ยงตรงและความเสถียรของแก้วซึ่งเหมาะสำหรับการขึ้นรูปในสภาพที่ร้อน ให้กับพรีฟอร์มซึ่งประกอบด้วยสารประกอบต่อไปในหน่วย % โดยมวล : SiO2 ตั้งแต่ 0 ถึง 10%, Gd2O3ตั้งแต่ 0 ถึง 6% แต่ไม่รวมปริมาณ 6%, Y2O3 ตั้งแต่ 0 ถึง 10% และ Yb2O3 ตั้งแต่ 0 ถึง 10 %

4. แก้วออปติคอลตามข้อถือสิทธิที่ 3 ซึ่งมี B2O3,Li2O,ZnO,La2O3,Ta2O5,Zro2,Nb2O5, WO3,SiO2,Gd2O3,Y2O3,Yb2O3 และ Sb2O3 ในปริมาณรวมทั้งสิ้นตั้งแต่ 99% โดยมวลขึ้นไป

5. พรีฟอร์มสำหรับการกดหล่ออย่างเที่ยงตรงซึ่งทำจากแก้วตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของ ข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 4

6. กระบวนการสำหรับผลิตพรีฟอร์มสำหรับการกดหล่ออย่างเที่ยงตรงซึ่งประกอบด้วยการ ทำให้แก้วหลอมละลายไหลออกไป, การแยกก้อนแก้วหลอมละลายและการขึ้นรูปให้ก้อนแก้ว กลายเป็นพรีฟอร์มซึ่งทำจากแก้วออปติกคอลตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 4 ใน กระบวนการทำให้ก้อนแก้วหลอมละลายดังกล่าวเย็นตัวลง

7. องค์ประกอบออปติคอลซึ่งทำจากแก้วออปติคอลตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิ ที่ 1 ถึง 4

8. กระบวนการสำหรับผลิตองค์ประกอบออปติคอลซึ่งประกอบด้วยการให้ความร้อนแก่ พรีฟอร์มสำหรับการกดหล่ออย่างเที่ยงตรงตามข้อถือสิทธิที่ 5 หรือพรีฟอร์มสำหรับการกดหล่ออย่าง เที่ยงตรงที่ผลิตขึ้น โดยกระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 6 และการนำพรีฟอร์มสำหรับการกดหล่ออย่าง เที่ยงตรงมาทำการกดหล่ออย่างเที่ยงตรงด้วยแม่พิมพ์กด

9. กระบวนการสำหรับผลิตองค์ประกอบออปติคอลตามข้อถือสิทธิที่ 8 โดยมีการใส่พรีฟอร์ม สำหรับการกดหล่ออย่างเที่ยงตรงเข้าไปในแม่พิมพ์กดและการกดหล่ออย่างเที่ยงตรงและมีการให้ความ ร้อนแก่แม่พิมพ์กดไปด้วยกันเพื่อทำการกดหล่ออย่างเที่ยงตรง

10. กระบวนการสำหรับผลิตองค์ประกอบออปติคอลตามข้อถือสิทธิที่ 8 ซึ่งประกอบด้วยการ ให้ความร้อนแก่พรีฟอร์มสำหรับการกดหล่ออย่างเที่ยงตรงและการใส่พรีฟอร์มสำหรับการกดหล่อ อย่างเที่ยงตรงที่ได้รับความร้อนเข้าไปในแม่พิมพ์กดที่ให้ความร้อนเตรียมไว้แล้วเพื่อทำการกดหล่อ อย่างเที่ยงตรง