TH50091A - องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบ - Google Patents

องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบ

Info

Publication number
TH50091A
TH50091A TH1004361A TH0001004361A TH50091A TH 50091 A TH50091 A TH 50091A TH 1004361 A TH1004361 A TH 1004361A TH 0001004361 A TH0001004361 A TH 0001004361A TH 50091 A TH50091 A TH 50091A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
smoothing
weight
abrasive particles
methods
metal oxides
Prior art date
Application number
TH1004361A
Other languages
English (en)
Inventor
เฟง นายหมิงหมิง
แอล. มูลเลอร์ นายไบร์อัน
เอ. เดิร์คเซน นายเจมส์
Original Assignee
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
นายธเนศ เปเรร่า
นางสาวสยุมพร สุจินตัย
Filing date
Publication date
Application filed by นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า, นายธเนศ เปเรร่า, นางสาวสยุมพร สุจินตัย filed Critical นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
Publication of TH50091A publication Critical patent/TH50091A/th

Links

Abstract

DC60 (24/01/44) องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบหรือเป็นเงาวาว ด้วยองค์ประกอบที่จัดเตรียมไว้ องค์ประกอบ พาหะของเหลว ตัวเร่ง เชิงเคมี และของแข็งประกอบด้วยออกไซด์ของโลหะที่เป็น ไอ ประมาณ 5 - 90 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และอนุภาคของสารขัดถู ประมาณ 10 - 95 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก ในที่ซึ่งอนุภาคสารขัดถู (โดยจำนวน) ประมาณ 90% หรือมากกว่า มีขนาดอนุภาคไม่น้อยกว่า 100 นาโน เมตร องค์ประกอบของการประดิษฐ์นี้คือใช้ให้เป็น ประโยชน์ใน การทำผิวให้เรียบหรือให้เงาวาวด้วย ประสิทธิภาพการขัดเงา ความเหมือนกัน และ อัตราการขัดออก สูง ด้วยความบกพร่องเช่น ขอบเขตการสูญเสียของโครงสร้างภายใน และ โทโพกราฟฟิน้อยที่ สุด องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบหรือเป็นเงาวาว ด้วยองค์ประกอบที่จัดเตรียมไว้ องค์ประกอบ พาหะของเหลว ตัวเร่ง เชิงเคมี และของแข็งประกอบด้วยออกไซด์ของโลหะที่เป็น ไอ ประมาณ 5 - 90 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และอนุภาคของสารขัดถู ประมาณ 10 - 95 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก ในที่ซึ่งอนุภาคสารขัดถู (โดยจำนวน) ประมาณ 90% หรือมากกว่า มีขนาดอนุภาคไม่น้อยกว่า 100 นาโน เมตร องค์ประกอบของการประดิษฐ์นี้คือใช้ให้เป็น ประโยชน์ใน การทำผิวให้เรียบหรือให้เงาวาวด้วย ประสิทธิภาพการขัดเงา ความเหมือนกัน และ อัตราการขัดออก สูง ด้วยความบกพร่องเช่น ขอบเขตการสูญเสียของโครงสร้างภายใน และ โทโพกราฟฟิน้อยที่ สุด

Claims (3)

1. องค์ประกอบการทำให้ผิวหรือผิวเงาวาว ประกอบด้วย (a) พาหะของเหลว (b) ตัวเร่งเชิงเคมี และ (c) ของแข็ง ประกอบด้วย ออกไซด์ของโลหะที่เป็นไอ ประมาณ 5 - 90 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และ อนุภาคของสารขัดถู ประมาณ 10 - 95 เปอร์เซ็นต์โดยยน้ำหนัก ในที่ซึ่ง อนุภาคของสารขัดถู (โดยจำนวน) ประมาณ 90% หรือมากกว่ามี ขนาดของอนุภาคไม่มาก กว่า 100 นาโนเมตร
2. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งของแข็งมีความ หนาแน่นการบรรจุ น้อยที่สุด ประมาณ 0.1
3. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 2 ในที่ซึ่งแท็ก :
TH1004361A 2000-11-13 องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบ TH50091A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH50091A true TH50091A (th) 2002-03-15

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ATE258577T1 (de) Zusammensetzungen und verfahren zum polieren und egalisieren von oberflächen
KR101333019B1 (ko) 집합체들을 함유하는 코팅된 연마 제품들
EP3210237B1 (en) Cobalt dishing control agents
Laubschat et al. Surface-electronic structure of α-like Ce compounds
ATE258576T1 (de) Zusammensetzung und verfahren zum egalisieren von oberflächen
KR102538575B1 (ko) 코발트 연마 가속화제
KR102708650B1 (ko) 개선된 디싱을 위한 코발트 억제제 조합
BR0115202A (pt) Métodos para manufaturar um aglomerado e artigos abrasivos revestido e tridimensional fixo, e para polir uma peça de trabalho, partìcula de aglomerado, artigos abrasivos revestido e fixo tridimensional
CN106661427B (zh) 用于铝抛光的化学机械抛光浆料组合物和方法
RU2006104117A (ru) Абразивные частицы для механической полировки
DE60023549D1 (de) Verfahren zum polieren oder planarisieren eines substrats
EP0210001A1 (en) Process for polishing non-electrolysis nickel plate, alumite or aluminium surface of a memory hard disc
JP2003512498A5 (th)
DK0484755T3 (da) Formede polymere overgangsmetalkomplekskatalysatorer med organosiloxan-phenylphosphinligander
US4929257A (en) Abrasive composition and process for polishing
ATE426650T1 (de) Schleifmittel mit verbesserten schleifeigenschaften
Durham et al. Bulk and Surface Effects in Photoemission from Disordered Cu-Ni Alloys
TH50091A (th) องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบ
TH50305A (th) องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบ
Brooks Electronic structure of NaCl-type compounds of the light actinides. I. UN, UC, and UO
JPH01135434A (ja) 回転仕上装置における金属材の研麿の加速方法
CA2486847A1 (en) Composition, kit and method for cleaning and/or treating surfaces
KR900014080A (ko) 금속도장면의 연마방법
Hirai et al. Aluminum--Silicon Multi-Component Diffusion Coating on Nickel Base Superalloy
Rajesha¹ et al. Some studies on performance of a natural polymer media for abrasive flow machining