TH36747A - Product wiping and rubbing softness of microorganisms. - Google Patents

Product wiping and rubbing softness of microorganisms.

Info

Publication number
TH36747A
TH36747A TH9801002031A TH9801002031A TH36747A TH 36747 A TH36747 A TH 36747A TH 9801002031 A TH9801002031 A TH 9801002031A TH 9801002031 A TH9801002031 A TH 9801002031A TH 36747 A TH36747 A TH 36747A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
antimicrobial
antimicrobial cleaning
weight
cleaning compound
index
Prior art date
Application number
TH9801002031A
Other languages
Thai (th)
Inventor
วิลเลียม เบียร์ซ นายปีเตอร์
ไมเคิล มอร์แกน นายเจฟฟรีย์
กรีชอพ เบเออร์ นายแคธลีน
เซน นายเวย
แอนน์ แบ็คเคน นายเธเรซา
ลี แคลปป์ นายแมนนี
วอร์เรน นายราฟาเอล
Original Assignee
นายดำเนิน การเด่น
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายวิรัช ศรีเอนกราธา
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Filing date
Publication date
Application filed by นายดำเนิน การเด่น, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายวิรัช ศรีเอนกราธา, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ filed Critical นายดำเนิน การเด่น
Publication of TH36747A publication Critical patent/TH36747A/en

Links

Abstract

DC60 (30/07/41) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวกับผลิตภัณฑ์เช็ดถูต้านจุลินทรีย์ซึ่งประกอบรวมด้วยแผ่นรูพรุน หรือ แผ่นดูดซึม ที่อิ่มตัวด้วยสารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์ ซึ่งสารผสมทำความสะอาดต้านจุลิน ทรีย์ ในนี้ประกอบรวมด้วยสารแสดงฤทธิ์ต้านจุลินทรีย์จาก 0.001 % ถึง 5.0% โดยน้ำหนักของ สาร ผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์ สารทำให้พื้นผิวว่องไวชนิดแอนไอออนิกจาก 0.05% ถึง 10% โดยน้ำหนักของสารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์, สารให้โปรตอนจาก 0.1 % ถึง 10 % โดยน้ำหนักของสารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์ และน้ำจาก 3 % ถึง 99.85 % โดย น้ำหนักของสารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์ ซึ่งปรับสารผสมนี้ให้มี pH ถึง pH จาก 3.0 ถึง 6.0 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์นี้มีดรรชนีของประสิทธิผลตกค้างกรัมบวกมาก กว่า 0.5 และซึ่งสารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์ในนี้มีดรรชนีของความอ่อนละมุนน้อยกว่า 0.3 การประดิษฐ์นี้เกี่ยวกับผลิตภัณฑ์เช็ดถูต้านจุลินทรีย์ที่อิ่มตัวด้วยสารผสมทำความสะอาดต้าน จุลินทรีย์ ซึ่งมีดรรชนีของประสิทธิผลตกค้างกรัมลบมากกว่า 0.5 ด้วยเหมือนกัน การประดิษฐ์นี้ เกี่ยว ข้องกับผลิตภัณฑ์เช็ดถูต้านจุลินทรีย์อิ่มตัวด้วยสารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์ ซึ่ง มีดรรชนีของการลดเชื้อโรคได้ทันทีที่ล้างหนึ่งครั้งมากกว่า 1.3 ด้วยเหมือนกัน การประดิษฐ์นี้รวม เอาวิธีสำหรับทำความสะอาดผิวหนัง และให้ประสิทธิผลตกค้างต่อต้านแบคทีเรียกรัมบวก โดยใช้ ผลิตภัณฑ์เหล่านี้ด้วยเหมือนกัน การประดิษฐ์นี้เกี่ยวกับผลิตภัณฑ์เช็ดถูต้านจุลินทรีย์ซึ่งประกอบรวมด้วยแผ่นรูพรุน หรือแผ่นดูดซึม ที่อิ่มตัว ด้วยสารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์ ซึ่งสารผสมทำความ สะอาดต้านจุลินทรีย์ ในนี้ปรกอบรวมด้วยสารแสดงฤทธิ์ต้าน จุลินทรีย์จาก 0.001% ถึง 5.0% โดยน้ำหนักของสาร ผสมทำความ สะอาดต้านจุลินทรีย์ สารทำให้พื้นผิวว่องไวชนิดแอนไอออนิก จาก 0.05% ถึง 10% โดยน้ำหนักของสารผสมทำความสะอาดต้าน จุลินทรีย์, สารให้โปรตอนจาก 0.1% ถึง 10% โดยน้ำหนักของ สารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์ และน้ำจาก 3% ถึง 99.85% โดยน้ำหนักของสารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์ ซึ่งปรับสาร ผสมนี้ให้มี pH ถึง pH จาก 3.0 ถึง 6.0 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์นี้มีดรรชนีของ ประสิทธิผลตกค้างกรัมบวกมากกว่า 0.5 และซึ่งสารผสมทำความ สะอาดต้านจุลินทรีย์ในนี้มีดรรชนีของความอ่อนละมุนน้อยกว่า 0.3 การประดิษฐ์นี้เกี่ยวกับผลิตภัณฑ์เช็ดถูต้านจุลินทรีย์ ที่อิ่มตัวด้วยสารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์ ซึ่งมี ดรรชนีของประสิทธิผลตกค้างกรัมลบมากกว่า 0.5 ด้วยเหมือนกัน การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับผลิตภัณฑ์เช็ดถูต้านจุลินทรีย์ อิ่มตัวด้วยสารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์ ซึ่งมีดรรชนี ของการลดเชื้อโรคได้ทันทีที่ล้านหนึ่งครั้งมากกว่า 1.3 ด้วยเหมือนกัน การประดิษฐ์นี้รวมเอาวิธีสำหรับทำความสะอาด ผิวหนัง และให้ประสิทธิผลตกค้างต่อต้านแบคทีเรียกรัมบวก โดยใช้ผลิตภัณฑ์เหล่านี้ด้วยเหมือนกัน DC60 (30/07/41) This invention deals with an antimicrobial wiping product, which consists of porous or absorbent pads saturated with an antimicrobial cleaning compound. The antimicrobial cleaning compound included in the antimicrobial agent from 0.001% to 5.0% by weight of the antimicrobial cleaning compound. Anionic surfactant from 0.05% to 10% by weight of Antimicrobial Cleaning Mixture, Proton Agent from 0.1% to 10% by Weight of Antimicrobial Cleaning Mix and Water from 3. % To 99.85% by weight of antimicrobial cleaning mixture The antimicrobial cleaning mixture was adjusted to pH from 3.0 to 6.0, the antimicrobial cleaning compound had a gram-positive residual effectiveness index greater than 0.5, and the antimicrobial cleaning compound had a lower softness index. 0.3 The invention deals with an antimicrobial wiping product saturated with an antimicrobial cleaning compound with an index of effective residual gram minus more than 0.5. The invention is related to an antimicrobial wiping product saturated with an antimicrobial cleaning compound, which has an anti-microbial index that can be immediately washed over 1.3 times. This invention included Remove the method for cleaning the skin. And give residual effectiveness against gram-positive bacteria using these products as well. The invention is about an anti-microbial wiping product consisting of porous sheets. Or absorbent pads saturated with an antimicrobial cleaning compound Which mixtures make Clean, anti-microbial In this, combined with antitumor agents. Microorganisms from 0.001% to 5.0% by weight of antimicrobial cleaning compound. Anionic surfactant from 0.05% to 10% by weight of Antimicrobial Cleaning Mixture, Proton Agent from 0.1% to 10% by weight of Antimicrobial cleaning mixture and water from 3% to 99.85% by weight of the antimicrobial cleaning compound, which adjusted this mixture to pH from 3.0 to 6.0. The residual effect was gram-positive greater than 0.5 and that the Antimicrobial clean. This has an index of softness less than 0.3. The invention is about antimicrobial wiping products. It was also impregnated with an antimicrobial cleaning compound with an index of gram-negative residual effectiveness greater than 0.5. The invention involved an anti-microbial wiping product. It is also saturated with an antimicrobial cleaning compound that has an instantaneous antimicrobial index of more than 1.3 million times. The invention combines a method for cleansing the skin and providing residual effectiveness against gram-positive bacteria. Using these products as well

Claims (1)

1. ผลิตภัณฑ์เช็ดถูต้านจุลินทรีย์ชนิดที่มีลักษณะพิเศษในที่ว่าผลิตภัณฑ์เช็ดถูต้านจุลินทรีย์นี้ประกอบด้วยแผ่นรู พรุน หรือแผ่นดูดซึมที่อิ่มตัวด้วยสารผสมทำความสะอาดต้าน จุลินทรีย์, ซึ่งสารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์ ในนี้ ประกอบรวมด้วย ก. สารแสดงฤทธิ์ต้านจุลินทรีย์ จาก 0.001% หรือ 5.0% โดย น้ำหนักของสารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์ ข. สารทำให้พื้นผิวว่องไวชนิดแอนไอออนิกจาก 0.005% ถึง 10% โดยน้ำหนักของสารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์ ค. สารให้โปรตอนจาก 0.1% ถึง 10% โดยน้ำหนักของสารผสมทำ ความสะแท็ก :1. Antimicrobial wipes are characterized by the fact that this antimicrobial wiping product contains porous or absorbent pads saturated with an antimicrobial cleaning compound, the antimicrobial cleaning compound included. With A. Antimicrobial activity from 0.001% or 5.0% by weight of antimicrobial cleaning compound; b. Anionic surfactant from 0.005% to 10% by weight of cleaning compound. Antimicrobial c. Proton reagents from 0.1% to 10% by weight of the cleaning mixture.
TH9801002031A 1998-06-02 Product wiping and rubbing softness of microorganisms. TH36747A (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH36747A true TH36747A (en) 2000-01-14

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL326557A1 (en) Skin cleaning composition for personal hygiene
ATE203664T1 (en) COMPOSITIONS FOR PERSONAL CLEANING PRODUCTS IN BAR FORMS, WITH A FRAGRANCE-RELEASING COMPLEX
CA2186011A1 (en) Mild antimicrobial liquid cleaning formulations
DE60323995D1 (en) SOUR CLEANSING AGENT FOR HARD SURFACES
CA2295739A1 (en) Moist fabric wipe and method of using it
DE69839177D1 (en) Antimicrobial cleaning agents
AR025258A1 (en) COMPOSITION OF ANTIMICROBIAL CLEANING ANTIMICROBIAL AND METHODS TO REDUCE THE AMOUNT OF GERMANS IN THE SKIN AND TO TREAT ACNE.
NZ336346A (en) Aqueous antibacterial abrasive cleaning composition comprising surfactants, quaternary ammonium antibacterial agent, solvent and thickening agent
AR017503A1 (en) ANTIMICROBIAL TOWEL AND METHODS TO PROVIDE RESIDUAL EFFECTIVENESS AGAINST NEGATIVE GRAM BACTERIA AND TO TREAT ACNE
CN109288698A (en) A kind of compound hand cleanser and preparation method thereof for industrial duplicate removal greasy dirt
ATE244553T1 (en) TOPICAL COMPOSITION WITH DISPERSED SURFACTANT COMPLEX
GB9903639D0 (en) Liquid cleansing composition
NZ516135A (en) Non-toxic, microbicidal detergent
TH36747A (en) Product wiping and rubbing softness of microorganisms.
DE102006008996A1 (en) Means and methods for purifying the indoor air of pollutants, odors and other interfering constituents
CN109288727A (en) A kind of scrub-type hand sanitizer for industrial heavy oil removal and preparation method thereof
KR102123400B1 (en) Detergent composition for cleaning and cleaning mehtod using thereof
CN110755284A (en) Composition for deodorizing and lingering fragrance
JPS59164400A (en) Domestic liquid detergent composition
KR19990038146A (en) Ocher-containing soap compositions
TH36749A (en) A mild antimicrobial mixture left over.
JPH11302684A (en) Production of bactericidal detergent effective against fungal bacteria
TH36748A (en) Anti-microbial wipes
TH36746A (en) Anti-microbial liquid detergent, gentle wash-off Containing acidic surfactants
CA2333935A1 (en) Anti-germ attachment - composition