TH36749A - A mild antimicrobial mixture left over. - Google Patents

A mild antimicrobial mixture left over.

Info

Publication number
TH36749A
TH36749A TH9801002033A TH9801002033A TH36749A TH 36749 A TH36749 A TH 36749A TH 9801002033 A TH9801002033 A TH 9801002033A TH 9801002033 A TH9801002033 A TH 9801002033A TH 36749 A TH36749 A TH 36749A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
index
antimicrobial
residual
plus
mixture
Prior art date
Application number
TH9801002033A
Other languages
Thai (th)
Inventor
วิลเลียม เบียร์ซ นายปีเตอร์
ไมเคิล มอร์แกน นายเจฟฟรีย์
กรีชอพ เบเออร์ นางแคธลีน
เซน นายเวย
แอนน์ แบ็คเคน นายเธเรซา
ลี แคลปป์ นายแมนนี
วอร์เรน นายราฟาเอล
Original Assignee
นายดำเนิน การเด่น
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายวิรัช ศรีเอนกราธา
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Filing date
Publication date
Application filed by นายดำเนิน การเด่น, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายวิรัช ศรีเอนกราธา, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ filed Critical นายดำเนิน การเด่น
Publication of TH36749A publication Critical patent/TH36749A/en

Links

Abstract

DC60 (20/08/41) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวกับสารผสมต้านจุลินทรีย์ชนิดปล่อยเหลืออยู่ซึ่งมีลักษณะพิเศษในที่ ว่าสารผสมนี้ประกอบรวมด้วย สารแสดงฤทธิ์ต้านจุลินทรีย์จาก 0.001% ถึง 5% , สารทำให้ พื้น ผิวว่องไวชนิดแอนไอออนิกจาก 0.05% ถึง 10%, สารให้ โปรตอนจาก 0.1% ถึง 10% และน้ำ จาก 0% ถึง 99.85% ซึ่งปรับ สารผสมนี้ให้มี pH ถึง pH จาก 3.0 ถึง 6.0 ซึ่งสารผสมต้าน จุลินทรีย์ชนิดปล่อยเหลืออยู่นี้มีดรรชนีของประสิทธิผลตก ค้างกรัมบวกมากกว่า 0.5 และซึ่งสาร ผสมต้านจุลินทรีย์ชนิด ปล่อยเหลืออยู่นี้มีดรรชนีของความอ่อนละมุนมากกว่า 0.3 การ ประดิษฐ์ นี้เกี่ยวกับสารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์ชนิด ปล่อยเหลืออยู่ด้วย เหมือนกันซึ่งมีดรรชนี ของประสิทธิผลตกค้างกรัมบวกมากกว่า 0.5 การประดิษฐ์นี้เกี่ยวกับสารผสมทำความสะอาด ต้าน จุลินทรีย์ชนิดปล่อยเหลืออยู่ซึ่งมีดรรชนีของการลดเชื้อโรค ได้ทันทีที่ล้างหนึ่งครั้งมากกว่า 1.0 ด้วยเหมือนกัน การ ประดิษฐ์นี้รวมเอาวิธีสำหรับทำความสะอาดผิวหนังใช้ด้วย เหมือนกัน และให้ประสิทธิผลตกค้างต่อต้านแบคทีเรียชนิดกรัม บวกโดยใช้ผลิตภัณฑ์เหล่านี้ การประดิษฐ์นี้เกี่ยวกับสารผสมต้านจุลินทรีย์ชนิดปล่อยเหลืออยู่ซึ่งมีลักษณะพิเศษในที่ว่าสารผสมนี้ประกอบรวมด้วย สารแสดงฤทธิ์ต้านจุลินทรีย์จาก 0.001% ถึง 5%, สารทำให้ พื้นผิวว่องไวชนิดแอนไอออนิกจาก 0.05% ถึง 10%, สารให้ โปรตอนจาก 0.1% ถึง 10% และน้ำจาก 0% ถึง 99.85% ซึ่งปรับ สารผสมนี้ให้มี pH ถึง pH จาก 3.0 ถึง 6.0 ซึ่งสารผสมต้าน จุลินทรีย์ชนิดปล่อยเหลืออยู่นี้มีดรรชนีของประสิทธิผลตก ค้างกรัมบวกมากกว่า 0.5 และซึ่งสารผสนมต้านจุลทรีย์ชนิด ปล่อยเหลืออยู่นี้มีดรรชนีของความอ่อนละมุนมากกว่า 0.3 การ ประดิษฐ์นี้เกี่ยวกับสารผสมทำความสะอาดต้านจุลินทรีย์ชนิด ปล่อยเหลืออยู่ด้วย เหมือนกันซึ่งมีดรรชนีของประสิทธิผลตกค้างกรัมบวกมากกว่า 0.5 การประดิษฐ์นี้เกี่ยวกับสารผสมทำความสะอาดต้าน จุลินทรีย์ชนิดปล่อยเหลืออยู่ซึ่งมีดรรชนีของการลดเชื้อโรค ได้ทันทีที่ล้างหนึ่งครั้งมากกว่า 1.0 ด้วยเหมือนกัน การ ประดิษฐ์นี้รวมเอาวิธีสำหรับทำความสะอาดผิวหนังใช้ด้วย เหมือนกันและให้ประสิทธิผลตกค้างต่อต้านแบคทีเรียชนิดกรัม บวกโดยใช้ผลิตภัณฑ์เหล่านี้ DC60 (20/08/41) This invention deals with residual-release antimicrobial mixtures that are characterized by That this mixture includes Antimicrobial agent from 0.001% to 5%, anionic surfactant from 0.05% to 10%, proton reagent from 0.1% to 10% and water from 0% to 99.85%. This mixture has a pH to pH from 3.0 to 6.0, which the mixtures resist. This residual microorganism has an index of effectiveness. Hold grams plus more than 0.5, and which type of antimicrobial mixture This remaining release has an index of softness greater than 0.3. The invention is about an antimicrobial cleaning compound. Left with The same index. The invention involved a residual-release antimicrobial cleaning compound with an antimicrobial index. The invention also incorporates a method for cleansing the skin and provides a residual effect against gram bacteria. Plus, using these products The invention is concerned with residual antimicrobial mixtures that have the characteristics of which they include: Antimicrobial agent from 0.001% to 5%, anionic surfactant from 0.05% to 10%, proton reagent from 0.1% to 10% and water from 0% to 99.85%. This mixture has a pH to pH from 3.0 to 6.0, which the mixtures resist. This residual microorganism has an index of effectiveness. Hold gram plus more than 0.5 and which type of antimicrobial ingredient This remaining release has an index of softness greater than 0.3. Left with The same, with an index of residual effectiveness, gram-plus greater than 0.5. Remaining microorganisms that have an index of pathogen reduction. It can be washed once more than 1.0 times as well. This invention also includes a method for cleaning the skin. The same and provides residual effectiveness against gram-type bacteria. Plus, using these products

Claims (2)

1. สารผสมต้านจุลินทรีย์ชนิดปล่อยเหลืออยู่ซึ่งมีลักษณะพิเศษในที่ว่าสารผสมนี้ประกอบรวมด้วย ก. สารแสดงฤทธิ์ต้านจุลินทรีย์จาก 0.001% ถึง 5% ข. สารทำให้พื้นผิวว่องไวชนิดแอนไอออนิกจาก 0.05% ถึง 10% ค. สารให้โปรตอนจาก 0.1% ถึง 10% และ ง. น้ำจาก 0% ถึง 99.85% ซึ่งปรับสารผสมนี้ให้มี pH ถึง pH จาก 3.0 ถึง 6.0 ซึ่ง สารผสมต้านจุลินทรียนิดปล่อยเหลืออยู่นี้มีดรรชนีของ ประสิทธิผลตกค้างกรัมลบมากกว่า 0.5 และซึ่งสารผสมต้าน จุลินทรีย์ชนิดปล่อยเหลืออยู่นี้มีดรรชนีของความอ่อนละมุน มากกว่า 0.31. Residual-release antimicrobial mixtures, characterized in that this mixture contains: a. Antimicrobial activity from 0.001% to 5% b. Anionic surfactant From 0.05% to 10%; c. Proton reagent from 0.1% to 10% and d. Water from 0% to 99.85%, which modifies this mixture to pH from 3.0 to 6.0. This little left is the index of The residual effect, gram-negative, was greater than 0.5 and that the This residual microorganism had an index of more than 0.3 softness. 2. สารผสมต้านจุลินทรีย์แท็ก :2. Antimicrobial Mixture Tag:
TH9801002033A 1998-06-02 A mild antimicrobial mixture left over. TH36749A (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH36749A true TH36749A (en) 2000-01-14

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AR025258A1 (en) COMPOSITION OF ANTIMICROBIAL CLEANING ANTIMICROBIAL AND METHODS TO REDUCE THE AMOUNT OF GERMANS IN THE SKIN AND TO TREAT ACNE.
BR0014778A (en) Antimicrobial Composition, Processes for Killing Bacteria, for Disabling Viruses, for Improving a Mammal's Global Health, for Reducing Absence of Persons, Use of Composition, Antimicrobial Product, and Personal Antimicrobial Treatment Set
AR012237A1 (en) RINSABLE ANTIMICROBIAL TREATMENT COMPOSITION AND METHODS TO REDUCE THE NUMBER OF GERMS IN THE SKIN AND TO TREAT ACNE.
DE60323995D1 (en) SOUR CLEANSING AGENT FOR HARD SURFACES
DE59504589D1 (en) LAUNDRY TREATMENT AGENT
CA2186011A1 (en) Mild antimicrobial liquid cleaning formulations
AR012241A1 (en) MAINTAINABLE ANTIMICROBIAL TREATMENT COMPOSITION AND METHODS TO PROVIDE RESIDUAL EFFECTIVENESS AND TO TREAT ACNE.
BR0107748A (en) Antimicrobial compositions
BR9608041B8 (en) SULFAATED OLIGOSACARIDE, AND PHARMACEUTICAL OR VETERINARY COMPOSITION FOR ANTI-ANGIOGENIC, ANTI-METHASTIC AND / OR ANTI-INFLAMMATORY TREATMENT.
CO4940378A1 (en) SOFT ANTIMICROBIAL LIQUID CLEANING COMPOSITIONS TO BE REMOVED BY RINSING CONTAINING SALICILIC ACID
NO990160L (en) Use of a combination of surfactants, chelating agents and essential oils for effective disinfection
DE60041753D1 (en) MEDICAMENT FOR THE TREATMENT OF C. PNEUMONIAE INFECTIONS
BR0314163A (en) Compositions for the treatment of rigid surfaces
ATE174786T1 (en) ORAL PREPARATIONS FOR THE TREATMENT OF PLAQUE AND GINGIVITIS CONTAINING A NON-CATIONIC ANTIBACTERIAL ACT AND A BICARBONATE SALT
WO2002005642A3 (en) Synergistic biocidal compositions
JP2005508876A5 (en)
US5547665A (en) Method for removing nits from hair
BR9406905A (en) Composition for deodorizing animal waste and corresponding deodorizing process
TH36749A (en) A mild antimicrobial mixture left over.
EP1153596A3 (en) Hair treatment compositions
WO1998055081A3 (en) Mild, leave-on antimicrobial compositions
DE50010648D1 (en) TRIAZINONE COMPOUNDS FOR THE TREATMENT OF DISEASES CAUSED BY THE PROBATION OF PARASITIC PROTOCOLS
Linfield et al. Studies in the development of antibacterial surfactants. I. institutional use of antibacterial fabric softeners
MX9708619A (en) Acidic aqueous liquid compositions.
TH36747A (en) Product wiping and rubbing softness of microorganisms.