TH34646C3 - Semiconductors with optical elements Optical device And methods for manufacturing semiconductors with optical elements - Google Patents
Semiconductors with optical elements Optical device And methods for manufacturing semiconductors with optical elementsInfo
- Publication number
- TH34646C3 TH34646C3 TH9901000809A TH9901000809A TH34646C3 TH 34646 C3 TH34646 C3 TH 34646C3 TH 9901000809 A TH9901000809 A TH 9901000809A TH 9901000809 A TH9901000809 A TH 9901000809A TH 34646 C3 TH34646 C3 TH 34646C3
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- semiconductor
- optical
- segment
- semiconductor device
- molded
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract 49
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title 1
- 238000000034 method Methods 0.000 title 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 abstract 2
Abstract
DC60 (17/07/55) เมื่อส่องแสงลงบนหรือใกล้กับส่วนที่ได้แบ่งแยกขององค์ประกอบรับแสง ลักษณะเฉพาะทาง ความถี่จะเลวลง ตามการประดิษฐ์นี้ จะมีการทำองค์ประกอบรับแสงบนชั้นรองกึ่งตัวนำด้วยการทำ ส่วนรอยเชื่อมต่อของส่วนกึ่งตัวนำที่หนึ่งที่มีคุณสมบัตินำไฟฟ้าชนิดที่หนึ่ง และส่วนกึ่งตัวนำที่สอง ที่มีคุณสมบัตินำไฟฟ้าชนิดที่สอง กล่าวคือ รอยเชื่อมต่อ p-n จากนั้นจะมีการทำบริเวณแบ่งแยกที่มี คุณสมบัตินำไฟฟ้าชนิดที่สองบนส่วนกึ่งตัวนำที่หนึ่งส่วนหนึ่ง เมื่อจ่ายแรงดันไฟฟ้าโน้มกลับซึ่งต่ำ กว่าที่ใช้ขับเคลื่อนองค์ประกอบรับแสงไปยังส่วนเชื่อมต่อการแพร่กระจายของชั้นปลอดพาหะออก จากส่วนรอยเชื่อมต่อที่ประกอบรวมด้วยองค์ประกอบรับแสงและส่วนเชื่อมต่อที่ประกอบรวมขึ้นด้วย บริเวณแบ่งแยก จะแบ่งแยกส่วนกึ่งตัวนำที่หนึ่งออกเป็นส่วนต่างๆ จำนวนหนึ่ง ทำให้ลักษณะเฉพาะ ทางความถี่ดีขึ้น เมื่อส่องแสงลงบนหรือใกล้กับส่วนที่ได้แบ่งแยกขององค์ประกอบรับแสง ลักษณะเฉพาะทาง ความถี่จะเลวลง ตามการประดิษฐ์นี้ จะมีการทำองค์ประกอบรับแสงบนชั้นรองกึ่งตัวนำด้วยการทำ ส่วนรอยเชื่อมต่อของส่วนกึ่งตัวนำที่หนึ่งที่มีคุณสมบัตินำไฟฟ้าชนิดที่หนึ่ง และส่วนกึ่งตัวนำที่สอง ที่มีคุณสมบัตินำไฟฟ้าชนิดที่สอง กล่าวคือ รอยเชื่อมต่อ p-n จากนั้นจะมีการทำบริเวณแบ่งแยกที่มี คุณสมบัตินำไฟฟ้าชนิดที่สองบนส่วนกึ่งตัวนำที่หนึ่งส่วนหนึ่ง เมื่อจ่ายแรงดันไฟฟ้าโน้มกลับซึ่งต่ำ กว่าที่ใช้ขับเคลื่อนองค์ประกอบรับแสงไปยังส่วนเชื่อมต่อการแพร่กระจายของชั้นปลอดพาหะออก จากส่วนรอยเชื่อมต่อที่ประกอบรวมด้วยองค์ประกอบรับแสงและส่วนเชื่อมต่อที่ประกอบรวมขึ้นด้วย บริเวณแบ่งแยก จะแบ่งแยกส่วนกึ่งตัวนำที่หนึ่งออกเป็นส่วนต่างๆ จำนวนหนึ่ง ทำให้ลักษณะเฉพาะ ทางความถี่ดีขึ้น DC60 (17/07/55) When light is illuminated on or near the discriminated part of the light-receiving element. Specialty Frequency will worsen According to this invention Light-receiving elements are performed on the semiconductor sub layer by doing The junction of the first semiconductor with the first conductive properties. And the second semiconductor With a second type of conductive property, that is, p-n junctions. A second type of conductive property on one semiconductor part. When supplying reverse voltage which is low Than used to drive the optical element to the propagation interface of the carrier-free layer. From a welded joint made of optical-receiving elements and a connection that is made up of Partition Will divide the first semiconductor into a number of segments, giving the characteristics The way the frequency improved When the light is shining on or near the divided part of the light-receiving element Specialty Frequency will worsen According to this invention Light-receiving elements are performed on the semiconductor sub layer by doing The junction of the first semiconductor with the first conductive properties. And the second semiconductor With a second type of conductive property, that is, p-n junctions. A second type of conductive property on one semiconductor part. When supplying reverse voltage which is low Than used to drive the optical element to the propagation interface of the carrier-free layer. From a welded joint made of optical-receiving elements and a connection that is made up of Partition Will divide the first semiconductor into a number of segments, giving the characteristics The way the frequency improved
Claims (9)
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH38986A3 TH38986A3 (en) | 2000-06-26 |
| TH34646C3 true TH34646C3 (en) | 2012-12-24 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR970054565A (en) | Photodiode and its manufacturing method | |
| KR840006872A (en) | Semiconductor integrated circuit device and manufacturing method thereof | |
| FR2738394B1 (en) | SILICON CARBIDE SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF | |
| KR960002909A (en) | Semiconductor light-receiving device and semiconductor device | |
| KR20090105951A (en) | Electronic device and manufacturing method thereof | |
| KR940022885A (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
| EP1551060A4 (en) | PHOTODIODE ARRAY AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME | |
| KR100984542B1 (en) | Semiconductor device and method of manufacturing the same | |
| KR950021804A (en) | Semiconductor device manufacturing method | |
| KR950021462A (en) | Semiconductor integrated device having a temperature detection circuit and its operating method | |
| RU96119670A (en) | Avalanche Photodiode | |
| KR940006395A (en) | Solid state imaging device and manufacturing method thereof | |
| EP0905789A4 (en) | SEMICONDUCTOR COMPONENT HAVING SILICON-ON-INSULATION STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING SAME | |
| TH34646C3 (en) | Semiconductors with optical elements Optical device And methods for manufacturing semiconductors with optical elements | |
| TH38986A3 (en) | Semiconductors with optical elements Optical device And methods for manufacturing semiconductors with optical elements | |
| US5600173A (en) | Semiconductor device capable of detecting a light position | |
| KR900008658A (en) | Semiconductor devices | |
| KR870009506A (en) | Semiconductor laser device and manufacturing method thereof | |
| IE822570L (en) | Semiconductor device and method of manufacturing the same | |
| KR20020005990A (en) | Semiconductor device | |
| KR950004616A (en) | Optoelectronic integrated circuits and manufacturing method | |
| KR970063502A (en) | Body-contact structure of semiconductor devices | |
| US6677207B1 (en) | Vanishingly small integrated circuit diode | |
| US10431697B2 (en) | Bi-directional Zener diode having a first and second impurity regions groups formed in surface portion of a substrate and a first electrode electrically connected to at least one first impurity regions, and not connected from at least another one | |
| KR100671614B1 (en) | High Voltage Transistors in Flash Memory Devices |