TH32743A

TH32743A - สารผสมที่ใช้ในการขัด

Info

Publication number: TH32743A
Application number: TH9701004944A
Authority: TH
Inventors: ทามาอิ นายคาซูเซอิ; มิอูระ นายชิโรว์; คาวามูระ นายอัตสึโนริ
Original assignee: นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์; นายดำเนิน การเด่น; นายต่อพงศ์ โทณะวณิก; นายวิรัช ศรีเอนกราธา; ฟูจิมิ อินคอร์ปอเรเต็ด
Filing date: 1997-12-03
Publication date: 1999-03-20

Abstract

DC60 (27/02/41) สารผสมที่ใช้ในการจัดที่ประกอบด้วยซิลิกาในรูปของไอ, สารประกอบโพแทสเซียม แบบเบสิก และน้ำ, ที่ซึ่งมีค่าการ นำไฟฟ้าจำเพาะตั้งแต่ 100 ถึง 5,500 (มิว)s/cm. สารผสมที่ใช้ในการจัดที่ประกอบด้วยซิลิกาในรูปของไอ,สารประกอบโพแพสเซียมแบบเบสิก และน้ำ, ที่ซึ่งมีค่าการ นำไฟฟ้าจำเพาะตั้งแต่ 100 ถึง 5,500 us/cm.

Claims

1.สารผสมที่ใช้ในการขัดประกอบด้วยซิลิกาในรูปของไอ,สารประกอบโพแทสเซียมแบบเบสิกและน้ำ, ที่มีค่าการนำ ไฟฟ้าจำเพาะตั้งแต่ 100 ถึง 5,500 us/cm

2.สารผสมที่ใช้ในการขัดที่เป็นไปตามข้อถือสิทธิที่ 1, ที่ ซึ่งสารประกอบโพแทสเซียมแบบเบสิกถูกเลือกมาจากหมู่ ที่ประกอบด้วยไฮดรอกไซด์, ฟอสเฟต,ไพโรฟอสเฟต,ฟอส ไฟต์, คาร์บอเนต, ซิลิเกต, บอเรต, ไฮโปคลอไรด์,ไฮ โปโบรไมต์ และคาร์บอกซีเลต

3.สารผสมที่ใช้ในการขัดที่เป็นไปตามข้อถือสิทธิ 1 หรือ 2 ที่ซึ่ง มีพื้นฐานอยู่บนปริมาณทั้งหมดของสารผสมที่ใช้ในการ จัด สารประกอบโพแทสเซียมแบบเบสิก จะอยู่ในปริมาณ ตั้งแต่ 0.01 ถึง 0.5% โดยน้ำหนัก

4.สารผสมที่ใช้ในการขัดที่ประกอบด้วยซิลิกาในรูปของไอ สารประกอบเบสิกที่มีไนโตรเจนและน้ำ, ที่มีค่าการนำไฟ ฟ้าจำเพาะตั้งแต่ 100 ถึง 1,500 us/cm

5.สารผสมที่ใช้ในการขัดที่เป็นไปตามข้อถือสิทธิ 4 ที่ซึ่ง สารประกอบเบสิกที่มีไนโตรเจนที่ถูกเลือกจากหมู่ที่ประ กอบด้วยแอมโมเนียม ไฮดรอกไซด์, แอมโมเนียมฟอส เฟต, แอมโมเนียม คาร์บอเนต, แอมโมเนียม ซิลิเกต, แอมโมเนียม บอเรต, แอมโมเนียม ไฮโปโบรไมต์ และสารประกอบอะมีน

6.สารผสมที่ใช้ในการขัดที่เป็นไปตามข้อถือสิทธิ 4 หรือ 5 ที่ซึ่งมีพื้นฐานอยู่บนปริมาณทั้งหมดของสารผสมที่ใช้ใน การขัด สารประกอบเบสิกที่มีไนโตรเจนอยู่ในปริมาณตั้ง แต่ 0.01 ถึง 1% โดยน้ำหนัก

7.สารผสมที่ใช้ในการขัดที่เป็นไปตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อ ถือสิทธิ 1 ถึง 6 ที่ซึ่งซิลิกาในรูปของไอ มีขนาดอนุภาค เริ่มแรกเฉลี่ยตั้งแต่ 5 ถึง 80 nm

8.สารผสมที่ใช้ในการขัดที่ประกอบด้วยซิลิกาแบบคอลอยด์ และน้ำ, ที่ซึ่งมีค่าการนำไฟฟ้าจำเพาะตั้งแต่ 30 ถึง 5,000 us/cm

9.สารผสมที่ใช้ในการขัดที่เป็นไปตามข้อถือสิทธิ 8 ซึ่งมี สารประกอบโพแทสเซียมแบบเบสิกอยู่ด้วย

10.สารผสมที่ใช้ในการขัดที่เป็นไปตามข้อถือสิทธิ 9 ที่ ซึ่งสารประกอบโพแทสเซียมแบบเบสิกที่ถูกเลือกจากหมู่ ที่ประกอบด้วยไฮดรอกไซด์,ฟอสเฟต, ไพโรฟอสเฟต, ฟอสไฟด์,คาร์บอเนต, ซิลิเกต, บอเรต, ไฮโปคลอไรด์ ไฮโปโบรไมด์ และ คาร์บอกซีเลต

11.สารผสมที่ใช้ในการขัดที่เป็นไปตามข้อถือสิทธิ 9 หรือ 10, ที่ซึ่ง, มีพื้นฐานอยู่บนปริมาณรวมทั้งหมดของสารผสม ที่ใช้ในการขัด, สารประกอบโพแทสเซียมแบบเบสิก อยู่ในปริมาณอย่างมากที่สุด 1.5% โดยน้ำหนัก

12.สารผสมที่ใช้ในการขัดที่ประกอบด้วยซิลิกาแบบคอล ลอยด์, สารประกอบเบสิกที่มีไนโตรเจนอยู่และน้ำ, ที่ ซึ่งมีค่าการนำไฟฟ้าจำเพาะตั้งแต่ 30 ถึง 1,500 us/ cm

13.สารผสมที่ใช้ในการขัดที่เป็นไปตามข้อถือสิทธิ 12, ที่ซึ่งสารประกอบเบสิกที่มีไนโตรเจนอยู่ที่ถูกเลือกมาจาก หมู่ที่ประกอบด้วยแอมโมเนียม ไฮดรอกไซด์, แอมโม เนียม, ฟอสเฟต, แอมโมเนียม คาร์บอเนต, แอมโม เนียมซิลิเกต, แอมโมเนียม บอเรต, แอมโมเนียม ไฮโปคลอไรต์, แอมโมเนียมไฮโปรไมต์, แอมโม เนียมคาร์บอกซิเลต, และสารประกอบอะมีน

14.สารผสมที่ใช้ในการขัดที่เป็นไปตามข้อถือสิทธิ 12 หรือ 13 ที่ซึ่ง มีพื้นฐานอยู่บนปริมาณรวมทั้งหมดของ สารผสมที่ใช้ในการขัด สารประกอบเบสิกที่มีไนโตรเจน อยู่ในปริมาณตั้งแต่ 0.01 ถึง 0.5% โดยน้ำหนัก

15.สารผสมที่ใช้ในการขัดที่เป็นไปตามข้อใดข้อหนึ่งของ ข้อถือสิทธิ 8 ถึง 14 ที่ซึ่งซิลิกาแบบคอลลอยด์ที่ขนาดอนุ ภาคเริ่มแรกเฉลี่ยตั้งแต่ 5 ถึง 200 mm

16.การใช้สารผสมที่ใช้ในการขัดตามที่ได้อธิบายไว้ใน ข้อถือสิทธิ 1,4,8 หรือ 12 เป็นสารผสมที่ใช้สำหรับ การขัดฟิล์มซิลิกอน ไดออกไซด์

17.วิธีการในการขัดฟิล์มซิลิกอนไดออกไซด์, ที่ซึ่งสาร ผสมที่ใช้ในการขัดตามที่ได้อธิบายไว้ในข้อถือสิทธิ 1,4 8 หรือ 12 จะถูกใช้เป็นสารผสมในการขัดฟิล์มซิลิกอนได ออกไซด์ (ข้อถือสิทธิ 17 ข้อ , - รูป )