TH26380A - ON-SITE MANUFACTURE OF ULTRA- HIGH-PURITY HYDROFLUORIC ACID FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING - Google Patents

ON-SITE MANUFACTURE OF ULTRA- HIGH-PURITY HYDROFLUORIC ACID FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING

Info

Publication number
TH26380A
TH26380A TH9601001839A TH9601001839A TH26380A TH 26380 A TH26380 A TH 26380A TH 9601001839 A TH9601001839 A TH 9601001839A TH 9601001839 A TH9601001839 A TH 9601001839A TH 26380 A TH26380 A TH 26380A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
hydrofluoric acid
ultra
semiconductor processing
site manufacture
purity hydrofluoric
Prior art date
Application number
TH9601001839A
Other languages
Thai (th)
Inventor
อาร์.สก็อต คลาร์ค นาย
โจจี. ฮอฟฟ์แมน นาย
Original Assignee
นายดำเนิน การเด่น
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นาย ต่อพงศ์โทณะวณิก
นาย ดำเนินการเด่น
นาย วิรัชศรีเอนกราธา
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Filing date
Publication date
Application filed by นายดำเนิน การเด่น, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นาย ต่อพงศ์โทณะวณิก, นาย ดำเนินการเด่น, นาย วิรัชศรีเอนกราธา, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ filed Critical นายดำเนิน การเด่น
Publication of TH26380A publication Critical patent/TH26380A/en

Links

Abstract

ระบบสำหรับการทำให้บริสุทธิ์และการผลิตของกรดไฮโดรฟลูออริค ณ.ตำแหน่งที่ใช้ในการผลิตอุปกรณ์สารกึ่ง ตัวนำ ขั้นตอนการระเหย (อาจจะเลือกให้มีการออกซิไดซ์สาร หนู) ตามด้วยคอลัมน์การกลั่นเพื่อขจัดสิ่งเจือปนอื่น ๆเกือบ ทั้งหมดคอลัมน์เครื่องทำให้บริสุทธิ์จากสารไอออนิคเพื่อขจัด สิ่งเจือปนที่ไม่ถูกออกโดยคอลัมน์ลำดับส่วน และสุดท้าย ตัวจ่าย HF (HFS) Systems for the purification and production of hydrofluoric acid. At the location of the semiconductor device manufacturing evaporation process (May choose to oxidize the rats) followed by a distillation column to remove most other impurities. Impurity not removed by sequence column, section, and finally, HF dispenser (HFS).

Claims (1)

1. ระบบย่อย ณ. ที่ใช้ ในโรงงานผลิตอุปรณ์สารกึ่งตัวนำ เพื่อการให้รีเอเจนต์ที่มีความบริสุทธิ์ระดับอัลตราที่ประกอบ ด้วย HF ต่อการดำเนินการการผลิตสารกึ่งตัวนำ ที่ประกอบ ด้วย: แหล่งการระเหยที่ต่ออยู่เพื่อรองรับแหล่งของ Hf และ เพื่อให้กระแสไอ HF จากที่นั้น; กระแสไอ HF ที่กล่าวแล้วต่ออยู่เพื่อผ่านไปยังหน่วยเครื่อง ทำความสะอาดต่อไอออนิคซึ่งให้ปริมาตรการหมุนเวียนกลับของ น้ำที่มีความบริสุทธิ์สูง ที่มีความเข้มข้นสูงของ HF ที่สัมผัส กับกระแสไอ HF ที่กล่าวแล้ว ซึ่งเครื่องทำให้บริสุทธิ์ที่กล่าว แล้วแท็ก :1. The subsystem at the place of use in the semiconductor manufacturing plant To provide HF composite ultra-purity reagents to semiconductor production operations consisting of: attached evaporation source to support the Hf source and to provide HF vapor flows from there. ; The said HF vapor stream is connected to the unit. Cleaning to ionic, which provides the recirculation volume of High purity water With a high concentration of HF exposed to the said HF vapor streams, which the said purifier is said to:
TH9601001839A 1996-06-05 ON-SITE MANUFACTURE OF ULTRA- HIGH-PURITY HYDROFLUORIC ACID FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING TH26380A (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH26380A true TH26380A (en) 1997-08-28

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
IN2012DE01021A (en)
JP2005506694A (en) Central carbon dioxide purifier
NO20050520L (en) Purification of N, N-dimethylacetamide
ES2126046T3 (en) PROCEDURE AND DEVICE FOR THE BIOLOGICAL PURIFICATION OF WATER.
PT1109766E (en) PURIFICATION OF 1,1,1,3,3-PENTAFLUOROBUTANE
SE503351C2 (en) Process for the purification of secondary condensates in evaporation of liquor
JP3378578B2 (en) Treatment method of aqueous solution mainly containing nitric acid and hydrofluoric acid
KR20010049629A (en) Pfc recovery using condensation
TH26380A (en) ON-SITE MANUFACTURE OF ULTRA- HIGH-PURITY HYDROFLUORIC ACID FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING
MY132240A (en) On-site manufacture of ultra-high-purity hydrofluoric acid for semiconductor processing
CN88101354A (en) Regeneration contains CO 2Method with the COS absorbent solution streams
ATE90224T1 (en) PROCESS FOR CLEANING EXHAUST GAS WITH HIGH CHLORIDE CONTENT.
US6395142B1 (en) Method and apparatus for purifying low grade acetonitrile and other constituents from hazardous waste
US6372022B1 (en) Ionic purifier
CN101070144B (en) Method for removing carbon tetrafluoride foreign matter in nitrogen trifluoride gas
DE59301088D1 (en) Process for the production of pure, concentrated hydrochloric acid from waste water.
JP2955864B2 (en) Method for producing high-purity oxygen
JP2003146619A (en) Method for recovering hydrogen fluoride
SU763657A1 (en) Method of purifying air from impurities in air splitting plants
JPH02160020A (en) Eliminating process for sulfur
SU905191A1 (en) Process for purification of nitrogen oxide by rectification for use in fractionation of oxygen isotopes
TH26383A (en) ON-SITE MANUFACTURE OF ULTRA-HIGH-PURITY NITRIC ACID FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING
GB1076025A (en) Mehtod for purifying nitric acid
CN1040642C (en) Vaccum rectification for purifying acetone cyanohydrin
JP3306521B2 (en) Exhaust gas purification method and apparatus