TH25254B - Magnetic basket device for quarantine plasma from arc ion evaporators. - Google Patents

Magnetic basket device for quarantine plasma from arc ion evaporators.

Info

Publication number
TH25254B
TH25254B TH101004656A TH0101004656A TH25254B TH 25254 B TH25254 B TH 25254B TH 101004656 A TH101004656 A TH 101004656A TH 0101004656 A TH0101004656 A TH 0101004656A TH 25254 B TH25254 B TH 25254B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
magnetic
plasma
quarantine
arc ion
evaporators
Prior art date
Application number
TH101004656A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH77113A (en
Inventor
สุรินทร์พงษ์ นายสุรศักดิ์
Original Assignee
สุรินทร์พงษ์ นายสุรศักดิ์
Filing date
Publication date
Application filed by สุรินทร์พงษ์ นายสุรศักดิ์ filed Critical สุรินทร์พงษ์ นายสุรศักดิ์
Publication of TH77113A publication Critical patent/TH77113A/en
Publication of TH25254B publication Critical patent/TH25254B/en

Links

Abstract

DC60 อาร์คไอออนอิแวพอเรเตอร์ที่ติดตั้งอุปกรณ์ตระกร้าแม่เหล็ก ( Magnetic Bucket ) เพื่อ ใช้ในการกักกันและควบคุมพลาสมาที่ได้จากการอาร์คไอออนอิแวพอเรเตอร์นั้น อาร์คไอออนอิแวพอเรเตอร์ที่ติดตั้งอุปกรณ์ตระกร้าแม่เหล็ก ( Magnetic Bucket ) เพื่อ ใช้ในการกักกันและควบคุมพลาสมาที่ได้จากการอาร์คไอออนอิแวพอเรเตอร์นั้นThe DC60 arc ion evaporator is equipped with a magnetic bucket to contain and control the plasma generated by the arc ion evaporator.

Claims (1)

1. อุปกรณ์ตะกร้าแม่เหล็กสำหรับกักกันพลาสมาจากครื่องระเหยไอสสารแบบอาร์ค ไอออน สำหรับการเครือบฟิล์มบางหรือสังเคราะห์สารโดยวิธีไอระเหยของสสาร ประกอบด้วย อุปกรณ์ที่เป็นแม่เหล็กถาวรหรือชุดสนามแม่เหล็กมาวางในลักษณะที่มีขั้ว ตรงข้ามกับขั้วของแม่เหล็กอ้างอิงที่ถูกสร้างขึ้นเพื่อนำไปใช้ติดตั้งกับเครื่องระเหยไอสสาร แบบอาร์คไอออนอิแวพอเรเตอร์นั้น มีลักษณะพิเศษเฉพาะคือ อุปกรณ์ที่เป็นแม่เหล็ก ถาวรหรือชุดสนามแม่เหล็กอย่างน้อยหนึ่งชิ้นขึ้นไปจะถูกติดตั้งอยู่ที่ในระนาบเดียวกันกับ ด้านข้างหรือด้านหน้าหรือด้านหลังของคาโธด โดยที่แรงจากสนามแม่เหล็กจากตระกร้า แม่เหล็กยังมีผลต่อคาโธด1.Magnetic basket device for quarantine plasma from arc-ion vaporizers for thin film application or synthesis by means of substance vapors, consisting of a permanent magnet device or a magnetic field unit placed in Polarized characteristics As opposed to the polarity of the reference magnet, it was created to be fitted to a vaporizer. An arc ion Iwapeter that There is a unique feature. Magnetic device One or more permanent or magnetic fields are installed in the same plane as the Side or front or back of the cathode Where the force of the magnetic field from the basket The magnet also has an effect on the cathode.
TH101004656A 2001-11-15 Magnetic basket device for quarantine plasma from arc ion evaporators. TH25254B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH77113A TH77113A (en) 2006-04-20
TH25254B true TH25254B (en) 2009-01-09

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ATE277204T1 (en) ARC EVAPORATION WITH POWERFUL MAGNETIC GUIDANCE FOR LARGE SURFACE TARGET
WO2007131944A3 (en) Arc source and magnet arrangement
WO2001040532A3 (en) Gas cluster ion beam low mass ion filter
DE69531240D1 (en) RECTANGULAR VACUUM ARC PLASMA SOURCE
US9761423B2 (en) Sputtering apparatus and magnet unit
ATE408890T1 (en) DEVICE FOR EVAPORATION OF MATERIALS FOR COATING OBJECTS
EP1576641B8 (en) Vacuum arc source comprising a device for generating a magnetic field
DE60334935D1 (en) DEVICE FOR PRE-TREATING COMBUSTION AIR
WO2005095666A3 (en) Magnetically enhanced capacitive plasma source for ionized physical vapour deposition-ipvd
TH25254B (en) Magnetic basket device for quarantine plasma from arc ion evaporators.
TH77113A (en) Magnetic basket device for quarantine plasma from arc ion evaporators.
WO2004067786A3 (en) Methods, systems, and devices for evaluation of thermal treatment
SG133405A1 (en) Vacuum arc evaporation apparatus
CN207047313U (en) Magnetic control sputtering device
WO2005091329A3 (en) Sputtering device for manufacturing thin films
JPS5780713A (en) Manufacture of magnetic thin film by sputtering
JPS6217175A (en) Sputtering device
JP2003213410A5 (en)
JP2019104970A (en) Film deposition device and magnetic circuit
WO2009066633A1 (en) Evaporation source for arc ion plating device and arc ion plating device
JPH0680187B2 (en) Magnetic field adjustment method for magnetron sputtering device
JPH02163372A (en) Magnetron sputtering equipment
JP2002256431A (en) Magnetron sputtering device
ATE475271T1 (en) COAXIAL SPEAKER WITH WAVY-SHAPED MEMBRANE
JP2007231401A (en) Facing target sputtering system