TH23235A - "สารผสมเซอรามิคสลิปและวิธีการทำสิ่งนี้" - Google Patents

"สารผสมเซอรามิคสลิปและวิธีการทำสิ่งนี้"

Info

Publication number
TH23235A
TH23235A TH9501002065A TH9501002065A TH23235A TH 23235 A TH23235 A TH 23235A TH 9501002065 A TH9501002065 A TH 9501002065A TH 9501002065 A TH9501002065 A TH 9501002065A TH 23235 A TH23235 A TH 23235A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
ceramic
suspension
suspensions
less
powder
Prior art date
Application number
TH9501002065A
Other languages
English (en)
Other versions
TH14649B (th
TH23235B (th
Inventor
เอช.อแดร์ นายเจมส์
เอ.คอสแทนทิโน นายสทีเฟน
Original Assignee
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
นายธเนศ เปเรร่า
Filing date
Publication date
Application filed by นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า, นายธเนศ เปเรร่า filed Critical นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
Publication of TH23235A publication Critical patent/TH23235A/th
Publication of TH23235B publication Critical patent/TH23235B/th
Publication of TH14649B publication Critical patent/TH14649B/th

Links

Abstract

สารแขวนลอยที่สม่ำเสมอของผงเซรามิคและวิธีการสำหรับทำสิ่งนี้ สารแขวน ลอยถูกเตรียมขึ้นโดยการผสมผงเซอรามิคอนุภาคละเอียดในของไหลพาหนะที่มีน้ำเป็นตัวกลาง การผสมรวมกับสารช่วยการกระจายตัว และตามทางเลือกอีกแบบหนึ่งจะผสมรวมสารยึดเกาะ ที่เป็นสารอินทรีย์ลงไปด้วยเมื่อจะทำสลิป ผงเซอรามิคมีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยประมาณ 0.5 ไมครอน หรือเล็กกว่าและมีอยู่ในสารแขวนลอยในอัตราการใส่สารไม่เกิน 30 เปอร์เซ็นต์ โดยปริมาณของของแข็งทั้งหมดในสารแขวนลอย ในของไหลพาหนะมีสารลดความว่องไวใน การทำปฎิกิริยาในปริมาณ 0.5 ถึง 5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักของผงเซอรามิคที่มีอยู่ในสาร แขวนลอย และสลิปตามลำดับ หลังจากเติมสารช่วยการกระจายตัวแล้ว สารแขวนลอยนั้นมี จุดครากของบิสแฮมต่ำกว่า 230 ไดน์/ตารางเซ็นติเมตรและความหนืดปรากฎต่ำกว่า 3000 เซ็นติพอยส์ ชั้นวัสดุที่ยังไม่ได้เผาที่ผลิตจากสลิปนั้นแสดงขนาดรูพรุนต่ำกว่า 0.5 ไมครอน

Claims (2)

1. สารแขวนลอยของเซรามิคซึ่งประกอบด้วย ผงเซรามิคปริมาณหนึ่งที่ประกอบด้วยองค์ประกอบโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งอค์ประกอบ ผงดังกล่าวที่แขวนลอยอย่างสม่ำเสมอในของไหลที่มีน้ำเป็นตัวกลางในช่วงไม่เกิน 30 เปอร์เซ็นต์ โดยปริมาตรของของแข็งทั้งหมดในสารแขวนลอยดังกล่าว และมีขนาดอนุภาคเลี่ยน้อยกว่า 0.5 ไมโครมิเตอร์ สารลดความว่องไวในการทำปฎิกิริยาปริมาณหนึ่งในช่วงตั้งแต่ 0.5 ถึง 5 เปอร์เซ็นต์โดย น้ำหนักของผงเซรามิคดังกล่าว และ สารช่วยการกระจายตัวปริมาณหนึ่งอย่างน้อยที่สุด 1 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักของผง เซรามิคดังกล่าว, สารลดความว่องไวในการทำปฎิกิริยา และสารช่วยการกระจายตัวดังกล่าวใน ปริมาณที่มีอยู่จนกระทั่งสารแขวนลอยดังกล่าวมีความหนืดปรากฎน้อยกว่า 3 x 10 -6 เมกกะ ปาสคาล.วินาที (300 เซ็นติพอยส์) 2. สารแขวนลอยของซรามิคของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งผงเซรามิคดังกล่าวรวมถึงโลหะ ออกไซด์เชิงซ้อนที่มีสูตร ABO3 โดยที่ A คือ โลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่เลือกได้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วย แบเรียม, แคลเซียม, แมกนีเซียม, ตะกั่ว, สตรอนเทียม และสังกะสี และโดยที่ B คือ โลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่เลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบด้วย แฮฟเนียม, ดีบุก, ไททาเนียม และ เซอร์โคเนียม, หรือของผสม หรือสารละลายที่เป็นของแข็งของสารเหล่านี้ 3. สารแขวนลอยของเซรามิคของข้อถือสิทธิข้อ 2 ที่ซึ่งโลหะออกไซด์เชิงซ้อนดังกล่าว คือ แบเรียมไตตาเนต 4. สารแขวนลอยของเซรามิคของข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งข้างต้น ที่ซึ่งสารลดความว่องไว ในการทำปฎิกิริยาดังกล่าวรวมถึงวัสดุที่เลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบด้วย ซัคซิเนต, เบนโซเอต, ฟอร์เมต, คัพเฟอรอน, 8-ไฮดรอกซีควิโนลีน, กรดออกซาลิค และของผสมของสารเหล่านี้ 5. สารแขวนลอยของเซรามิคของข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งข้างต้น ที่ซึ่งปริมาณระหว่าง 17.72 และ 30 เปอร์เซ็นต์โดยปริมาตรของผงเวรามิคถูกแขวนลอยอย่างสม่ำเสมอในของไหลที่มี น้ำเป็นตัวกลาง และสารแขวนลอยดังกล่าวมีความหนืดปรากฎน้อยกว่า 3 x 10 -6 เมกกะบ่าสคาล, วินาที (30 ไดน์-วินาที/ซม.2) ซึ่งถูกวัดที่ 25 ํซ และที่อัตราการเฉือนอยู่ในช่วง 0.6 ถึง 120 วินาที-1 6. สารแขวนลอยของเซรามิคของข้อถือสิทธิ 3 ที่ซึ่งโลหะออกไซด์เชิงซ้อนดังกล่าว รวมถึงสารโดปชนิดที่หนึ่งหรือมากกว่าที่เลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบด้วยออกไซด์ของอะลูมิเนียม, แอนติโมนี, บิสมัธ, โบรอน, แคลเซียม, แคดเมียม, โครเมียม, ทองแดง, โคบอลท์, แฮฟเนียม, เหล็ก, แลนธานัม, ตะกั่ว, แมงกานีส, โมลิปดีนัม, นีโอดีเมียม, นิเกิล, ไนโอเบียม, พราซีโอดีเมียม, ซา- มาเรียม, สแกนเดียม, ซิลิคอน, เงิน, แทนทาลัม, ไททาเนียม, ดีบุก, ทังสเตน, วาเนเดียม, ยิทเทรี ยม, สังกะสี และเซอร์โคเนียม 7. สารแขวนลอยของซรามิคของข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งข้างต้น ที่ซึ่งเซรามิคดังกล่าว มีศักย์ซีตาอยู่ในช่วง +10 ถึง +40 มิลลิโวลท์ หรือ -10 ถึง -40 มิลลิโวลท์ 8. สารแขวนลอยของเซรามิคของข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งข้างต้น ที่ซึ่งสารแขวนลอย ดังกล่าวมีจุดครากของบิงแฮมน้อยกว่า 2300 นิวตัน/ม.3 (230 ไดน์/ซม.3) 9. สารแขวนลอยของเซรามิคของข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งข้างต้น ที่ซึ่งความสามารถใน การละลายได้ขององค์ประกอบโลหะดังกล่าวในของไหลดังกล่าวอยู่ระหว่าง 10 -4 ถึง 10 -1 โมลต่อ ลิตร 1 0. สารแขวนลอยของเซรามิคของข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งข้างต้น ยังประกอบต่อไปด้วย ปริมาณของตัวประสานทางอินทรีย์ 1 1. วิธีการสำหรับการเตรียมสารแขวนลอยของเซรามิค ซึ่งมีวิธีการสดังกล่าวประกอบด้วย ขั้นตอนของ การผสมผงเซรามิคไม่เกิน 30 เปอร์เซ็นต์โดยปริมาตรของแข็งที่ประกอบด้วย องค์ประกอบโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งองค์ประกอบในของไหลที่มีน้ำเป็นตัวกลาง ผงดังกล่าวมี ขนาดอนุภาคเฉลี่ยน้อยกว่า 0.5 ไมโครมิเตอร์ ของไหลดังกล่าวที่มีสารลดความว่องไวในการทำปฎิกิริยาปริมาณหนึ่งในช่วงตั้งแต่ ประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักของผงเซรามิคดังกล่าว และ การผสมสารช่วยการกระจายตัวปริมาณหนึ่งอย่างน้อยที่สุด 1 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักของ ผงเซรามิคดังกล่าวกับสารแขวนลอยดังกล่าว, สารลดความว่องไวในการทำปฎิกิริยา และสารช่วย การกระจายตัวดังกล่าวในปริมาณที่มีอยู่จนกระทั่งสารแขวนลอยดังกล่าวมีความหนืดปรากฎน้อย กว่า 3 x 10 -6 เมกกะปาสคาล.วินาที(3000 เซ็นติพอยส์) 1 2. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 11 ที่ซึ่งผงเซรามิคดังกล่าวรวมถึงโลหะออกไซด์เชิงซ้อนที่มี สูตร ABO3 โดยที่ A คือโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่เลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบด้วย แบเรียม, แคลเซียม, แมกนีเซียม, ตะกั่ว, สตรอนเทียม, สังกะสี และโดยที่ B คือโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดที่เลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบด้วย แฮฟเนียม, ดีบุก, ไททาเนียม และเซอร์โคเนียม, หรือของ ผสม หรือสารละลายที่เป็นของแข็งของสารเหล่านี้ 1 3. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 12 ที่ซึ่งโลหะออกไซด์เชิงซ้อนดังกล่าว คือ แบเรียมไตตา- เนต 1 4. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 11-13 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งสารลดความว่องไวในการทำ ปฎิกิริยาดังกล่าวรวมถึงวัสดุที่เลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบด้วย ซัคซิเนต, เบนโซเอต, ฟอร์เมต, คัพเฟอรอน, 8-ไฮดรอกซีควิโนลีน , กรดออกซาลิค และของผสมของสารเหล่านี้ 1 5. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 11-14 ข้อใดข้อหนึ่ง ยังรวมต่อไปนี้ถึงขั้นตอนของการนำ ปริมาณเพิ่มเติมของของไหลที่มีน้ำเป็นตัวกลางกับสารแขวนลอยของเซรามิคดังกล่าวเพื่อให้ได้ ความหนืดปรากฎน้อยกว่า 3 x 10 -6 เมกกะปาสคาล.วินาที (30ไดน์.วินาที/ซม.2) ซึ่งถูกวัดที่ 25 ํซ และที่อัตราการเฉือนอยู่ในช่วง 0.6 ถึง 120 วินาที -1 1 6. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งโลหะออกไซด์เชิงซ้อนดังกล่าวรวมถึงสารโดปชนิด หนึ่งหรือมากกว่าที่เลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบด้วย อะลูมิเนียม, แอนติโมนี, บิสมัธ. โบรอน, แคลเซียม, แคดเมียม, โครเมียม, ทองแดง, โคบอลท์, แฮฟเนียม, เหล็ก, แลนธานัม,ตะกั่ว, แมงกานีส, โมลิปดีนัม,นีโอดิเมียม,นิเกิล,ไนโอเบียม,พราซีโอดีเมียม, ซามาเรียม, สแกนเดียม, ซิลิคอน, เงิน, แทนทาลัม, ไททาเนียม, ดีบุก, ทังสเตน, วาเนเดียม, ยิทเทรียม, สังกะสี และ เซอร์โคเนียม 1 7. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 11-16 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งผงเซรามิคดังกล่าวมีศักย์ซีตาอยู่ ในช่วง +10 ถึง +40 มิลลิโวลท์ หรือ -101 ถึง -40 มิลลิโวลท์ 1 8. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 11-17 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งสารแขวนลอยดังกล่าวมีจุดคราก ของบิงแฮมน้อยกว่า 2300 นิวตัน/ม.3 (230 ไดน์/ซม.3) 1 9. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 11-18 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งปริมาณของตัวประสานทางอินทรีย์ ถูกเติมกับสารแขวนลอยของเซรามิคดังกล่าวเพื่อก่อรูปสารผสมสลิป 2 0. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 11-19 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งความสามารถในการละลายได้ของ องค์ประกอบโลหะดังกล่าวในของไหลดังกล่าวอยู่ระหว่าง 10 -4 ถึง 10 -1 โมลต่อลิตร 2
1. การกระจายตัวของเซรามิคของข้อถือสิทธิข้อ 1-10 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งผงเซรามิคถูก เคลือบด้วยตะกอนที่ไม่สามารถละลายได้ที่ก่อรูปจากสารลดความว่องไวในการทำปฎิกิริยา และ องค์ประกอบโลหะของผงเซรามิค 2
2. วิธีการก่อรูปของหนึ่งในข้อถือสิทธิข้อ 11-20 ที่ซึ่งผงเซรามิคถูกเคลือบด้วยตะกอนที่ ไม่สามารถละลายได้ที่ก่อรูปจากสารลดความว่องไวในการทำปฎิกิริยา และองค์ประกอบโลหะของ ผงเซรามิค
TH9501002065A 1995-08-22 "สารผสมเซอรามิคสลิปและวิธีการทำสิ่งนี้" TH14649B (th)

Publications (3)

Publication Number Publication Date
TH23235A true TH23235A (th) 1997-01-28
TH23235B TH23235B (th) 1997-01-28
TH14649B TH14649B (th) 2003-04-23

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU97105026A (ru) Керамическая шликерная композиция и способ ее приготовления
EP1112223B1 (en) Process for preparing nanosize metal oxide powders
KR100384432B1 (ko) 세라믹 슬립 조성물 및 그의 제조방법
US4767729A (en) Process for the preparation of a voltage-dependent ceramic resistance based on ZnO, and a resistance produced by the process
US4800051A (en) Method for fabricating ceramic materials
TWI399254B (zh) Nickel powder and its manufacturing method and conductive paste
US6261336B1 (en) Stable aqueous iron based feedstock formulation for injection molding
JP3280688B2 (ja) 希土類酸化物の製造方法
EP0428387B1 (en) Process for producing powder material for lead perovskite ceramic
WO1998000257A1 (en) Method of making powder mixtures
CN101309880A (zh) 高温稳定陶瓷层及成型体
TH23235A (th) "สารผสมเซอรามิคสลิปและวิธีการทำสิ่งนี้"
TH14649B (th) "สารผสมเซอรามิคสลิปและวิธีการทำสิ่งนี้"
TH4400B (th) ข้อต่อสำหรับโครงคร่าวเพดานชนิดแขวน
TH6318A (th) ข้อต่อสำหรับโครงคร่าวเพดานชนิดแขวน
EP0107700B1 (en) Method for fabricating ceramic materials
JPS62143859A (ja) 高密度Ba〔Zn▲1/3▼(Ta及び又はNb)▲2/3▼〕O↓3ペロブスカイトセラミツクスの製造方法
RU99120069A (ru) Диспергируемые, покрытые оксидом металла материалы на основе титана бария
CN110745865A (zh) 微粒水基分散悬浮方法
JP2622545B2 (ja) 誘電体共振器材料の製造方法
JPH0331647B2 (th)
JPS6191066A (ja) 希土類元素の酸化物を表面に付着した窒化ケイ素粉体の製法
JPH0784349B2 (ja) ネオジウムを含む誘電体セラミックスの製造方法
DE1235876B (de) Verfahren zur Herstellung von Bariumferrit
JP2533305B2 (ja) 誘電体共振器材料の製造方法