TH22508U - สูตรตำรับมาสก์หน้าแบบลอกออก (peel-off mask) - Google Patents
สูตรตำรับมาสก์หน้าแบบลอกออก (peel-off mask)Info
- Publication number
- TH22508U TH22508U TH1903002538U TH1903002538U TH22508U TH 22508 U TH22508 U TH 22508U TH 1903002538 U TH1903002538 U TH 1903002538U TH 1903002538 U TH1903002538 U TH 1903002538U TH 22508 U TH22508 U TH 22508U
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- peel
- weight
- composition
- facial mask
- mask formulation
- Prior art date
Links
Abstract
หน้า 1 ของจำนวน 1 หน้า บทสรุปการประดิษฐ์ สูตรตำรับมาสก์หน้าแบบลอกออก (peel-off mask) เพื่อผิวกระจ่างใส ที่ประกอบรวมด้วย - อนุภาคอนุภาคนาโนที่บรรจุสารสำคัญ ร้อยละ 0.5 ถึง 10 โดยนํ้าหนักขององค์ประกอบ - สารเพิ่มความเสถียร ร้อยละ 5 ถึง 40 โดยนํ้าหนักขององค์ประกอบ - สารก่อฟิล์ม ร้อยละ 10 ถึง 30 โดยนํ้าหนักขององค์ประกอบ - สารเติมแต่ง ร้อยละ 0.1 ถึง 5 โดยนํ้าหนักขององค์ประกอบ - ส่วนผสมที่ยอมรับได้ทางเครื่องสำอางโดย ปรับปริมาตรให้ครบ 100 โดยนํ้าหนักขององค์ประกอบ ซึ่งมีลักษณะเฉพาะคือ สารสำคัญ คือ สารสกัดจากมะขามป้อม (emblica extract) และกรดโคจิก (kojic acid)
Claims (9)
1. สูตรตำรับมาสก์หน้าแบบลอกออก (peel-off mask) เพื่อผิวกระจ่างใส ที่ประกอบรวมด้วย - อนุภาคนาโนที่บรรจุสารสำคัญ ร้อยละ 0.5 ถึง 10 โดยน้ำหนักขององค์ประกอบ - สารเพิ่มความเสถียร ร้อยละ 5 ถึง 40 โดยน้ำหนักขององค์ประกอบ - สารก่อฟิล์ม ร้อยละ 10 ถึง 30 โดยน้ำหนักขององค์ประกอบ - สารเติมแต่ง ร้อยละ 0.1 ถึง 5 โดยน้ำหนักขององค์ประกอบ - ส่วนผสมที่ยอมรับได้ทางเครื่องสำอางโดย ปรับปริมาตรให้ครบ 100 โดยน้ำหนักขององค์ประกอบ ซึ่งมีลักษณะเฉพาะคือ สารสำคัญ คือ สารสกัดจากมะขามป้อม (emblica extract) และกรดโคจิก (kojic acid)
2. สูตรตำรับมาสก์หน้าแบบลอกออก (peel-offmask) เพื่อผิวกระจ่างใส ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ สารสำคัญ มีปริมาณร้อยละ 5 ถึง 20 โดยน้ำหนักของอนุภาคนาโน
3. สูตรตำรับมาสก์หน้าแบบลอกออก (peel-off mask) เพื่อผิวกระจ่างใส ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ อัตราส่วนโดยน้ำหนักของกรดโคจิก (kojic acid) ต่อ สารสกัดจากมะขามป้อม (emblica extract) ที่บรรจุอยู่ใน อนุภาคนาโน คือ 1 : 33 ถึง 1 : 80
4. สูตรตำรับมาสก์หน้าแบบลอกออก (peel-off mask) เพื่อผิวกระจ่างใส ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ สาร เพื่มความเสถียร เลือกได้จาก พอลิเอธิลีนไกลคอล (polyethylene glycol: PEG), กลีเซอรีน (glycerin), ไฮยาลู รอนิกแอสิดอีลาสโตเมอร์ (hyaluronic acid elastomer), บิวทิลีนไกลคอล (butylene glycol), เฮกซิลีน ไกลคอล (hexylene glycol), โซเดียมไฮยาลูรอเนต (sodium hyaluronate), ไดโพรพิลีน ไกลคอล (dipropylene glycol), ไซลิทอล (xylitol),โซเดียม แลกเทต (sodium lactate), อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว
5. สูตรตำรับมาสก์หน้าแบบลอกออก (peel-off mask) เพื่อผิวกระจ่างใส ตามข้อถือสิทธิที่ 4 โดยที่ สาร เพิ่มความเสถียร เลือกได้จาก พอลิเอธิลีนไกลคอล 400 (polyethyleneglycol 400: PEG 400), กลีเซอรีน (glycerin), ไฮยาลูรอนิกแอสิดอลาสโตเมอร์ (hyaluronic acid elastomer), บิวทิลีนไกลคอล (butylene glycol), อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว หน้า 2 ของจำนวน 2 หน้า
6. สูตรตำรับมาสก์หน้าแบบลอกออก (peel-off mask) เพื่อผิวกระจ่างใส ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ สาร ก่อฟิล์ม เลือกไดจาก ซีพิเจล (sepigel), พอลิไวนิลแอลกอฮอล์ (polyvinyl alcohol), แซนแทนกัม (xanthan gum), โพโลซาเมอร์ (poloxamer), อะราเบีย กัม (arabia gum), ไฮดรอกซีโพรพิล กัว กัม (hydroxypropyl guar gum), พอลิไวนิลไพร์โรลิโดน (polyvinylpyrrolidone), อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว
7. สูตรตำรับมาสก์หน้าแบบลอกออก (peel-off mask) เพื่อผิวกระจ่างใส ตามข้อถือสิทธิที่ 6 โดยที่ สาร ก่อฟิล์ม เลือกได้จาก ซีพิเจล 305 (sepigel 305), พอลิไวนิลแอลกอฮอล์ (polyvinyl alcohol), แซนแทนกัม (xanthan gum), โพโลซาเมอร์ 188 (poloxamer 188), อย่างใดอย่างหนึ่งหรือของผสมของสารดังกล่าว
8. สูตรตำรับมาสก์หน้าแบบลอกออก (peel-offmask) เพื่อผิวกระจ่างใส ตามข้อถือสิทธิที่ 1โดยที่ สารเติมแต่ง เลือกได้จาก สารกันเสีย (preservative), สารต้านอนุมูลอิสระ (antioxidant), สารแต่งสี, สารแต่ง กลิ่น, อย่างใดอย่างหนึ่งหรือของผสมของสารดังกล่าว
9. สูตรตำรับมาสก์หน้าแบบลอกออก (peel-off mask) เพื่อผิวกระจ่างใส ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ ส่วนผสมที่ยอมรับได้ทางเครื่องสำอาง เลือกได้จาก น้ำ และตัวช่วยทำละลาย (emulsifier), อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH22508U true TH22508U (th) | 2023-09-20 |
| TH22508Y TH22508Y (th) | 2023-09-20 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR20170036058A (ko) | 코 적용을 위한 시네올-함유 조성물 | |
| MX2024000828A (es) | Formulaciones de parasiticida de isoxazolina y metodos para el tratamiento de la blefaritis. | |
| AU2009300281B2 (en) | Anti-static skin products and method | |
| MX2021016055A (es) | Formulaciones y métodos de parasiticidas de isoxazolina para el tratamiento de la blefaritis. | |
| CN111803416A (zh) | 一种含有显齿蛇葡萄的抗衰老面霜及其制备方法 | |
| US20090246163A1 (en) | Anti-static skin products and method | |
| KR20180020664A (ko) | 2액형 화장료 조성물 | |
| KR20160044071A (ko) | 활성 성분으로 메칠3-아세틸-4-하이드록시벤조에이트를 함유하는 보존제 조성물 | |
| KR20150102727A (ko) | 유중수형 유화 조성물 | |
| KR20120096664A (ko) | 실리콘중수형 유화액 및 이를 포함하는 유성 화장료 조성물 | |
| KR101702648B1 (ko) | 피부 외용제용 보존제, 이를 포함하는 화장료 조성물 및 약학 조성물 | |
| US20090209604A1 (en) | Topical combination therapy for treating acne | |
| KR101779131B1 (ko) | 피부 외용제용 보존제, 이를 포함하는 화장료 조성물 및 약학 조성물 | |
| KR20160117668A (ko) | 활성 성분으로 피이지-2 페닐에테르를 함유하는 보존제 조성물 | |
| KR102412958B1 (ko) | 폴리글리세린-3을 함유하는 항균 또는 보존용 조성물 | |
| TH22508Y (th) | สูตรตำรับมาสก์หน้าแบบลอกออก (peel-off mask) | |
| KR102343553B1 (ko) | 제1제와 제2제 베이스를 혼합하여 사용하는 피부 보습 미스트 화장품 조성물 | |
| KR102909283B1 (ko) | 피부 개선용 화장료 조성물 | |
| CN105581924B (zh) | 一种复方桂皮油纳米乳及其制备方法 | |
| KR102907230B1 (ko) | 고함량의 덱스판테놀을 포함하는 화장료 조성물 | |
| KR20220057361A (ko) | 병풀 정량 추출물을 포함하는 자외선 차단용 화장료 조성물 | |
| US20240041766A1 (en) | Topical pharmaceutical composition comprising amitriptyline and an alkaline aqueous phase | |
| JP4583912B2 (ja) | 頭皮頭髪用組成物 | |
| KR20140094187A (ko) | 계면활성제를 포함하지 않는 자가발포성 화장료 조성물 | |
| KR101869436B1 (ko) | 증진된 피부 생활성을 가지는 화장료 조성물 |