TH2203B - Solder masking mixtures - Google Patents

Solder masking mixtures

Info

Publication number
TH2203B
TH2203B TH8101000034A TH8101000034A TH2203B TH 2203 B TH2203 B TH 2203B TH 8101000034 A TH8101000034 A TH 8101000034A TH 8101000034 A TH8101000034 A TH 8101000034A TH 2203 B TH2203 B TH 2203B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
approximately
mixtures
aforementioned
weight
mixture
Prior art date
Application number
TH8101000034A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH259A (en
Inventor
อาร์ โรห์ลอฟฟ์ นายโนเบิร์ต
Original Assignee
นายดำเนิน การเด่น
Filing date
Publication date
Application filed by นายดำเนิน การเด่น filed Critical นายดำเนิน การเด่น
Publication of TH259A publication Critical patent/TH259A/en
Publication of TH2203B publication Critical patent/TH2203B/en

Links

Abstract

สารผสมโพลิเมอไรซ์แสงได้ ซึ่งใช้ในการพิมพ์ด้วยแบบปรุได้และมีประโยชน์ทางใช้การเป็นเครื่องกำบังสารบักกรี สารผสม นี้ประกบขึ้นเป็นอย่างน้อยด้วยแอริคออกซีแอลคิล แอคริเลทโ มโนเมอร์ หรือพรีโพลิเมอร์ ตัวเจือจางไดแอคริเลท โมโนเมอร์ ที่มีหมู่ทำหน้าที่เดี่ยว และระบบเริ่มปฏิกิริยาทำให้เกิด อนุมูลเสรี Light polymeric mixture which is used in perforated printing and is useful as a binding agent. repolymer Diacrylate monomer with single acting group and the system initiates a reaction that produces free radicals

Claims (1)

1. ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :(1) สารผสมโพลิเมอร์ไรซ์ได้ด้วยแสงซึ่งใช้ในการพิมพ์ด้วยแบบปรุได้อันประกอบขึ้นเป้นอย่างน้อย (ก) ตั้งแต่ประมาณ 15 ถึงประมาณ 85% โดยน้ำหนักของสารแอริ คออกซีแอคคิล แอคริเลท ซึ่งมีสูตรทั่วไปเป็น (สูตรเคมี) (ข) ตั้งแต่ประมาณ 15 ถึงประมาณ 85% โดยน้ำหนักของตัวเจือ จางไคแอคริเลท (ค) ปริมาณอันมีประสิทธิภาพของโมโนเมอร์ที่มีหมู่ทำหน้า ที่เกี่ยว ซึ่งเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย สไตรีนและสาร อุปมานซึ่งมีหมู่ทำหน้าที่เกี่ยวข้อมัน และ (ง) ระบบสารเริ่มปฏิกิริยาให้กำเนินอนุมุลเสรี เพื่อการโพ ลิเมอไรซ์เพิ่มเติม (2) สารผสมโพลิเมอไรซ์ได้ด้วยแสง ตามข้อถือสิทธิ (1) ซึ่ง แอริคออกซีแอลคิล แอคริเคท ดังกล่าว ประกอบขึ้นเป็นตั้งแต่ ประมาณ 15 ถึงประมาณ 40% โดยน้ำหนักของสารผสมดังกล่าว (3) สารผสมโพลิเมอไรซ์ได้ด้วยแสง ตามข้อถือสิทธิ (1) ซึ่ง ตัวเจือจางไคแอคริเลท ดังกล่าวประกอบขึ้นเป็นตั้งแต่ประมาณ 15 ถึงประมาณ 70% โดยน้ำหนักของสารผสมดังกล่าว (4) สารผสมโพลิเมอไรซ์ได้ด้วยแสง ตามข้อถือสิทธิ (1) ซึ่ง อัตราส่วนโดยน้ำหนักของตัวเจือจาง ไอแอคริเลท ดังกล่าว ต่อ แอริคุออกซีแอลคิล แอรีเลท ดังกล่าว เป็นประมาณ 1 ต่อ 3 และซี่งโมโนเมอร์ที่มีหมู่ทำหน้าที่เกี่ยวดังกล่าวประกอบ ขึ้นเป็นตั้งแต่ประมาณ 1 ถึงประมาณ 50% โดยน้ำหนักของสาร ผสมดังกล่าว (5) สารผสมโพลิเมอไรซ์ได้ด้วยแสง ตามข้อถือสิทธิ (1) ซึ่ง อัตราส่วนของตัวเจือจ่างไอแอคริเลทดังกล่าว แต่แอริลลอกซี แอลคิล แอคริเลทดังกล่าว เป็นประมาณตั้งแต่ 1 ต่อถึง 3 ต่อ 1 และซึ่งโมโนเมอร์ที่มีหมู่ทำหน้าที่เกี่ยวดังกล่าวประกอบ ขึ้นเป็นตั้งแต่ประมาณ 1 ถึงประมาณ 30% โดยน้ำหนักของสาร ผสมดังกล่าว (6) สารผสมโพลิเมอไรซ์ได้ด้วยแสง ตามข้อถือสิทธิ (1) ซึ่ง ตัวเจือจางไดแอคริเลทดังกล่าวได้เลือกจากลุ่มซึ่งประกอบ ด้วย 1 3-บิวทิลีนไกลคอล ไดแอคริลิท ไทรเอธิคีนไกลคอล ไค แอคริเลท และเพทราเอธิลีนไกลคอล ไดแอคริเลท (7) สารผสมโพลิเมอไรซ์ได้ด้วยแสง ตามข้อถือสิทธิ (1) ซึ่งโมโนเมอร์ที่มีหมู่ทำหน้าที่เคี่ยว เป้นไวนิลทอคูลีน (ข้อถือสิทธิ 7 ข้อ, 2 หน้า, 0 รูป)1. Claims (total) which will not appear on the advertisement page: (1) Photosensitive polymeric mixtures used in perforated printing which comprise at least (a) from Approximately 15 to approximately 85% by weight of eric oxyackyl acrylate, general formula (chemical formula) (b) from approximately 15 to approximately 85% by weight of the additive. chiacrylate: (c) the effective quantity of monomers with functional groups selected from groups consisting of styrene and their analogues with functional groups; and (d). The initiator system provides free radicals for further polymerization (2) Photopolymerization mixtures. According to the claim (1) of which the aforementioned aericoxyl-kyl acrylate comprises approximately 15 to approximately 40% by weight of the mixture; (3) polymer mixtures Rice with light According to the claim (1) which chiacrylate diluent Such compounds constitute from approximately 15 to approximately 70% by weight of such mixtures. (4) Optically polymerized mixtures. According to the claim (1), the weight ratio of the aforementioned iacrylate diluent to the aforementioned arikuoxylkyl erylate is approximately 1 to 3 and the monomer containing The group performs the aforementioned functions. increased from approximately 1 to approximately 50% by weight of such mixtures (5) Photopolymerized mixtures. According to the claim (1), the ratio of the aforementioned Iacrylate additives But aerylloxy alkyl acrylates such Approximately from 1 to 3 to 1 and that the monomers with the aforementioned functional groups consist of increased from about 1 to about 30% by weight of the mixture. (6) Light polymerized mixture. Pursuant to claim (1), the aforementioned diacrylate diluent was selected from a pool consisting of 1 3-butylene glycol diacrylit triethylene glycol chi. Acrylate and petraethylene glycol diacrylate (7) Photopolymerized mixture. According to claim (1), the simmering monomer It is woven vinyl (7 claims, 2 pages, 0 pictures).
TH8101000034A 1981-02-20 Solder masking mixtures TH2203B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH259A TH259A (en) 1982-04-16
TH2203B true TH2203B (en) 1991-03-22

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS5678834A (en) Photographic sensitive material
KR870011507A (en) Photosensitive composition containing carboxy benzotriazole
JPS57196231A (en) Mixture able to be polymerized by radiation and copying material mainly composed thereof
DK0639590T3 (en) Process for the preparation of monodisperse poly (meth) acrylate particles
ES8104825A1 (en) Activated ester monomers, polymers formed therefrom and coating compositions containing said polymers.
KR950024020A (en) Water-Soluble Photoresist with Non-ionic Fluorocarbon Surfactant
KR830010403A (en) Radiation-polymerizable mixture and photoprely-merizalle copying material prepared therefrom
DE3473357D1 (en) PHOTOPOLYMERIZABLE LAMINATE
KR850001789A (en) Spin-polymerizable mixtures and complexes prepared therefrom
KR970048906A (en) Photosensitive resin composition
TH2203B (en) Solder masking mixtures
JPS54132694A (en) Preparation of high-performance water- and oil-repellent
KR960017796A (en) Optical crosslinkable composition containing trifluoroethyl methacrylic acid as a main component and a method of manufacturing the same
JPS6448059A (en) Photoresist composition
JPS5714613A (en) Photosetting composition
TH259A (en) Solder masking mixture
JPS5714672A (en) Photosetting pressure sensitive adhesive composition
JPS56166270A (en) Resin composition for road marking
SU1030370A1 (en) Method for inhibiting polymerization of acrylic and methacrylic monomers
JPS5667848A (en) Photosensitive resin composition
JPS55116782A (en) Antiblock agent and its use
JPS57195703A (en) Emulsion polymerization
JPS52150493A (en) Ultraviolet light curing resin compositions
DE2965735D1 (en) Phosphine activated photosensitive compositions and photopolymer printing plates made therefrom
KR850000486A (en) How to increase or decrease glyoxylate photoinitiator