TH21668C3 - สิ่งปิดบังเพื่อการกระจายออกสำหรับทำการทับถมโดยการกลายเป็นไอในสูญญากาศ - Google Patents
สิ่งปิดบังเพื่อการกระจายออกสำหรับทำการทับถมโดยการกลายเป็นไอในสูญญากาศInfo
- Publication number
- TH21668C3 TH21668C3 TH9901000404A TH9901000404A TH21668C3 TH 21668 C3 TH21668 C3 TH 21668C3 TH 9901000404 A TH9901000404 A TH 9901000404A TH 9901000404 A TH9901000404 A TH 9901000404A TH 21668 C3 TH21668 C3 TH 21668C3
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- panels
- shield
- concealment
- accordance
- base
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (24/02/42) สิ่งปิดบังที่ถูกใช้ในการควบคุมการทับถมกันโดยการกลายเป็นไอของสารเคลือบชนิดใดๆ บน แผ่นฐานชนิดใดๆ โดยที่สิ่งปิดบังดังกล่าวเป็นชนิดที่รวมถึงแผงปกปิด (22) อย่างน้อยสองแผง ซึ่งแผง หนึ่งสามารถเคลื่อนที่ได้ โดยที่แผงปกปิด (22) ทั้งสองแผงซึ่งตั้งแต่นี้เป็นต้นไปจะถูกอ้างถึงเพื่อความ สะดวกเพียงว่าแผงปกปิดด้านข้างเท่านั้น จะมีลักษณะที่อยู่ร่วมระนาบกันเป็นสำคัญและในลักษณะที่อยู่ ภายใต้การควบคุมของตัวขับเร้าที่ถูกใช้ร่วมกัน (23) นั้น จะเคลื่อนที่ได้อย่างต่อเนื่องระหว่างตำแหน่งที่ ส่วนปลายสุดสองตำแหน่ง ได้แก่ ตำแหน่งที่ปิดเข้าด้วยกันโดยที่ช่องว่าง (E) ระหว่างตำแหน่งทั้งสองจะ มีค่าน้อยที่สุดและตำแหน่งที่ขยายห่างออกจากกันโดยที่ช่องว่าง (E) จะมีค่ามากที่สุด การประดิษฐ์นี้จะ รวมถึงสารเคลือบต่างๆ ที่ต่อต้านการสะท้อนสำหรับเลนส์ที่ใช้กับดวงตา สิ่งปิดบังที่ถูกใช้ในการควบคุมการทับถมกันโดยการกลายเป็นไอของสารเคลือบชนิดใดๆ บน แผ่นฐานชนิดใดๆ โดยที่สิ่งปิดบังดังกล่าวเป็นชนิดที่รวมถึงแผงปกปิด (22) อย่างน้อยสองแผงซึ่งแผง หนึ่งสามารถเคลื่อนที่ได้ โดยที่แผงปกปิด (22) ทั้งสองแผงซึ่งตั้งแต่นี้เป็นต้นไปจะถูกอ้างถึงเพื่อความ สะดวกเพียงว่าแผงปกปิดด้านข้างเท่านั้น จะมีลักษณะที่อยู่ร่วมระนาบกันเป็นสำคัญและในลักษณะที่อยู่ ภายใต้การควบคุมของตัวขับเร้าที่ถูกใช้ร่วมกัน (23) นั้น จะเคลื่อนที่ได้อย่างต่อเนื่องระหว่างตำแหน่งที่ ส่วนปลายสุดสองตำแหน่ง ได้แก่ตำแหน่งที่ปิดเข้าด้วยกันโดยที่ช่องว่าง (E) ระหว่างตำแหน่งทั้งสองจะ มีค่าน้อยที่สุดและตำแหน่งที่ขยายห่างกันโดยที่ช่องว่าง (E) จะมีค่ามากที่สุด การประดิษฐ์นี้จะ รวมถึงสารเคลือบต่างๆ ที่ต่อต้านการสะท้อนสำหรับเลนส์ที่ใช้กับดวงตา
Claims (4)
1. กรรมวิธีที่สอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 20 มีลักษณะพิเศษที่ซึ่ง ความเข้มข้น ของการระดมยิงด้วยไอออนได้รับการปรับแต่งโดยการดัดแปรพื้นที่ผิวของสิ่งปิดบัง (16) 2
2. กรรมวิธีที่สอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 16 มีลักษณะพิเศษที่ซึ่ง การทับถมของ สารเคลือบได้รับการช่วยเหลือจากการระดมยิงด้วยไอออน 2
3. กรรมวิธีที่สอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 16 มีลักษณะพิเศษที่ซึ่ง แผงปกปิด (22) สองแผงสามารถเคลื่อนที่ได้ 2
4. กรรมวิธีที่สอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 16 มีลักษณะพิเศษที่ซึ่ง แผ่นฐาน (10) ที่ได้รับการปฏิบัติบำรุงเป็นเลนส์ที่ใช้กับดวงตา
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH40899A TH40899A (th) | 2000-10-25 |
| TH40899A3 TH40899A3 (th) | 2000-10-25 |
| TH21668C3 true TH21668C3 (th) | 2007-03-30 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20190341237A1 (en) | Shutter mechanism for target, and film-forming device provided with same | |
| CN109306448A (zh) | 掩膜组件、蒸镀装置、蒸镀方法、阵列基板及显示面板 | |
| US8347814B2 (en) | Method and apparatus for coating a curved surface | |
| JP2019081949A (ja) | 蒸発源装置、成膜装置、成膜方法、および、電子デバイスの製造方法 | |
| JP2020506299A (ja) | 蒸着マスク、oledパネル及びシステム並びに蒸着監視方法 | |
| TW201945561A (zh) | 成膜裝置及成膜方法 | |
| US20210140035A1 (en) | Compound Motion Vacuum Environment Deposition Source Shutter Mechanism | |
| CN109371369A (zh) | 蒸镀腔结构及遮挡板结构 | |
| TH40899A3 (th) | สิ่งปิดบังเพื่อการกระจายออกสำหรับทำการทับถมโดยการกลายเป็นไอในสูญญากาศ | |
| US6375747B1 (en) | Distribution mask for depositing by vacuum evaporation | |
| TWI696717B (zh) | 用於以脈衝雷射沉積沉積材料之裝置及以該裝置沉積材料之方法 | |
| JP2018525838A5 (th) | ||
| US11911811B2 (en) | Apparatus for cleaning deposition mask and method of cleaning deposition mask | |
| CN109844169A (zh) | 材料沉积布置、真空沉积系统及其方法 | |
| CN105755433B (zh) | 一种薄膜蒸镀方法及装置 | |
| TWI725319B (zh) | 掩模組件 | |
| JP2002505444A5 (th) | ||
| TWI737264B (zh) | 基板兩側面部蒸鍍裝置 | |
| TH40899A (th) | สิ่งปิดบังเพื่อการกระจายออกสำหรับทำการทับถมโดยการกลายเป็นไอในสูญญากาศ | |
| KR101984345B1 (ko) | 유기소자 생산용 면증발원을 구비한 면증발 증착장치 | |
| WO2016156649A1 (es) | Elemento fungible para bombardeo con partículas, conjunto de dispositivo de bombardeo con partículas y elemento fungible y procedimiento de determinación del patrón de grabado por bombardeo de partículas de un blanco | |
| JPS61288064A (ja) | イオンビ−ムアシスト成膜装置 | |
| JPH0382757A (ja) | 薄膜作製装置 | |
| CN222990189U (zh) | 用于防镀膜遮掩对位标的治具 | |
| JP2890686B2 (ja) | レーザ・スパッタリング装置 |