1.สารละลายของสารทำความสะอาดชนิดแอลคาไลน์ สำหรับซับสเทรทชนิดไมโครอิเล็กทรอนิกส์ ซึ่งประกอบด้วยเบสในน้ำชนิดไม่มีโลหะไอออนจากประมาณ 0.1% ถึงประมาณ 25% โดยน้ำหนัก สารลดแรงตึงผิวชนิดไอออนจากประมาณ 0.1% ถึงประมาณ 5% โดยน้ำหนัก และปริมาณที่ยังผลของสารบัฟเฟอร์เชิงเคมีที่ใช้ลดพีเอช เพื่อลดและควบคุมพีเอชของสารละลายของสารทำความสะอาดให้มีพีเอชอยู่ในช่วงจากประมาณ พีเอช 8 ถึงประมาณ พีเอช 10 ซึ่งสารประกอบบัฟเฟอร์เชิง 1. Solution of alkaline cleaning agent. For microelectronic substrates It contains non-metallic ionic bases from approx. 0.1% to approx. 25% by weight, ion surfactants from approx. 0.1% to approx. 5% by weight and effective content of p-reducing chemical buffers. H To reduce and control the pH of the cleaning solution to have a pH in the range from approximately pH 8 to approximately pH 10, the organic buffer compound
TH9501000853A1995-04-18
Mixture of alkaline cleaning agents with ionic surfactants. That can modify the pH value
TH7627B
(en)