TH18498A - ผลิตภัณฑ์เครื่องสำอางที่มีพีเอชต่ำและคงสภาพต่อการแยกสลายด้วยน้ำซึ่งมีสารออกฤทธิ์ที่เป็นกรด - Google Patents

ผลิตภัณฑ์เครื่องสำอางที่มีพีเอชต่ำและคงสภาพต่อการแยกสลายด้วยน้ำซึ่งมีสารออกฤทธิ์ที่เป็นกรด

Info

Publication number
TH18498A
TH18498A TH9501000505A TH9501000505A TH18498A TH 18498 A TH18498 A TH 18498A TH 9501000505 A TH9501000505 A TH 9501000505A TH 9501000505 A TH9501000505 A TH 9501000505A TH 18498 A TH18498 A TH 18498A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
approx
approximately
saturated
substances
ionic
Prior art date
Application number
TH9501000505A
Other languages
English (en)
Inventor
เอ็นเดล เด็คเนอร์ นายจอร์จ
จอร์จเอ็นเดล เด็คเนอร์ นาย
มารีแอนตัวเน็ตต์ รีนัลดี นาง
วิคตอเรียแคลร์ ซีแมนสกี นาย
Original Assignee
นายดำเนิน การเด่น
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นาย ดำเนินการเด่น
นาย ต่อพงศ์โทณะวณิก
นาย วิรัชศรีอเนกราธา
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Filing date
Publication date
Application filed by นายดำเนิน การเด่น, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นาย ดำเนินการเด่น, นาย ต่อพงศ์โทณะวณิก, นาย วิรัชศรีอเนกราธา, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ filed Critical นายดำเนิน การเด่น
Publication of TH18498A publication Critical patent/TH18498A/th

Links

Abstract

การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผิว ชนิดน้ำมันในน้ำซึ่งปล่อยทิ้ง ไว้ที่ประกอบด้วย (A) สารออกฤทธิ์ที่ เป็นกรด จากประมาณ 0.05% ถึงประมาณ 20% ซึ่ง ควรใช้ชนิดที่ มีโซลูบิสิทีพารามิเตอร์ จากประมาณ 6 ถึงประมาณ 12 (B) แอล คอกซิเลเทด แอลกอฮอล์ แอลคอกซิเลเทดโพลิออล และของผสมของสาร ดังกล่าวจากประมาณ 0.1% ถึงประมาณ 25% (C) สารที่เป็นโครง สร้างซึ่งทนกรดไม่ชอบน้ำจากประมาณ 1% ถึงประ มาณ 20% สาร นั้นเลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วย C16 ถึง C30 แฟททิ แอลกอฮอล์อิ่มตัว C16 ถึง C30 แฟททิแอลกอฮอล์อิ่มตัวซึ่งมี เอธิลีนออกไซด์จากประมาณ 1 ถึงประมาณ 5 โมล C16 ถึง C30 ได ออลอิ่มตัว C16 ถึง C30 โมโนกลิเซอรอลอีเธอร์อิ่มตัว C16 ถึง C30 ไฮดรอกซิแฟททิแอซิดอิ่มตัว และของผสของสารดัง กล่าว ซึ่งมีจุดหลอมเหลว อย่างน้อยประมาณ 45 ซ. (D) สารลด แรงตึงผิวซึ่งชอบน้ำ ทนกรดจากประมาณ 0.05% ถึงประมาณ 10% ซึ่งเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยสารลดแรงตึงผิวแอนไอออนิค แคทไอออนิค สวิทเทอร์ไอออนิค นอนไอออนิค และของผสมของสาร ดังกล่าว และ (F) น้ำจากประมาณ 25% ถึงประมาณ 99.7% ซึ่งพี เอชของผลิตภัณฑ์นั้น คือประมาณ 3.5 หรือต่ำกว่า ผลิตภัณฑ์ เครื่องสำอางเหล่านี้ คงสภาพทางกายภาพและทางเคมีดีขึ้น ใน ขณะที่ให้การเกาะของสารออกฤทธิ์อยู่บนผิวดี และการซึมผิวดี ในระหว่างที่ระคายผิวต่ำ อีกด้วย

Claims (1)

1. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผิวชนิดปล่อยทิ้งไว้ ซึ่งประกอบด้วย (A) สารออกฤทธิ์ที่เป็นกรดซึ่ง มีโซลูบิลิทีพารามิเตอร์ (solubility parameter) จากประมาณ 6 ถึงประมาณ 12 จาก ประมาณ 0.05% ถึงประมาณ 20% (B) แอลคอกซิเลเทดแอลกอฮอล์ แอลคอกซิเลเทดโพลิออล และของ ผสมของสารดังกล่าวซึ่งมีสูตร (สูตรเคมี) จากประมาณ 0.1 ถึง ประมาณ 25% ซึ่ง R เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย แอลกอฮอล์ โพลิออลแท็ก :
TH9501000505A 1995-03-10 ผลิตภัณฑ์เครื่องสำอางที่มีพีเอชต่ำและคงสภาพต่อการแยกสลายด้วยน้ำซึ่งมีสารออกฤทธิ์ที่เป็นกรด TH18498A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH18498A true TH18498A (th) 1996-05-09

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MX9604033A (es) Composiciones cosmeticas de ph bajo, hidroliticamente estables que contienen activos acidos.
DE69121976T2 (de) Haarreinigungsmittel
RU2220709C2 (ru) Косметическая пенообразующая очистительная подушечка
MX9800188A (es) Composiciones topicas estables.
US5424469A (en) Process for preparing polyglycerol fatty acid ester mixtures and use in cosmetic, pharmeceutical and chemical preparations
CA2088430A1 (en) Stable conditioning shampoo containing fatty acid/fatty alcohol blend
BR9002562A (pt) Composicao aquosa de xampu
ATE474625T1 (de) Tensidmischungen zur verminderung der hautreizwirkung von kosmetischen und/oder pharmazeutischen zusammensetzungen
CA3047366C (en) Foaming cleansing composition comprising fatty acid glucamide
JP2001048720A (ja) 化粧料用保湿静菌剤
KR20080074315A (ko) 유화타입의 2층상 클렌징 화장료 조성물 및 제조 방법
JPS56104810A (en) Skinshaving cosmetic and skin sanitary composition
ES2258526T3 (es) Concentrados de brillo perlado.
ATE55541T1 (de) Haarspuelmittel.
US3934003A (en) Cosmetic composition containing an ethoxylated glyceride mixture
EP0009691A1 (en) Lacquer remover
TH18498A (th) ผลิตภัณฑ์เครื่องสำอางที่มีพีเอชต่ำและคงสภาพต่อการแยกสลายด้วยน้ำซึ่งมีสารออกฤทธิ์ที่เป็นกรด
EP0014509A2 (en) Skin conditioning compositions
EP2621461B1 (en) Fragranced soap compositions
JPH08506803A (ja) 毛髪および身体清浄剤
US4261851A (en) Low-irritating detergent composition
US4744924A (en) Cosmetic detergent base
JP2006342293A (ja) 泡沫洗浄剤用組成物及び泡沫洗浄剤
JP2001213740A (ja) 洗浄剤組成物
KR900002937B1 (ko) 셀레늄-함유 화장비누의 제조방법