TH18497A - อิมัชัน ไอออโนเมอริกที่เสถียรต้านทานแสง และกรรมวิธีของการเตรียมและการใช้ประโยชน์ของอิมัลชันนี้ - Google Patents
อิมัชัน ไอออโนเมอริกที่เสถียรต้านทานแสง และกรรมวิธีของการเตรียมและการใช้ประโยชน์ของอิมัลชันนี้Info
- Publication number
- TH18497A TH18497A TH9501000480A TH9501000480A TH18497A TH 18497 A TH18497 A TH 18497A TH 9501000480 A TH9501000480 A TH 9501000480A TH 9501000480 A TH9501000480 A TH 9501000480A TH 18497 A TH18497 A TH 18497A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- light
- mixtures
- utilization
- preparation
- emulsion
- Prior art date
Links
Abstract
การประดิษฐ์นี้เปิดเผยถึงสารผสมต้านทานแสงชนิดที่เสถียรประกอบ ขึ้นได้ในน้ำและวิธีของการเตรียมและการใช้ประโยชน์ของสาร ผสมเหล่านี้ สารผสมนี้ มีลักษณะพิเศษโดยมีเสถียรภาพต่อการเฉือนและ ในการเก็บรักษาได้เพิ่มขึ้น สารผสมต้าน ทานแสงนี้ประกอบต่อไป ด้วยตัวอย่างเช่น อิมัลชันในน้ำที่ประกอบด้วยตัวอย่างเช่น คาร์- บอกซิเลเทด เรซินที่ทำให้เป็นกลางแล้ว 22% หรือน้อยกว่านี้ และสารทำให้พื้นผิวว่อง ไวชนิดนอน-ไอออนิกที่มีส่วนที่เป็นพอลิ (เอธิลีน-ออกไซด์)อยู่ด้วย, โมโนเมอร์ที่เกิด เป็นพอลิเมอร์ได้ ด้วยแสงและตัวริเริ่มปฏิกิริยาได้เมื่อถูกแสง การทำให้เป็นกลาง ทำ ให้สำเร็จได้โดยใช้เบสอินทรีย์หรืออนินทรีย์หรือสารผสมของเบส เหล่านี้ สารผสมต้าน ทานแสงนี้ใช้เคลือบผิวที่เลือกได้และใช้ ป้องกันพื้นผิวที่สัมผัสอยู่กับภาวะแวดล้อมชนิดกัด กร่อนตัว อย่างเช่น กรรมวิธีการกัดสลักในการผลิตทางเดินวงจรสำหรับแผงวง จรอิเล็ก- ทรอนิก
Claims (1)
1. สารผสมต้านทานแสงในน้ำที่มีลักษณะพิเศษโดยมีเสถียรภาพ ในการเก็บรักษาและเสถียรภาพต่อการเฉือนเพิ่มขึ้น ซึ่งสารผสมต้าน ทานแสงที่กล่าว แล้วประกอบด้วยตัวอย่างเช่น อิมัลชันในน้ำชนิด ที่ประกอบด้วย (a) เรซินที่มีหมู่กรดคาร์บอกซิลิกอยู่ด้วย (b) โมโนเมอร์ที่เกิดเป็นพอลิเมอร์ได้ด้วยแสง (c) ตัวริเริ่มปฏิกิริยาเมื่อถูกแสง (d) เบสที่เลือกจากเบสอินทรีย์หรืออนินทรีย์และสารผสม ของ เบสเหล่านี้และ แท็ก :
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH18497B TH18497B (th) | 1996-05-09 |
| TH18497A true TH18497A (th) | 1996-05-09 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ES458239A1 (es) | Un metodo para la produccion de un articulo copolimerizado de almidon. | |
| JPS6462634A (en) | Photosensitive emulsion composition and dry painted film photosensitive resist manufactured using the same | |
| KR870011507A (ko) | 카르복시 벤조트리아졸을 함유한 감광성 조성물 | |
| ES2119008T3 (es) | Iniciadores de polimerizacion anionica y productos de histeresis reducida de los mismos. | |
| BR9811158A (pt) | Alquìdico modificado por acrìlico, látex com base em água, processo de preparação do mesmo, e, composição de revestimento | |
| EP0749594A4 (en) | STABLE IONOMERIC PHOTO PAINT EMULSIONS, METHOD FOR THE PRODUCTION AND USE THEREOF | |
| ATE339455T1 (de) | Fluorierte polymere durch miniemulsionspolymerisation | |
| KR950003920A (ko) | 광중합성 조성물 | |
| ATE66681T1 (de) | Mischpolymerisat einer alpha-beta-ungesaettigten carbonsaeure und verfahren zu seiner herstellung. | |
| DE69410228D1 (de) | Verfahren zur Herstellung von stabilen Vinyllatizes mit hohem Wachsgehalt | |
| TH18497A (th) | อิมัชัน ไอออโนเมอริกที่เสถียรต้านทานแสง และกรรมวิธีของการเตรียมและการใช้ประโยชน์ของอิมัลชันนี้ | |
| TH18497B (th) | อิมัชัน ไอออโนเมอริกที่เสถียรต้านทานแสง และกรรมวิธีของการเตรียมและการใช้ประโยชน์ของอิมัลชันนี้ | |
| WO1993005889A1 (en) | Water-soluble formulation for masking and the like, and method utilizing the same | |
| KR900018734A (ko) | 감광성조성물, 그것을 사용한 패턴형성방법 및 고분자화합물 | |
| KR850001234A (ko) | 중합 방법 | |
| JPS5712084A (en) | Pressure-sensitive adhesive sheet | |
| Brown et al. | Application of the penultimate model in the copolymerization of styrene with maleic anhydride in ethyl methyl ketone at 50° C | |
| KR860003282A (ko) | 수성 중합화에 의한 저분자량 비닐할리드/비닐 에스테르 공중합체의 제조방법 | |
| DE59606441D1 (de) | Photoempfindliche zusammensetzung | |
| JPS5374591A (en) | Preparation of acrylonitrile type polymer aqueous emulsion | |
| JPS5535373A (en) | Photosensitive resin composition for screen process | |
| JPS54126290A (en) | Polymeric emulsifier | |
| JPS5311927A (en) | Aqueous polymer emulsion composition for coating | |
| Kuzuya et al. | Special Features of Peroxy Radicals on Plasma-Irradiated Polymers | |
| JPS643093A (en) | Controlled release coated fertilizer |