TH168093A - วิธีการเติมแบบอัตราเร็วสูงสำหรับทองแดง - Google Patents

วิธีการเติมแบบอัตราเร็วสูงสำหรับทองแดง

Info

Publication number
TH168093A
TH168093A TH1601006400A TH1601006400A TH168093A TH 168093 A TH168093 A TH 168093A TH 1601006400 A TH1601006400 A TH 1601006400A TH 1601006400 A TH1601006400 A TH 1601006400A TH 168093 A TH168093 A TH 168093A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
copper
grooves
holes
ions
substrate
Prior art date
Application number
TH1601006400A
Other languages
English (en)
Other versions
TH1601006400A (th
Inventor
โอโมริ
ทาคาฟูมิ
ยาซูดะ
ฮิโรกิ
อันโดะ
ซิวซูเกะ
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายรุทร นพคุณ
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายรุทร นพคุณ filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH1601006400A publication Critical patent/TH1601006400A/th
Publication of TH168093A publication Critical patent/TH168093A/th

Links

Abstract

เพื่อจัดเตรียมเทคนิคของการเพิ่มอัตราการเติมรูหรือร่องซึ่งก่อขึ้นรูปในซับสเตรท, โดยการเปลี่ยนอุณหภูมิ, ความเข้มข้น, ความหนาแน่นกระแส, และภาวะอื่นๆ ของการชุบเคลือบ ทองแดงแบบเดิม วิธีการสำหรับการเติมรูหรือร่องที่ก่อขึ้นรูปในซับสเตรทโดยสารชุบเคลือบ ทองแดงที่อัตราเร็วสูง, โดยมี การแช่ซับสเตรทซึ่งมีรูหรือร่องในสารละลายชุบเคลือบทองแดงชนิด กรดซึ่งมีไอออนทองแดงม ไอออนซัลเฟต, และไอออนเฮไลด์, ที่อุณหภูมิจาก 30 ถึง 70 ํC; และการ ชุบเคลือบซับสเตรทที่ความหนาแน่นกระแส 3 A/dm2 หรือมากกว่าโดยการใช้อิเล็กโทรดชนิดไม่ ละลายเป็นแอโนด:

Claims (1)

: เพื่อจัดเตรียมเทคนิคของการเพิ่มอัตราการเติมรูหรือร่องซึ่งก่อขึ้นรูปในซับสเตรท, โดยการเปลี่ยนอุณหภูมิ, ความเข้มข้น, ความหนาแน่นกระแส, และภาวะอื่นๆ ของการชุบเคลือบ ทองแดงแบบเดิม วิธีการสำหรับการเติมรูหรือร่องที่ก่อขึ้นรูปในซับสเตรทโดยสารชุบเคลือบ ทองแดงที่อัตราเร็วสูง, โดยมี : การแช่ซับสเตรทซึ่งมีรูหรือร่องในสารละลายชุบเคลือบทองแดงชนิด กรดซึ่งมีไอออนทองแดงม ไอออนซัลเฟต, และไอออนเฮไลด์, ที่อุณหภูมิจาก 30 ถึง 70 ํC; และการ ชุบเคลือบซับสเตรทที่ความหนาแน่นกระแส 3 A/dm2 หรือมากกว่าโดยการใช้อิเล็กโทรดชนิดไม่ ละลายเป็นแอโนดข้อถือสิทธิ์ (ข้อที่หนึ่ง) ซึ่งจะปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :
1. วิธีการสำหรับการเติมรูหรือร่องซึ่งก่อขึ้นรูปซับสเตรทโดยสารชุบเคลือบทองแดง ที่อัตราเร็วสูง, ซึ่งประกอบรวมด้วย: การจุ่มซับสเตรทซึ่งมีรูหรือร่องในสารละลายชุบเคลือบทองแดง ชนิดกรดซึ่งมีไอออนทองแดง, ไอออนซัลเฟต, และไอออนเฮไลด์, ที่อุณหภูมิจาก 30 ถึง 70 ํC; และ ชุบเคลือบซับสเตรทที่ความหนาแน่นกระแส 3 A/dm2 หรือมากกว่าโดยการใช้อิเล็กโทรดชนิดไม่ ละลายเป็นแอโนด &nbแท็ก :
TH1601006400A 2014-04-25 วิธีการเติมแบบอัตราเร็วสูงสำหรับทองแดง TH168093A (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH1601006400A TH1601006400A (th) 2017-09-21
TH168093A true TH168093A (th) 2017-09-21

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2868778A3 (en) Plating bath and method
MX2015014806A (es) Metodo de electrodeposicion de aleacion de zinc.
PE20180734A1 (es) Procesamiento de mineral optimizado usando sales fundidas para lixiviacion y fuente de energia termica
MX2016013455A (es) Metodo para galvanizar un tira de metal movil y tira de metal recubierta producida de este modo.
BR112015024061A2 (pt) aparelho e método para formação de filme de revestimento metálico
AR104304A1 (es) Procedimiento para lixiviar calcopirita con tiourea
EP2626449A3 (en) Plating bath and method
WO2016124921A3 (en) Electrolyte for electroplating
PT3356579T (pt) Banho de galvanoplastia para deposição eletroquímica de uma camada de liga de cu-sn-zn-pd, método para a deposição eletroquímica da referida camada de liga, substrato que compreende a referida camada de liga e utilizações do substrato revestido
MX2015013956A (es) Celda electrolitica para la extraccion electrolitica de metales.
JP2014221941A5 (th)
EP3088570A3 (en) Acid copper electroplating bath and method for electroplating low internal stress and good ductility copper deposits
EP3150743A3 (en) Bismuth electroplating baths and methods of electroplating bismuth on a substrate
TW201614678A (en) Silver-coated copper powder and method for producing same
MX2018002686A (es) Metodo de galvanizado o recubrimiento.
MY186470A (en) Plating bath and method for electroless deposition of nickel layers
JP2018127667A5 (th)
MX2015013325A (es) Aditivo para baño de galvanizado con aleacion de cinc acido, baño de galvanizado con aleacion de cinc acido y metodo para producir un articulo galvanizado con aleacion de cinc.
CN104451795A (zh) 一种用于台阶状内孔零件的电镀铬装置
WO2014016544A3 (en) A process for the electrochemical deposition of a semiconductor material
JP2016037622A5 (th)
TH182637A (th) วิธีชุบโลหะผสมสังกะสี
UA117689U (uk) Електроліт для нанесення покриттів сплавом залізо-вольфрам
RU2013128817A (ru) Способ электролитического осаждения покрытия железо-дисульфид молибдена
UA108610U (uk) Електроліт для нанесення покриттів сплавом залізо-кобальт-молібден