TH155242A - "กรรมวิธีการสร้างวัสดุกรองแสงแบบไม่ใช้ความร้อน" - Google Patents
"กรรมวิธีการสร้างวัสดุกรองแสงแบบไม่ใช้ความร้อน"Info
- Publication number
- TH155242A TH155242A TH1501003793A TH1501003793A TH155242A TH 155242 A TH155242 A TH 155242A TH 1501003793 A TH1501003793 A TH 1501003793A TH 1501003793 A TH1501003793 A TH 1501003793A TH 155242 A TH155242 A TH 155242A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- gas
- target
- control
- filter material
- reaction chamber
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract 8
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract 9
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims abstract 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 6
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract 6
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 5
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract 2
Abstract
คำขอใหม่ปรับปรุง 11/8/2559 การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับกรรมวิธีการสร้างวัสดุกรองแสง แบบไม่ใช้ความร้อน ซึ่งประกอบด้วย การ จัดให้มีฐานรองรับ (Substrate) เป้าสารเคลือบ (target) ในห้องปฏิกิริยา (chamber); การจ่ายกาซอาร์กอน (Ar) เข้าสู่ห้องปฏิกิริยาดังกล่าว; และ การควบคุมให้เกิดพลาสมากาซไวปฏิกิริยา (reactive gas plasma) ในห้อง ปฏิกิริยาดังกล่าวด้วยระบบอาร์เอฟแมกนีตรอนสปัตเตอร์ริง (radio frepuency magnetron spttering) เพื่อ การสปัต (sputtering) เป้าสารเคลือบดังกล่าวในรูปแบบที่กำหนดไว้ล่วงหน้า (predetermined mode) ให้กิด เป็นชั้นฟิล์มเคลือบ (coating film) บนฐานรองรับดังกล่าว; โดยที่ควบคุมแบบสปัตเป้าสารเคลือบดังกล่าวที่การจ่ายพลาสมากาซไวปฏิกิริยา 3 ชนิด คือ กาซ อาร์กอน กาซออกซิเจน กาซไนโตรเจน โดยเวลาของการจ่ายกาซออกซิเจนซึ่งจ่ายสลับกับกาซไนโตรเจนถูก ควบคุม (gas-timing control) ให้อยู่ที่ 0 ถึง 120 วินาที ควบคุมอัตราการไหล (flow rate control) ของกาซ ออกซิเจนและกาซไนโตรเจนให้อยู่ในช่วง 0 ถึง 100 sccm และของกาซอาร์กอนให้อยู่ในช่วง 1 ถึง 100 sccm ร่วมกับการจัดให้ห้องปฏิกิริยาอยู่ในภาวะสุญญากาศที่ความดันในช่วง 0.0005-0.5 มิลลิทอร์ และระยะห่าง ระหว่างเป้าสารเคลือบกับฐานรองรับเท่ากับ 10 ถึง 50 เซนติเมตร โดยไม่มีการให้อุณหภูมิแก่ฐานรองรับในระบบ ตลอดกระบวนการ วัสดุกรองแสงชนิดโค้งงอได้ตามการประดิษฐ์นี้สามารถนำไปประยุกต์ใช้เป็นวัสดุกรองแสงที่ ใช้งานได้จริงในระบบโฟโตลูมิเนตเซนต์:
Claims (1)
1. กรรมวิธีการสร้างวัสดุกรองแสง แบบไม่ใช้ความร้อน ซึ่งประกอบด้วย: - การจัดให้มีฐานรองรับ (substrate) เป้าสารเคลือบ (target) ในห้องปฏิกิริยา (chamber); - การจ่ายกาซอาร์กอน (Ar) เข้าสู่ห้องปฏิกิริยาดังกล่าว; และ - การควบคุมให้เกิดพลาสมากาซไวปฏิกิริยา (reactive gas plasma) ในห้องปฏิกิริยาดังกล่แท็ก :
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH1501003793A TH1501003793A (th) | 2016-08-11 |
| TH155242A true TH155242A (th) | 2016-08-11 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Liu et al. | Review of the atmospheric corrosion of magnesium alloys | |
| MX2017001740A (es) | Metodo y sistema para el deposito localizado de metal sobre una superficie. | |
| TW200720454A (en) | Vapor deposition apparatus and method | |
| TW201614098A (en) | Gas flow profile modulated control of overlay in plasma CVD films | |
| MXPA04004205A (es) | Metodo para aplicar o reparar recubrimientos de barrera termica. | |
| TW200712258A (en) | Method for microstructure control of ceramic thermal spray coating | |
| WO2008079741A3 (en) | Method and system for controlling a vapor delivery system | |
| WO2010059701A3 (en) | Temperature uniformity measurement during thermal processing | |
| TW200505280A (en) | Manufacturing method and manufacturing apparatus of organic thin film | |
| SG10201908096UA (en) | Ultrathin atomic layer deposition film accuracy thickness control | |
| WO2009089245A3 (en) | Heated showerhead assembly | |
| WO2009034131A3 (en) | Method and arrangement for providing chalcogens | |
| JP2014528143A5 (ja) | 基板にポリマー層をコーティングするための方法及びプラズマチャンバー並びに同方法により得られる基板 | |
| MX2019001870A (es) | Termorrociado de materiales ceramicos. | |
| MY150193A (en) | Treating al/zn-based alloy coated products | |
| MY203381A (en) | Deposition processing systems having active temperature control and associated methods | |
| WO2008078502A1 (ja) | 成膜装置および成膜方法 | |
| TW200732490A (en) | Sputtering with cooled target | |
| TW201612345A (en) | Methods and apparatus for maintaining low non-uniformity over target life | |
| PL3830049T3 (pl) | Wyrób powlekany, zawierający poddaną ultraszybkej obróbce laserowej warstwę zawierającą srebro w cienkowarstewkowej powłoce o niskiej emisyjności i/lub sposób jego wykonania | |
| TH155242A (th) | "กรรมวิธีการสร้างวัสดุกรองแสงแบบไม่ใช้ความร้อน" | |
| WO2014105872A3 (en) | Deposition systems and methods | |
| WO2013023173A3 (en) | Sputtering systems for liquid target materials | |
| KR20160025600A (ko) | 가스 공급부를 구비한 증발 장치 | |
| DE602005026581D1 (de) | Ikroelektromechanischen systemen |