TH149885A - อุปกรณ์สารกึ่งตัวนำและวิธีการผลิตอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำ - Google Patents
อุปกรณ์สารกึ่งตัวนำและวิธีการผลิตอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำInfo
- Publication number
- TH149885A TH149885A TH1301005933A TH1301005933A TH149885A TH 149885 A TH149885 A TH 149885A TH 1301005933 A TH1301005933 A TH 1301005933A TH 1301005933 A TH1301005933 A TH 1301005933A TH 149885 A TH149885 A TH 149885A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- area
- anode
- groove
- gate
- source
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims 1
Abstract
DC60 (16/10/56) บริเวณแอโนด 106 ก่อรูปไว้บนส่วนด้านล่างสุดของชั้นร่อง 105 ที่ซึ่งได้ก่อรูปขั้วเกต 108 ไว้ข้างใน หรือในบริเวณดริฟต์ 102 ข้างใต้ถัดไปทันทีจากชั้นร่อง 105 โฮลสัมผัส 110 ก่อรูปไว้ใน ชั้นร่อง 105 ที่ความลึกที่ลึกถึงบริเวณแอโนด 106 ขั้วซอร์ส 112 ได้ฝังไว้ในโฮลสัมผัส 110 ในขณะที่แทรกแผ่นฟิล์มที่เป็นฉนวนของผนังภายใน 111 ไว้ระหว่างกลาง บริเวณแอโนด 106 และ ขั้วซอร์ส 112 เชื่อมต่อกันเชิงไฟฟ้าในสถานะที่เป็นฉนวนจากขั้วเกต 108 โดยแผ่นฟิล์มที่เป็นฉนวน ของผนังภายใน 111 บริเวณแอโนด 106 ก่อรูปไว้บนส่วนด้านล่างสุดของชั้นร่อง 105 ที่ซึ่งได้ก่อรูปขั้วเกต 108 ไว้ข้างใน หรือในบริเวณคริฟต์ 102 ข้างใต้ถัดไปทันทีจากชั้นร่อง 105 โฮลสัมผัส 110 ก่อรูปไว้ใน ชั้นร่อง 105 ที่ความลึกที่ลึกถึงบริเวณแอโนด 106 ขั้วซอร์ส 112 ได้ฝังไว้ในโฮลสัมผัส 110 ในขณะที่แทรกแผ่นฟิล์มที่เป็นฉนวนของผนังภายใน 111 ไว้ระหว่างกลาง บริเวณแอโนด 106 และ ขั้วซอร์ส 112 เชื่อมต่อกันเชิงไฟฟ้าในสถานะที่เป็นฉนวนจากขั้วเกต 108 โดยแผ่นฟิล์มที่เป็นฉนวน ของผนังภายใน 111
Claims (1)
1. อุปกรณ์สารกึ่งตัวนำซึ่งประกอบรวมด้วย : บริเวณซับสเตรตที่เป็นสารกึ่งตัวนำ ; บริเวณคริฟต์ชนิดนำไฟฟ้าชนิดที่หนึ่งที่ก่อรูปไว้บนพื้นผิวหนึ่งของพื้นผิวหลักของซับสเตรต ที่เป็นสารกึ่งตัวนำ; บริเวณบ่อชนิดนำไฟฟ้าชนิดที่สองที่ก่อรูปไว้ในบริเวณดริฟต์ บริเวณซอร์สชนิดนำไฟฟ้าที่หนึ่งที่ก่อรูปไว้ในบริเวณบ่อ ; ชั้นร่องที่มีความลึกทะลุผ่านบริเวณซอร์ส และบริเวณบ่อ และไปถึงบริเวณคริฟต์ ; ขั้วเกตที่ก่อรูปบนส่วนด้านข้างของชั้นร่องในขณะแท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH149885A true TH149885A (th) | 2016-05-10 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW200644169A (en) | Methods of forming recessed access devices associated with semiconductor constructions | |
| WO2013109877A3 (en) | Chemical sensor with conductive cup-shaped sensor surface | |
| EP2755237A3 (en) | Trench MOS gate semiconductor device and method of fabricating the same | |
| GB2506075A (en) | Insulated gate bipolar transistor | |
| JP2016528730A5 (th) | ||
| MX380243B (es) | Conector eléctrico de fondo de pozo. | |
| JP2011054949A5 (ja) | 半導体装置 | |
| JP2013211573A5 (th) | ||
| GB2505854A (en) | Insulated gate transistor and method of production thereof | |
| TW201613094A (en) | Structure of fin feature and method of making same | |
| EP4391776A3 (en) | Display device | |
| EP3540782A3 (en) | Semiconductor devices having a recessed electrode structure | |
| WO2016053623A3 (en) | Three dimensional memory device having comb-shaped source electrode and methods of making thereof | |
| WO2012005851A3 (en) | Electrically conductive laminate structures, electrical interconnects, and method of forming electrical interconnects | |
| TW200742092A (en) | Charge storage structure formation in transistor with vertical channel region | |
| JP2012019207A5 (ja) | 半導体装置 | |
| EP2819169A3 (en) | Semiconductor device | |
| JP2019526932A5 (th) | ||
| JP2012169611A5 (ja) | 半導体装置 | |
| WO2009013967A1 (ja) | 半導体装置 | |
| WO2011011448A3 (en) | Shield contacts in a shielded gate mosfet | |
| ITMI20130965A1 (it) | Procedimento per la fabbricazione di un elemento componente con un contatto elettrico passante | |
| JP2012064849A5 (th) | ||
| EP2605283A3 (en) | In situ grown gate dielectric and field plate dielectric | |
| EP2688104A4 (en) | SEMICONDUCTOR COMPONENT |