DC60 (14/05/57) การประดิษฐ์จะเกี่ยวข้องกับกระบวนการสำหรับการผลิตสิ่งเคลือบที่ไม่ชอบรับน้ำที่ประกอบ รวมด้วยขั้นตอนต่อเนื่องดังต่อไปนี้: (a) การก่อรูปของชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่มีคาร์บอนในปริมาณมาก (SiOxCy) ที่พื้นผิว ของซับสเทรทที่ทำมาจากกระจกแร่โดยการตกพอกพูนของไอทางเคมี (CVD) บนอย่าง น้อยที่สุดส่วนหนึ่งของพื้นผิวของซับสเทรทดังกล่าวโดยการนำพื้นผิวดังกล่าวไปสัมผัส กับกระแสของแก๊สที่เกิดปฏิกิริยาที่ประกอบรวมด้วยเอทิลีน (C2H4), ไซเลน (SiH4) และ คาร์บอนไดออกไซด์ (CO2) ที่อุณหภูมิระหว่าง 600 องศาเซลเซียส และ 680 องศา เซลเซียส, อัตราส่วนโดยปริมาตรของเอทิลิน/ไซเลน (C2H4/SiH4) ในระหว่างขั้นตอน (a) ที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 3.3 (b) การก่อรูปของชั้น SiO2 บนชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่ตกพอกพูนในขั้นตอน (a) หรือ (b') การก่อรูปของชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่มีคาร์บอนในปริมาณน้อยที่มีอัตราส่วน C/Si เฉลี่ยน้อยกว่า 0.2, (c) การอบเหนียวและ/หรือการขึ้นรูปซับสเทรทที่ได้มาตามการสรุปของขั้นตอน (b) หรือ (b') ที่อุณหภูมิระหว่าง 580 องศาเซลเซียส และ 700 องศาเซลเซียส, (d) การกระตุ้นชั้นซิลิกาที่ได้รับการก่อรูปในขั้นตอน (b) หรือชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่ ได้รับการก่อรูปในขั้นตอน (b') โดยการปฏิบัติด้วยพลาสมาหรือการปฏิบัติด้วยสารเคมี ที่เป็นกรดหรือที่เป็นเบส และ (e) การเชื่อมติด, โดยการเกิดพันธะโควาเลนท์, ตัวกระทำการที่ไม่ชอบรับน้ำที่ผ่านการ ฟลูโอริเนท การประดิษฐ์ยังจะเกี่ยวข้องอีกด้วยกับสิ่งเคลือบที่ไม่ชอบรับน้ำ, ถ้าจะให้ดีแล้วเป็นกระจกบัง ลมหน้า, ที่สามารถถูกทำให้ได้มาโดยกระบวนการดังกล่าว การประดิษฐ์จะเกี่ยวข้องกับกระบวนการสำหรับการผลิตสิ่งเคลือบที่ไม่ชอบรับน้ำที่ประกอบ รวมด้วยขั้นตอนต่อเนื่องดังต่อไปนี้: (a)การก่อรูปของชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่มีคาร์บอนในปริมาณมาก(SiOxCy)ที่พื้นผิว ของซับสเทรทที่ทำมาจากกระจกแร่โดยการตกพอกพูนของไอทางเคมี(CVD)บนอย่าง น้อยที่สุดส่วนหนึ่งของพื้นผิวของซับสเทรทดังกล่าวโดยการนำพื้นผิวดังกล่าวไปสัมผัส กับกระแสของแก๊สที่เกิดปฏิกิริยาที่ประกอบรวมด้วยเอทิลีน(C2,H4),ไซเลน (SiH4) และ คาร์บอนไดออกไซด์(CO2)ที่อุณหภูมิระหว่าง 600 องศาเซลเซียส และ 680 องศา เซลเซียส,อัตราส่วนโดยปริมาตรของเอทิลิน/ไซเลน (C2H2/SiH4)ในระหว่างขั้นตอน (a) ที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 3.3 (b)การก่อรูปของชั้น SiO2 บนชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่ตกพอกพูนในขั้นตอน(a)หรือ (b')การก่อรูปของชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่มีคาร์บอนในปริมาณน้อยที่มีอัตราส่วน C/Si เฉลี่ยน้อยกว่า 0.2, (c)การอบเหนียวและ/หรือการขึ้นรูปซับสเทรทที่ได้มาตามการสรุปของขั้นตอน(b)หรือ (b')ที่มีอุณหภูมิระหว่าง 580 องศาเซลเซียส และ 700 องศาเซลเซียส, (d)การกระตุ้นชั้นซิลิกาที่ได้รับการก่อรูปในขั้นตอน(b)หรือชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่ ได้รับการก่อรูปในขั้นตอน(b')โดยการปฏิบัติด้วยพลาสมาหรือการปฏิบัติด้วยสารเคมี ที่เป็นกรดหรือที่เป็นเบส และ (e)การเชื่อมติด,โดยการเกิดพันธะโควาเลนท์,ตัวกระทำการที่ไม่ชอบรับน้ำที่ผ่านการ ฟลูโอริเนท การประดิษฐ์ยังเกี่ยวข้องอีกด้วยกับสิ่งเคลือบที่ไม่ชอบรับน้ำ,ถ้าจะให้ดีแล้วเป็นกระจกบัง ลมหน้า,ที่สามารถถูกทำให้ได้มาโดยกระบวนการดังกล่าวDC60 (14/05/57) The invention relates to a process for producing a hydrophobic coating comprising the following successive steps: (a) forming a layer of carbon-rich silicon oxycarbide (SiOxCy) on the surface of a mineral glass substrate by chemical vapor deposition (CVD) on at least a portion of the surface of said substrate by bringing said surface into contact; with a stream of reactive gases consisting of ethylene (C2H4), silane (SiH4) and carbon dioxide (CO2) at temperatures between 600 °C and 680 °C, the volume ratio of ethylene/silane (C2H4/SiH4) during step (a) being less than or equal to 3.3, (b) the formation of an SiO2 layer on the silicon oxycarbide layer deposited in step (a) or (b'), the formation of a low-carbon silicon oxycarbide layer with an average C/Si ratio less than 0.2, (c) the annealing and/or forming of the substrate obtained according to the conclusion of step (b) or (b') at temperatures between 580 °C and 700 °C, (d) the activation of the silica layer formed in step (b) or the silicon oxycarbide layer formed in step (b') by plasma treatment or chemical treatment. and (e) bonding, by covalent bonding, to a fluorinated hydrophobic reagent. The invention further relates to a hydrophobic coating, preferably a windshield, that can be obtained by such a process. The invention relates to a process for producing a hydrophobic coating comprising the following successive steps: (a) forming a carbon-rich silicon oxycarbide (SiOxCy) layer on the surface of a mineral glass substrate by chemical vapor deposition (CVD) on at least a portion of the substrate surface by exposing the surface to a stream of reactive gases consisting of ethylene (C2,H4), silane (SiH4) and carbon dioxide (CO2) at temperatures between 600°C and 680°C, in an ethylene/silane volume ratio. (C2H2/SiH4) during step (a) less than or equal to 3.3, (b) the formation of an SiO2 layer on the silicon oxycarbide layer deposited in step (a) or (b'), the formation of a low-carbon silicon oxycarbide layer with an average C/Si ratio less than 0.2, (c) annealing and/or forming the substrate obtained according to the conclusion of step (b) or (b') at a temperature between 580°C and 700°C, (d) the activation of the silica layer formed in step (b) or the silicon oxycarbide layer formed in step (b') by plasma treatment or acidic or basic chemical treatment, and (e) the bonding, by covalent bonding, of a fluorinated hydrophobic agent. The invention further relates to a hydrophobic coating, preferably a windshield, that can be obtained by such a process.