TH14929EX - Lithography process - Google Patents
Lithography processInfo
- Publication number
- TH14929EX TH14929EX TH9301000193A TH9301000193A TH14929EX TH 14929E X TH14929E X TH 14929EX TH 9301000193 A TH9301000193 A TH 9301000193A TH 9301000193 A TH9301000193 A TH 9301000193A TH 14929E X TH14929E X TH 14929EX
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- model
- ch2ch2o
- molecular weight
- light
- ch2o
- Prior art date
Links
Abstract
กรรมวิธีการพิมพ์หินสำหรับการเกิดแบบอย่างที่มีส่วนประกอบของแบบอย่างที่มีขนาดแตกต่างกัน หรือรูปร่างแตกต่างกันซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของการให้รีซิสท์เปิดรับแบบอย่างของแสงที่หาไว้ล่วงหน้าโดยความสว่างที่ดัดแปรแล้ว และการขจัดรีซิสท์หนึ่งบริเวณอย่างน้อยที่สุดหนึ่งขั้นตอนของการเกิดแบบอย่างรีซิสท์ โดยการใช้การพิมพ์หิน-สารละลายสร้างภาพที่มีสารลดแรงตึงผิว สารลดแรงตึงผิวสามารถส่งเสริมการละลายของส่วนประกอบของแบบอย่างที่เล็กกว่า ที่จะขจัดออกจากรีซิสท์ แทนสารลดแรงตึงผิวโดยสูตรทั่วไปข้างล่าง HO(CH2CH2O)a(CH(CH3)CH2O)b(CH2CH2O)oH ซึ่งแต่ละ a,b และ c คือเลขจำนวนเต็ม สารลดแรงตึงผิวเป็นไปตามความสัมพันธ์ (A + C) / (A+B +C) <_ 0.3 ซึ่ง A แทนน้ำหนักโมเลกุลของ HO(CH2CH2O)a B แทนน้ำหนักโมเลกุลของ (CH(CH3)CH2O)b และ C แทนน้ำหนักโมเลกุลของ (CH2CH2O)cH A lithography method for generating a model with different size model components. Or heterogeneous shape, which consists of a process of resisting exposure to a predetermined light model by modified brightness. And eliminating at least one area of resist precedence. By using lithography - visualization solution containing surfactants. Surfactants can promote the solubility of smaller sample components. To be eliminated from the reset Instead of surfactant by the general formula below HO (CH2CH2O) a (CH (CH3) CH2O) b (CH2CH2O) oH, where each a, b, and c is an integer. The surfactant conforms to (A + C) / (A + B + C) <_ 0.3, where A represents the molecular weight of HO (CH2CH2O) a B represents the molecular weight of (CH (CH3) CH2O) b and C represent the molecular weight of (CH2CH2O) cH.
Claims (1)
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TH14929EX true TH14929EX (en) | 1994-11-25 |
TH14929A TH14929A (en) | 1994-11-25 |
TH11904B TH11904B (en) | 2002-02-08 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW200514133A (en) | Exposure method and equipment, as well as component manufacture method | |
DE69726720D1 (en) | DEVICE FOR HYPERPOLARIZATION OF SPIN-POLARIZED PRECIOUS GAS WITH HIGH CAPACITY | |
KR950033695A (en) | Optical integrator and projection exposure apparatus using the same | |
ATE89671T1 (en) | COMBINED BRIGHTFIELD-DARKFIELD RESPONSE ILLUMINATION DEVICE. | |
JPS54111832A (en) | Exposure device | |
Björn et al. | Imaging by delayed light emission (phytoluminography) as a method for detecting damage to the photosynthetic system | |
JPS5459951A (en) | Transmission lighting device for microscopes | |
EP0834772A3 (en) | Exposure apparatus | |
TH14929EX (en) | Lithography process | |
DE69321627T2 (en) | Lithographic process | |
JPS5493974A (en) | Projection-system mask alignment unit | |
JPS52101883A (en) | Illuminator | |
JPS51135529A (en) | Ophthalmofundus photographing device with an anterior eye illumination system | |
MY119984A (en) | Lithography process. | |
JPS5362387A (en) | Illumination device for microscope | |
JPS5743420A (en) | Mask alignment method | |
JPS52139381A (en) | Electron beam exposure apparatus | |
JPS55164304A (en) | Mirror surface check unit | |
JPS5282396A (en) | Printing and inspecting apparatus of bar code | |
JPS57148718A (en) | Illumination system of optical device | |
JPS6437837A (en) | Semiconductor exposure device | |
KR970028856A (en) | Projection Exposure Equipment and Exposure Method | |
KR950009364A (en) | Panel exposure method and apparatus | |
JPS5385446A (en) | Lighting method of optical microscope | |
JPS5646263A (en) | Original lighting device of electronic copying machine |