TH127215B - Continuous stimulation of the electrode structure by means of vacuum deposition technique. - Google Patents

Continuous stimulation of the electrode structure by means of vacuum deposition technique.

Info

Publication number
TH127215B
TH127215B TH1201000912A TH1201000912A TH127215B TH 127215 B TH127215 B TH 127215B TH 1201000912 A TH1201000912 A TH 1201000912A TH 1201000912 A TH1201000912 A TH 1201000912A TH 127215 B TH127215 B TH 127215B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
deposition technique
electrode structure
vacuum deposition
continuous stimulation
vapor deposition
Prior art date
Application number
TH1201000912A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH127215A (en
Inventor
อันโตนิโอ โลเรนโซ กัลล่า อังเดร ฟรานเซสโก เอียโคเพ็ตตี้ ลูเซียโน มาร์เทลลี่ เกียน นิโคล่า รามุมนี่ เอนริโก เออร์เกจ คริสเตียน อันทอซซี่
Original Assignee
อินดัสตรี เดอ นอรา เอสพีเอ
Filing date
Publication date
Application filed by อินดัสตรี เดอ นอรา เอสพีเอ filed Critical อินดัสตรี เดอ นอรา เอสพีเอ
Publication of TH127215B publication Critical patent/TH127215B/en
Publication of TH127215A publication Critical patent/TH127215A/en

Links

Abstract

การประดิษฐ์จะเกี่ยวข้องกับวิธีการของการผลิตอิเล็กโทรดโลหะสำหรับการประยุกต์ใช้ทาง อิเล็กโตรไลท์โดยอาศัยการใช้การตกพอกพูนต่อเนื่องของชั้นของโลหะมีตระกูลบนซับสเทรทโลหะ โดยเทคนิคการตกพอกพูนด้วยไอทางฟิสิกส์ The invention involves a method of manufacturing metal electrodes for medical applications. Electrolytes by means of continuous deposition of noble metal layers on metal substrates By the physics vapor deposition technique

Claims (2)

1. วิธีการสำหรับการผลิตอิเล็กโทรดสำหรับกระบวนการทางอิเล็กโตรไลท์, ที่ประกอบรวมด้วย การตกพอกพูนต่อเนื่องของชั้นกะทัดรัดของโลหะมีตระกูลหรือออกไซด์ของมันบน ซับสเทรทโลหะโดยอาศัยการใช้เทคนิคการตกพอกพูนด้วยไอทางเคมีหรือทางฟิสิกส์1. Methods for the manufacture of electrodes for electrolyte processes, including Continuous deposition of the compact layers of noble metals or their oxides on Metal substrates using chemical or physical vapor deposition techniques. 2. วิธิการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ - การโหลดซับสเทรทโลหะดังกล่าวในชิ้นที่ก่อรูปล่วงหน้าเข้าไปในห้องปรับสภาพของ อุปกรณ์สำหรับการตกพอกพูนด้วยไอทางฟิลิกส์; :2. The method of claim 1 includes the procedure of - loading the said metal substrate in the pre-formed piece into the pretreatment chamber of the A device for vapor deposition via Philips; :
TH1201000912A 2010-09-02 Continuous stimulation of electrode structures by means of vacuum deposition technique. TH127215A (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH127215B true TH127215B (en) 2013-09-20
TH127215A TH127215A (en) 2013-09-20

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2007117998A3 (en) Capacitor electrodes produced with atomic layer deposition for use in implantable medical devices
JP2012146946A5 (en)
EA201391765A1 (en) METHOD FOR DEPOSITING LAYERS ON GLASS SUBSTRATE THROUGH LOW PRESSURE
TW200940750A (en) Manufacturing process of electrodes for electrolysis
WO2012129554A3 (en) Conductive paste composition and semiconductor devices made therewith
WO2011006018A3 (en) Apparatus and method for plasma processing
JP2012033472A5 (en)
JP2012033476A5 (en)
EA201270197A1 (en) ELECTRODE FOR ELECTROLYTIC APPLICATIONS
JP2011238912A5 (en) Method for manufacturing semiconductor device
EP2765593A3 (en) Plasma catalyst chemical reaction apparatus
JP2012517690A5 (en)
FR2962598B1 (en) METHOD FOR IMPLANTING PIEZOELECTRIC MATERIAL
TW201129497A (en) silicon substrate having nanostructures and method for producing the same and application thereof
WO2012110875A8 (en) Method of producing displacement plating precursor
JP2011119246A5 (en) Method of manufacturing light emitting device, and light emitting device
EA201391258A1 (en) ELECTRODE FOR ELECTROLYTIC PROCESSES AND METHOD FOR ITS MANUFACTURE
JP2010103510A5 (en) Method for manufacturing semiconductor device and semiconductor device
JP2013131741A5 (en)
GB2514711A (en) Power semiconductor device and method for manufacturing thereof
WO2015025211A3 (en) Film formation system and film formation method for forming metal film
EP2680114A3 (en) Touch panel and method of manufacturing the same
WO2009059915A3 (en) Gold-containing nickel layer
TW200942646A (en) Manufacturing process of electrodes for electrolysis
WO2011011736A3 (en) Solid-state thin film capacitor