TH127215A - Continuous stimulation of electrode structures by means of vacuum deposition technique. - Google Patents

Continuous stimulation of electrode structures by means of vacuum deposition technique.

Info

Publication number
TH127215A
TH127215A TH1201000912A TH1201000912A TH127215A TH 127215 A TH127215 A TH 127215A TH 1201000912 A TH1201000912 A TH 1201000912A TH 1201000912 A TH1201000912 A TH 1201000912A TH 127215 A TH127215 A TH 127215A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
deposition technique
vacuum deposition
electrode structures
continuous stimulation
vapor deposition
Prior art date
Application number
TH1201000912A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH127215B (en
Inventor
อันทอซซี่
โลเรนโซ อันโตนิโอ
กัลล่า
ฟรานเซสโก อังเดร
เอียโคเพ็ตตี้
ลูเซียโน
มาร์เทลลี่
นิโคล่า เกียน
รามุมนี่
เอนริโก
เออร์เกจ
คริสเตียน
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายบุญมา เตชะวณิช
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายบุญมา เตชะวณิช filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH127215B publication Critical patent/TH127215B/en
Publication of TH127215A publication Critical patent/TH127215A/en

Links

Abstract

DC60 (02/03/55) การประดิษฐ์จะเกี่ยวข้องกับวิธีการของการผลิตอิเล็กโทรดโลหะสำหรับการประยุกต์ใช้ทาง อิเล็กโตรไลท์โดยอาศัยการใช้การตกพอกพูนต่อเนื่องของชั้นของโลหะมีตระกูลบนซับสเทรทโลหะ โดยเทคนิคการตกพอกพูนด้วยไอทางฟิสิกส์ การประดิษฐ์จะเกี่ยวข้องกับวิธีการของการผลิตอิเล็กโทรดโลหะสำหรับการประยุกต์ใช้ทาง อิเล็กโตรไลท์โดยอาศัยการใช้การตกพอกพูนต่อเนื่องของชั้นของโลหะมีตระกูลบนซับสเทรทโลหะ โดยเทคนิคการตกพอกพูนด้วยไอทางฟิสิกส์ DC60 (02/03/55) The invention involves a method of manufacturing metal electrodes for medical applications. Electrolytes by means of continuous deposition of noble metal layers on metal substrates By the physics vapor deposition technique The invention involves a method of manufacturing metal electrodes for medical applications. Electrolytes by means of continuous deposition of noble metal layers on metal substrates By the physics vapor deposition technique

Claims (2)

1. วิธีการสำหรับการผลิตอิเล็กโทรดสำหรับกระบวนการทางอิเล็กโตรไลท์, ที่ประกอบรวมด้วย การตกพอกพูนต่อเนื่องของชั้นกะทัดรัดของโลหะมีตระกูลหรือออกไซด์ของมันบน ซับสเทรทโลหะโดยอาศัยการใช้เทคนิคการตกพอกพูนด้วยไอทางเคมีหรือทางฟิสิกส์1.Methods for producing electrodes for electrolyte processes, including Continuous deposition of the compact layers of noble metals or their oxides on Metal substrates using chemical or physical vapor deposition techniques. 2. วิธิการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ: - การโหลดซับสเทรทโลหะดังกล่าวในชิ้นที่ก่อรูปล่วงหน้าเข้าไปในห้องปรับสภาพของ อุปกรณ์สำหรับการตกพอกพูนด้วยไอทางฟิลิกส์; แท็ก :2. The method of claim 1, which includes the procedure of: - Loading the said metal substrate in the pre-formed piece into the pretreatment chamber of the A device for vapor deposition with Philips; Tags:
TH1201000912A 2010-09-02 Continuous stimulation of electrode structures by means of vacuum deposition technique. TH127215A (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH127215B TH127215B (en) 2013-09-20
TH127215A true TH127215A (en) 2013-09-20

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2007117998A3 (en) Capacitor electrodes produced with atomic layer deposition for use in implantable medical devices
JP2012146946A5 (en)
JP2014045200A5 (en)
FR2885913B1 (en) COMPOSITE ELEMENT COMPRISING A CONDUCTIVE SUBSTRATE AND A NANOSTRUCTURED METAL COATING.
EP2765593A3 (en) Plasma catalyst chemical reaction apparatus
EA201391765A1 (en) METHOD FOR DEPOSITING LAYERS ON GLASS SUBSTRATE THROUGH LOW PRESSURE
EA201270197A1 (en) ELECTRODE FOR ELECTROLYTIC APPLICATIONS
JP2012033472A5 (en)
JP2012517690A5 (en)
TW201129497A (en) silicon substrate having nanostructures and method for producing the same and application thereof
TW200940750A (en) Manufacturing process of electrodes for electrolysis
GB2509851A (en) Organic electronic device and method of manufacture
EP2808916A3 (en) Organic light emitting display device and method of manufacturing the same
JP2011119246A5 (en) Method of manufacturing light emitting device, and light emitting device
WO2010129314A3 (en) Thin film capacitor and method of fabrication thereof
CL2014001716A1 (en) Anode for the generation of oxygen comprising conductive metal substrate and a catalyst layer containing iridium oxide; and its manufacturing process.
WO2016064088A3 (en) Compound for organic electric device, organic electric device using same, and electronic device using same
JP2013131741A5 (en)
WO2015025211A3 (en) Film formation system and film formation method for forming metal film
WO2009093873A3 (en) Organic luminescent device and a production method for the same
JP2010103510A5 (en) Method for manufacturing semiconductor device and semiconductor device
CL2012001300A1 (en) Process for preparing a compound of formula (i) in ionic salt form, comprising the steps of i) hydrogenating a compound of formula (ii) using a metallic catalyst with hydrogen and ii) filtering the catalyst followed by treatment with a solution acid or gas.
EP2680114A3 (en) Touch panel and method of manufacturing the same
WO2009059915A3 (en) Gold-containing nickel layer
WO2011011736A3 (en) Solid-state thin film capacitor