TH127215A - การกระตุ้นต่อเนื่องของโครงสร้างอิเล็กโทรดโดยวิถีทางของการใช้เทคนิคการตกพอกพูนด้วยสุญญากาศ - Google Patents
การกระตุ้นต่อเนื่องของโครงสร้างอิเล็กโทรดโดยวิถีทางของการใช้เทคนิคการตกพอกพูนด้วยสุญญากาศInfo
- Publication number
- TH127215A TH127215A TH1201000912A TH1201000912A TH127215A TH 127215 A TH127215 A TH 127215A TH 1201000912 A TH1201000912 A TH 1201000912A TH 1201000912 A TH1201000912 A TH 1201000912A TH 127215 A TH127215 A TH 127215A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- deposition technique
- vacuum deposition
- electrode structures
- continuous stimulation
- vapor deposition
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 6
- 230000000638 stimulation Effects 0.000 title 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract 3
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 2
Abstract
DC60 (02/03/55) การประดิษฐ์จะเกี่ยวข้องกับวิธีการของการผลิตอิเล็กโทรดโลหะสำหรับการประยุกต์ใช้ทาง อิเล็กโตรไลท์โดยอาศัยการใช้การตกพอกพูนต่อเนื่องของชั้นของโลหะมีตระกูลบนซับสเทรทโลหะ โดยเทคนิคการตกพอกพูนด้วยไอทางฟิสิกส์ การประดิษฐ์จะเกี่ยวข้องกับวิธีการของการผลิตอิเล็กโทรดโลหะสำหรับการประยุกต์ใช้ทาง อิเล็กโตรไลท์โดยอาศัยการใช้การตกพอกพูนต่อเนื่องของชั้นของโลหะมีตระกูลบนซับสเทรทโลหะ โดยเทคนิคการตกพอกพูนด้วยไอทางฟิสิกส์
Claims (2)
1. วิธีการสำหรับการผลิตอิเล็กโทรดสำหรับกระบวนการทางอิเล็กโตรไลท์, ที่ประกอบรวมด้วย การตกพอกพูนต่อเนื่องของชั้นกะทัดรัดของโลหะมีตระกูลหรือออกไซด์ของมันบน ซับสเทรทโลหะโดยอาศัยการใช้เทคนิคการตกพอกพูนด้วยไอทางเคมีหรือทางฟิสิกส์
2. วิธิการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ: - การโหลดซับสเทรทโลหะดังกล่าวในชิ้นที่ก่อรูปล่วงหน้าเข้าไปในห้องปรับสภาพของ อุปกรณ์สำหรับการตกพอกพูนด้วยไอทางฟิลิกส์; แท็ก :
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH127215A true TH127215A (th) | 2013-09-20 |
| TH127215B TH127215B (th) | 2013-09-20 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2007117998A3 (en) | Capacitor electrodes produced with atomic layer deposition for use in implantable medical devices | |
| MY172449A (en) | Method for producing a substrate coated with a stack including a conductive transparent oxide film | |
| JP2012146946A5 (th) | ||
| EP2765593A3 (en) | Plasma catalyst chemical reaction apparatus | |
| EA201270197A1 (ru) | Электрод для электролитических применений | |
| EA201391765A1 (ru) | Способ осаждения слоев на стеклянную подложку посредством пхо низкого давления | |
| JP2012033472A5 (th) | ||
| JP2012517690A5 (th) | ||
| GB201305722D0 (en) | Microbial fuel cell | |
| TW201129497A (en) | silicon substrate having nanostructures and method for producing the same and application thereof | |
| GB2509851A (en) | Organic electronic device and method of manufacture | |
| JP2012142543A5 (th) | ||
| WO2012110875A8 (en) | Method of producing displacement plating precursor | |
| JP2011119246A5 (ja) | 発光装置の作製方法、および発光装置 | |
| WO2010129314A3 (en) | Thin film capacitor and method of fabrication thereof | |
| CL2014001716A1 (es) | Anodo para la generacion de oxigeno que comprende sustrato metalico conductor y una capa de catalizador que contiene oxido de iridio; y procedimiento de fabricacion del mismo. | |
| WO2016064088A3 (ko) | 유기전기 소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치 | |
| JP2013131741A5 (th) | ||
| WO2015025211A3 (en) | Film formation system and film formation method for forming metal film | |
| JP2010103510A5 (ja) | 半導体装置の作製方法及び半導体装置 | |
| CL2012001300A1 (es) | Proceso de preparación de un compuesto de fórmula (i) en forma de sal iónica, que comprende las etapas de i) hidrogenar un compuesto de fórmula (ii) usando un catalizador metálico con hidrógeno y ii) filtrar el catalizador seguido de tratamiento con una solución ácida o gas. | |
| EP2680114A3 (en) | Touch panel and method of manufacturing the same | |
| WO2011011736A3 (en) | Solid-state thin film capacitor | |
| TH127215A (th) | การกระตุ้นต่อเนื่องของโครงสร้างอิเล็กโทรดโดยวิถีทางของการใช้เทคนิคการตกพอกพูนด้วยสุญญากาศ | |
| RU2013132451A (ru) | Электроизвлечение золота и серебра из выщелачивающих растворов посредством одновременного осаждения на катоде и аноде |