TH118924A - - Google Patents
Info
- Publication number
- TH118924A TH118924A TH1001001040A TH1001001040A TH118924A TH 118924 A TH118924 A TH 118924A TH 1001001040 A TH1001001040 A TH 1001001040A TH 1001001040 A TH1001001040 A TH 1001001040A TH 118924 A TH118924 A TH 118924A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- percent
- mass
- glass
- cleaning
- polishing process
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract 47
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract 34
- OFJATJUUUCAKMK-UHFFFAOYSA-N Cerium(IV) oxide Chemical compound [O-2]=[Ce+4]=[O-2] OFJATJUUUCAKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 24
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 24
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 24
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 claims abstract 23
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 16
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 16
- 238000005296 abrasive Methods 0.000 claims abstract 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract 14
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract 14
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims abstract 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract 12
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N AI2O3 Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 10
- 239000005358 alkali aluminosilicate glass Substances 0.000 claims abstract 8
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims abstract 8
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims abstract 8
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims abstract 8
- 238000007518 final polishing process Methods 0.000 claims abstract 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract 8
- 229910052904 quartz Inorganic materials 0.000 claims abstract 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract 8
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract 8
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims abstract 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 8
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims abstract 8
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract 6
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract 4
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims abstract 4
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract 4
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims abstract 4
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 claims abstract 2
- 229910001491 alkali aluminosilicate Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
Abstract
DC60 (02/06/59) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวิธีการเพื่อการผลิตซับสเทรทแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล วิธีการนี้รวมถึงขั้นตอนการขัดผิวซึ่งเป็นการขัดผิวแผ่นแก้วกลมซึ่งทำขึ้นจากแก้วแอลคาไลอะลูมิโน ซิลิเกต; และขั้นตอนการขัดเงาด้วยซีเรียมออกไซด์ในลำดับต่อมาซึ่งเป็นการขัดเงาแผ่นแก้วกลมด้วย สเลอร์รีซึ่งมีสารขัดถูซีเรียมออกไซด์ โดยที่ผลต่าง (SiO2-AI2O3) ที่ได้มาโดยการหักลบปริมาณ AI2O3 จากปริมาณ SiO2 ในแก้วแอลคาไลอะลูมิโนซิลิเกตคือ 62 เปอร์เซ็นต์โดยโมลหรือน้อยกว่า และโดยที่ วิธีการนี้รวมต่อไปอีกถึง ต่อจากขั้นตอนการขัดเงาด้วยซีเรียมออกไซด์, ขั้นตอนการทำความสะอาด ซึ่งเป็นการทำความสะอาดแผ่นแก้วกลมด้วยของเหลวทำความสะอาดซึ่งมีกรดซัลฟิวริกที่มีความ เข้มข้น 20 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือมากกว่า และ 80 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือน้อยกว่า และไฮโดรเจน เปอร์ออกไซด์ที่มีความเข้มข้น 1 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือมากกว่า และ 10 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือ น้อยกว่าที่อุณหภูมิของเหลว 50 องศาเซลเซียสหรือสูงกว่า และ 100 องศาเซลเซียสหรือต่ำกว่า และ ภายหลังขั้นตอนการทำความสะอาดนี้ ขั้นตอนการขัดเงาสุดท้ายซึ่งเป็นการขัดเงาพื้นผิวหลักของ แผ่นแก้วกลมด้วยสเลอร์รีซึ่งมีสารขัดถูซิลิกาที่เป็นคอลลอยด์ แก้ไข บทสรุปการประดิษฐ์ 2/6/2559 การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวิธีการเพื่อการผลิตซับสเทรทแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล วิธีการนี้รวมถึงขั้นตอนการขัดผิวซึ่งเป็นการขัดผิวแผ่นแก้วกลมซึ่งทำขึ้นจากแก้วแอลคาไลอะลูมิโน ซิลเกต; และขั้นตอนการขัดเงาด้วยซีเรียมออกไซด์ในลำดับต่อมาซึ่งเป็นการงัดเงาแผ่นแก้วกลมด้วย สเลอร์รีซึ่งมีสารขัดถูซีเรียมออกไซด์ โดยที่ผลต่าง (SiO2-A12O3)ที่ได้มาโดยการหักลบปริมาณ A12O3 จากปริมาณ SiO2 ในแก้วแอลคาไลอะลูมิโนซิลิเกตคือ 62 เปอร์เซ็นต์โดยโมลหรือน้อยกว่า และโดยที่ วิธีการนี้รวมต่อไปอีกถึง ต่อจากขั้นตอนการขัดเงาด้วยซีเรียมออกไซด์, ขั้นตอนการทำความสะอาด ซึ่งเป็นการทำความสะอาดแผ่นแก้วกลมด้วยของเหลวทำความสะอาดซึ่งมีกรดซัลฟิวริกที่มีความ เข้มข้น 20 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือมากกว่า และ 80 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือน้อยกว่า และไฮโดรเจน เปอร์ออกไซด์ที่มีความเข้มข้น 1 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือมากกว่า และ 10 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือ น้อยกว่าที่อุณหภูมิของเหลว 50 องศาเซลเซียสหรือสูงกว่า และ 100 องศาเซลเซียสหรือต่ำกว่า และ ภายหลังขั้นตอนการทำความสะอาดนี้ ขั้นตอนการขัดเงาสุดท้ายซึ่งเป็นการขัดเงาพื้นผิวหลักของ แผ่นแก้วกลมด้วยสเลอร์รีซึ่งมีสารขัดถูซิลิกาที่เป็นคอลลอยด์ --------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- แก้ไข 15/2/59 การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวิธีการเพื่อการผลิตซับสเทรทแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล วิธีการนี้รวมถึงขั้นตอนการขัดผิวซึ่งเป็นการขัดผิวแผ่นแก้วกลมซึ่งทำขึ้นจากแก้วแอลคาไล อะลูมิโนซิลิเกต; และขั้นตอนการขัดเงาด้วยซีเรียมออกไซด์ในลำดับต่อมาซึ่งเป็นการขัดเงาแผ่นแก้ว กลมด้วยสเลอร์รีซึ่งมีสารขัดถูซีเรียมออกไซด์ โดยที่ผลต่าง (SiO2-Al2O3) ที่ได้มาโดยการหักลบ ปริมาณ A12O3 จากปริมาณ SiO2 ในแก้วแอลคาไลอะลูมิโนซิลิเกตคือ 62 เปอร์เซ็นต์โดยโมล หรือน้อยกว่า และโดยที่วิธีการนี้รวมต่อไปอีกถึง ต่อจากขั้นตอนการขัดเงาด้วยซีเรียมออกไซด์, ขั้นตอนการทำความสะอาดซึ่งเป็นการทำความสะอาดแผ่นแก้วกลมด้วยของเหลวทำความสะอาด ซึ่งมีกรดซัลฟิวริกที่มีความเข้มข้น 20 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือมากกว่า และ 80 เปอร์เซ็นต์โดยมวล หรือน้อยกว่า และไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ที่มีความเข้มข้น 1 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือมากกว่า และ 10 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือน้อยกว่าที่อุณหภูมิของเหลวเท่ากับ 50 องศาเซลเซียสหรือสูงกว่า และ 100 องศาเซลเซียสหรือตํ่ากว่า และภายหลังขั้นตอนการทำความสะอาดนี้ ขั้นตอนการขัดเงาสุดท้าย ซึ่งเป็นการขัดเงาพื้นผิวหลักของแผ่นแก้วกลมด้วยสเลอร์รีซึ่งมีสารขัดถูซิลิกาชนิดคอลลอยด์ ---------------------------------------------------------------------------- การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวิธีการเพื่อการผลิตซับสเทรทแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล วิธีการนี้ประกอบรวมด้วยขั้นตอนการขัดผิวซึ่งเป็นการขัดผิวแผ่นแก้วกลมซึ่งทำขึ้นจากแก้ว แอลคาไลอะลูมิโนซิลิเกต; และขั้นตอนการขัดเงาด้วยซีเรียมออกไซด์ในลำดับต่อมาซึ่งเป็นการขัดเงา แผ่นแก้วกลมด้วยสเลอร์รีซึ่งมีสารขัดถูซีเรียมออกไซด์ โดยที่ผลต่าง (SiO2-Al2O3) ที่ได้มาโดยการ หักลบปริมาณ AI2O3 จากปริมาณ SiO2 ในแก้วแอลคาไลอะลูมิโนซิลิเกตคือ 62 เปอร์เซ็นต์โดยโมล หรือน้อยกว่า และโดยที่วิธีการนี้ยังรวมถึงขั้นตอนการขัดเงาด้วยซีเรียมออกไซด์ในลำดับต่อมา, ขั้นตอนการทำความสะอาดซึ่งเป็นการทำความสะอาดแผ่นแก้วกลมด้วยของเหลวทำความสะอาดซึ่งมี ความเข้มข้นของกรดซัลฟิวริก 20 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือมากกว่าและ 80 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือ น้อยกว่า และความเข้มข้นไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ 1 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือมากกว่า และ 10 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือน้อยกว่าที่อุณหภูมิของเหลวเท่ากับ 50 องศาเซลเซียสหรือสูงกว่าและ 100 องศาเซลเซียสหรือต่ำกว่า และภายหลังขั้นตอนการทำความสะอาดนี้ ขั้นตอนการขัดเงาสุดท้ายซึ่ง เป็นการขัดเงาพื้นผิวหลักของแผ่นแก้วกลมด้วยสเลอร์รีซึ่งมีสารขัดถูซิลิกาชนิดคอลลอยด์
Claims (1)
- : DC60 (02/06/59) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวิธีการเพื่อการผลิตซับสเทรทแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล วิธีการนี้รวมถึงขั้นตอนการขัดผิวซึ่งเป็นการขัดผิวแผ่นแก้วกลมซึ่งทำขึ้นจากแก้วแอลคาไลอะลูมิโน ซิลิเกต; และขั้นตอนการขัดเงาด้วยซีเรียมออกไซด์ในลำดับต่อมาซึ่งเป็นการขัดเงาแผ่นแก้วกลมด้วย สเลอร์รีซึ่งมีสารขัดถูซีเรียมออกไซด์ โดยที่ผลต่าง (SiO2-AI2O3) ที่ได้มาโดยการหักลบปริมาณ AI2O3 จากปริมาณ SiO2 ในแก้วแอลคาไลอะลูมิโนซิลิเกตคือ 62 เปอร์เซ็นต์โดยโมลหรือน้อยกว่า และโดยที่ วิธีการนี้รวมต่อไปอีกถึง ต่อจากขั้นตอนการขัดเงาด้วยซีเรียมออกไซด์, ขั้นตอนการทำความสะอาด ซึ่งเป็นการทำความสะอาดแผ่นแก้วกลมด้วยของเหลวทำความสะอาดซึ่งมีกรดซัลฟิวริกที่มีความ เข้มข้น 20 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือมากกว่า และ 80 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือน้อยกว่า และไฮโดรเจน เปอร์ออกไซด์ที่มีความเข้มข้น 1 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือมากกว่า และ 10 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือ น้อยกว่าที่อุณหภูมิของเหลว 50 องศาเซลเซียสหรือสูงกว่า และ 100 องศาเซลเซียสหรือต่ำกว่า และ ภายหลังขั้นตอนการทำความสะอาดนี้ ขั้นตอนการขัดเงาสุดท้ายซึ่งเป็นการขัดเงาพื้นผิวหลักของ แผ่นแก้วกลมด้วยสเลอร์รีซึ่งมีสารขัดถูซิลิกาที่เป็นคอลลอยด์ แก้ไข บทสรุปการประดิษฐ์ 2/6/2559 การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวิธีการเพื่อการผลิตซับสเทรทแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล วิธีการนี้รวมถึงขั้นตอนการขัดผิวซึ่งเป็นการขัดผิวแผ่นแก้วกลมซึ่งทำขึ้นจากแก้วแอลคาไลอะลูมิโน ซิลเกต; และขั้นตอนการขัดเงาด้วยซีเรียมออกไซด์ในลำดับต่อมาซึ่งเป็นการงัดเงาแผ่นแก้วกลมด้วย สเลอร์รีซึ่งมีสารขัดถูซีเรียมออกไซด์ โดยที่ผลต่าง (SiO2-A12O3)ที่ได้มาโดยการหักลบปริมาณ A12O3 จากปริมาณ SiO2 ในแก้วแอลคาไลอะลูมิโนซิลิเกตคือ 62 เปอร์เซ็นต์โดยโมลหรือน้อยกว่า และโดยที่ วิธีการนี้รวมต่อไปอีกถึง ต่อจากขั้นตอนการขัดเงาด้วยซีเรียมออกไซด์, ขั้นตอนการทำความสะอาด ซึ่งเป็นการทำความสะอาดแผ่นแก้วกลมด้วยของเหลวทำความสะอาดซึ่งมีกรดซัลฟิวริกที่มีความ เข้มข้น 20 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือมากกว่า และ 80 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือน้อยกว่า และไฮโดรเจน เปอร์ออกไซด์ที่มีความเข้มข้น 1 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือมากกว่า และ 10 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือ น้อยกว่าที่อุณหภูมิของเหลว 50 องศาเซลเซียสหรือสูงกว่า และ 100 องศาเซลเซียสหรือต่ำกว่า และ ภายหลังขั้นตอนการทำความสะอาดนี้ ขั้นตอนการขัดเงาสุดท้ายซึ่งเป็นการขัดเงาพื้นผิวหลักของ แผ่นแก้วกลมด้วยสเลอร์รีซึ่งมีสารขัดถูซิลิกาที่เป็นคอลลอยด์ --------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- แก้ไข 15/2/59 การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวิธีการเพื่อการผลิตซับสเทรทแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล วิธีการนี้รวมถึงขั้นตอนการขัดผิวซึ่งเป็นการขัดผิวแผ่นแก้วกลมซึ่งทำขึ้นจากแก้วแอลคาไล อะลูมิโนซิลิเกต; และขั้นตอนการขัดเงาด้วยซีเรียมออกไซด์ในลำดับต่อมาซึ่งเป็นการขัดเงาแผ่นแก้ว กลมด้วยสเลอร์รีซึ่งมีสารขัดถูซีเรียมออกไซด์ โดยที่ผลต่าง (SiO2-Al2O3) ที่ได้มาโดยการหักลบ ปริมาณ A12O3 จากปริมาณ SiO2 ในแก้วแอลคาไลอะลูมิโนซิลิเกตคือ 62 เปอร์เซ็นต์โดยโมล หรือน้อยกว่า และโดยที่วิธีการนี้รวมต่อไปอีกถึง ต่อจากขั้นตอนการขัดเงาด้วยซีเรียมออกไซด์, ขั้นตอนการทำความสะอาดซึ่งเป็นการทำความสะอาดแผ่นแก้วกลมด้วยของเหลวทำความสะอาด ซึ่งมีกรดซัลฟิวริกที่มีความเข้มข้น 20 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือมากกว่า และ 80 เปอร์เซ็นต์โดยมวล หรือน้อยกว่า และไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ที่มีความเข้มข้น 1 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือมากกว่า และ 10 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือน้อยกว่าที่อุณหภูมิของเหลวเท่ากับ 50 องศาเซลเซียสหรือสูงกว่า และ 100 องศาเซลเซียสหรือตํ่ากว่า และภายหลังขั้นตอนการทำความสะอาดนี้ ขั้นตอนการขัดเงาสุดท้าย ซึ่งเป็นการขัดเงาพื้นผิวหลักของแผ่นแก้วกลมด้วยสเลอร์รีซึ่งมีสารขัดถูซิลิกาชนิดคอลลอยด์ ---------------------------------------------------------------------------- การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวิธีการเพื่อการผลิตซับสเทรทแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล วิธีการนี้ประกอบรวมด้วยขั้นตอนการขัดผิวซึ่งเป็นการขัดผิวแผ่นแก้วกลมซึ่งทำขึ้นจากแก้ว แอลคาไลอะลูมิโนซิลิเกต; และขั้นตอนการขัดเงาด้วยซีเรียมออกไซด์ในลำดับต่อมาซึ่งเป็นการขัดเงา แผ่นแก้วกลมด้วยสเลอร์รีซึ่งมีสารขัดถูซีเรียมออกไซด์ โดยที่ผลต่าง (SiO2-Al2O3) ที่ได้มาโดยการ หักลบปริมาณ AI2O3 จากปริมาณ SiO2 ในแก้วแอลคาไลอะลูมิโนซิลิเกตคือ 62 เปอร์เซ็นต์โดยโมล หรือน้อยกว่า และโดยที่วิธีการนี้ยังรวมถึงขั้นตอนการขัดเงาด้วยซีเรียมออกไซด์ในลำดับต่อมา, ขั้นตอนการทำความสะอาดซึ่งเป็นการทำความสะอาดแผ่นแก้วกลมด้วยของเหลวทำความสะอาดซึ่งมี ความเข้มข้นของกรดซัลฟิวริก 20 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือมากกว่าและ 80 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือ น้อยกว่า และความเข้มข้นไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ 1 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือมากกว่า และ 10 เปอร์เซ็นต์โดยมวลหรือน้อยกว่าที่อุณหภูมิของเหลวเท่ากับ 50 องศาเซลเซียสหรือสูงกว่าและ 100 องศาเซลเซียสหรือต่ำกว่า และภายหลังขั้นตอนการทำความสะอาดนี้ ขั้นตอนการขัดเงาสุดท้ายซึ่ง เป็นการขัดเงาพื้นผิวหลักของแผ่นแก้วกลมด้วยสเลอร์รีซึ่งมีสารขัดถูซิลิกาชนิดคอลลอยด์ข้อถือสิทธิ์ (ข้อที่หนึ่ง) ซึ่งจะปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา : แท็ก :
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH118924A true TH118924A (th) | 2012-12-28 |
| TH118924B TH118924B (th) | 2012-12-28 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MY157677A (en) | Glass substrate for information recording medium and method for manufacturing the same, and magnetic recording medium | |
| CN102992600B (zh) | 离子交换玻璃制品的制造方法 | |
| CN102812514B (zh) | 磁盘用玻璃基板的制造方法 | |
| SG160384A1 (en) | Colloidal silica based chemical mechanical polishing slurry | |
| JP4667848B2 (ja) | ガラス基板用研磨液組成物 | |
| MY166876A (en) | Method for manufacturing magnetic disc substrate | |
| MY151435A (en) | Polishing slurry, production method of glass substrate for information recording medium and production method of information recording medium | |
| CN106057647A (zh) | 一种蓝宝石加工方法 | |
| JP2012516911A5 (th) | ||
| TH118924A (th) | ||
| TH118924B (th) | ซับสเทรทแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูลและวิธีการสำหรับการผลิตสิ่งนั้น, และตัวกลางบันทึกแม่เหล็ก | |
| CN106863025A (zh) | 一种2吋、4吋蓝宝石衬底背面缺陷修复加工方法 | |
| MY169261A (en) | Method for manufacturing magnetic-disk glass substrate and method for manufacturing magnetic disk | |
| CN103144199A (zh) | 玉石的加工工艺 | |
| JP2022096221A5 (ja) | 炭化珪素基板の製造方法、炭化珪素基板群、炭化珪素エピタキシャル基板群および炭化珪素基板 | |
| JP2006095675A (ja) | 磁気ディスク用基板および磁気ディスクの製造方法 | |
| JP6480611B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
| JP6392610B2 (ja) | 磁気ディスク用基板の製造方法 | |
| JP5306758B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
| JPWO2015046603A1 (ja) | シリカ砥粒、シリカ砥粒の製造方法および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
| WO2019099161A3 (en) | Composition and method for polishing memory hard disks exhibiting reduced surface scratching | |
| TH137816A (th) | วิธีการผลิตซับสเตรทกระจกสำหรับสื่อบันทึกข้อมูลแม่เหล็ก | |
| JP2006099942A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法および装置 | |
| MY186390A (en) | Method for polishing glass substrate, polishing liquid, method for manufacturing glass substrate, method for manufacturing magnetic-disk glass substrate, and method for manufacturing magnetic disk | |
| JP5105892B2 (ja) | カリウム含有シリカ系ゾルの製造方法 |